公开(公告)号：CN108136722A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201580083460.8

申请日：2015-09-30

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 渡部和仁 ,  木村忠广 ,  佐藤真弓 ,  渡边匠

IPC: B32B7/02 ,  B32B27/18 ,  B32B27/30 ,  C08J7/04

CPC classification number: G06F3/044 ,  B32B7/02 ,  B32B27/18 ,  B32B27/20 ,  B32B27/30 ,  B32B27/308 ,  B32B2307/418 ,  B32B2457/208 ,  C08J7/045 ,  C08J2467/00 ,  G06F2203/04103 ,  G06F2203/04107

Abstract: 本发明提供一种转印型感光性折射率调整膜，其具备：支撑膜；设置在该支撑膜上的感光性树脂层；以及设置在该感光性树脂层上且含有氧化锆及氧化锡的高折射率层。

公开(公告)号：CN106662818A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201480080331.9

申请日：2014-07-02

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 佐藤真弓 ,  向郁夫 ,  木村忠广 ,  笹原直树 ,  安部攻治 ,  高桥日出男

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/11 ,  B32B2037/243 ,  C08F220/02 ,  C08F220/18 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明提供一种转印型感光性折射率调整膜，其具有：支撑膜；设置于该支撑膜上的感光性树脂层；和设置于该感光性树脂层上的高折射率层。通过使用该转印型感光性折射率调整膜来形成折射率调整图案，能够简便地形成可使透明电极的图案可见现象防止效果、画面的透射率下降防止效果以及传感器金属配线的保护效果得以兼顾的固化膜。

公开(公告)号：CN103342986B

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201310241746.7

申请日：2009-12-10

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 佐藤英一 ,  太田宗宏 ,  茅根环司 ,  野部茂 ,  榎本和宏 ,  木村忠广 ,  深泽正人 ,  羽广昌信 ,  星阳介

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/04 ,  H01L21/3105

CPC classification number: H01L21/31053 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明涉及一种研磨液，其为含有研磨粒、第1添加剂和水的CMP用研磨液，所述第1添加剂为4－吡喃酮系化合物，该4－吡喃酮系化合物为下述通式（1）所表示的化合物，式中，X11、X12和X13各自独立地为氢原子或1价的取代基。

公开(公告)号：CN107850846A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201580078953.2

申请日：2015-02-20

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 佐藤真弓 ,  木村忠广 ,  吉田英树 ,  安部攻治 ,  渡边匠

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/004 ,  G06F3/041

Abstract: 本发明提供一种转印型感光性折射率调整膜，其具备：支撑膜、设置于该支撑膜上的感光性树脂层、和设置于该感光性树脂层上的高折射率层，所述感光性树脂层和所述高折射率层主要由有机物构成。

公开(公告)号：CN107531031A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201580079850.8

申请日：2015-05-11

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 佐藤真弓 ,  木村忠广 ,  渡部和仁 ,  渡边匠

IPC: B32B27/18 ,  B32B7/02

CPC classification number: G03F7/033 ,  B32B7/02 ,  B32B27/08 ,  B32B27/18 ,  B32B27/20 ,  B32B37/26 ,  B32B38/10 ,  B32B2307/418 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/20 ,  G06F3/044 ,  H05K3/287

Abstract: 本发明的转印型感光性折射率调整膜具备支撑膜、设置在该支撑膜上的感光性树脂层和设置在该感光性树脂层上的高折射率层，感光性树脂层含有光聚合性化合物和光聚合引发剂，光聚合引发剂含有肟酯化合物或氧化膦化合物。

公开(公告)号：CN107474799A

公开(公告)日：2017-12-15

申请号：CN201710791020.9

申请日：2011-01-20

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  秋元启孝 ,  成田武宪 ,  木村忠广 ,  龙崎大介

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明涉及的悬浮液，含有磨粒和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，对于波长500nm的光有50％/cm以上的光透过率。本发明涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，对于波长500nm的光有50％/cm以上的光透过率。

公开(公告)号：CN102666014B

公开(公告)日：2017-10-31

申请号：CN201180005050.3

申请日：2011-01-20

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  秋元启孝 ,  成田武宪 ,  木村忠广 ,  龙崎大介

IPC: B24B37/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明涉及的悬浮液，含有磨粒和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。本发明涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。

公开(公告)号：CN103333661B

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201310241712.8

申请日：2009-12-10

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 佐藤英一 ,  太田宗宏 ,  茅根环司 ,  野部茂 ,  榎本和宏 ,  木村忠广 ,  深泽正人 ,  羽广昌信 ,  星阳介

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/04 ,  H01L21/3105

CPC classification number: H01L21/31053 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明涉及一种研磨液，其为含有研磨粒、第1添加剂、第2添加剂和水的CMP用研磨液，所述第1添加剂为4－吡喃酮系化合物，该4－吡喃酮系化合物为下述通式（1）所表示的化合物，式中，X11、X12和X13各自独立地为氢原子或1价的取代基，其中，所述第2添加剂为饱和单羧酸。

公开(公告)号：CN102232242B

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN200980148395.7

申请日：2009-12-10

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 佐藤英一 ,  太田宗宏 ,  茅根环司 ,  野部茂 ,  榎本和宏 ,  木村忠广 ,  深泽正人 ,  羽广昌信 ,  星阳介

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: H01L21/31053 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明的CMP研磨液，含有研磨粒、添加剂和水，并且配合了满足规定条件的有机化合物作为添加剂。本发明的研磨方法，以表面上具有氧化硅膜的基板作为对象，并且具有一边向氧化硅膜和研磨垫之间供给上述CMP研磨液，一边通过研磨垫进行氧化硅膜的研磨的工序。