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公开(公告)号:CN101864530A
公开(公告)日:2010-10-20
申请号:CN201010162677.7
申请日:2010-04-16
CPC classification number: C22C9/00 , B22D21/025 , C22F1/08 , H01B1/026
Abstract: 本发明提供生产率高,导电率、软化温度、表面品质优秀的低铜合金材料及其制造方法。该低铜合金材料,是在包含不可避免的不纯物的纯铜中包含2~12mass ppm的硫、2~30mass ppm的氧和4~55mass ppm的Ti的低铜合金材料。
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公开(公告)号:CN101599312B
公开(公告)日:2012-07-25
申请号:CN200910134118.2
申请日:2009-04-24
IPC: H01B1/02 , H01B5/02 , H01B3/30 , H01B7/00 , H01B13/008
CPC classification number: H01B1/026 , H01B3/306 , Y10T428/294
Abstract: 本发明提供了一种电磁线用铜线,在电磁线用铜线上被覆树脂并烘焙来制作电磁线时,能够抑制树脂的浮泡等缺陷。在从铜及铜合金熔融体进行连续地向上牵引而制造的电磁线用铜线(1)中,在该电磁线用铜线(1)的表层(2)上形成的柱状晶体组织(3)的平均晶体粒径为200~300μm。
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公开(公告)号:CN101794640A
公开(公告)日:2010-08-04
申请号:CN200910169043.1
申请日:2009-09-14
CPC classification number: H01B1/026 , H01B3/306 , Y10T428/294
Abstract: 本发明提供一种磁导线用铜线及磁导线用铜线的制造方法,能够得到切削性优越、表层剥离加工容易且表层剥离加工时不易诱发夹层等缺陷的磁导线用铜线(粗轧线),同时,通过有效地将所述磁导线用铜线(粗轧线)进行表层剥离加工,能够得到残存于其表面的缺陷少、形成绝缘涂层时在绝缘涂层中很少产生气泡等缺陷的高品质的磁导线用铜线。根据磁导线用铜线的制造方法,通过上引连铸法(up cast法),将铜及铜合金的熔融金属在1100~1200℃的温度下开始铸造,按4~5m/min的铸造速度进行铸造,制造构成其表层(2)的柱状晶组织(3)的平均粒径为200~300μm的铜及铜合金的母线(粗轧线)。
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公开(公告)号:CN102453813A
公开(公告)日:2012-05-16
申请号:CN201110327736.6
申请日:2011-10-20
CPC classification number: C22C9/00 , B23K31/00 , B32B15/20 , C22C1/02 , C22C1/1036 , C22F1/00 , C22F1/08 , Y10T428/1266 , Y10T428/12667 , Y10T428/12882 , Y10T428/12903 , Y10T428/1291
Abstract: 本发明的课题是可以提供生产性高、电导率、软化温度、表面品质优异的焊接部件及其制造方法,此外,本发明提供即使在铜合金中包含比OFC多的量的氧,在熔融接合时也不产生由水蒸气引起的气孔的TIG焊接性优异的焊接部件及其制造方法。本发明涉及的焊接部件是将金属材料彼此焊接而形成的焊接部件,上述金属材料的至少一方为在包含不可避免的杂质的纯铜中包含超过2质量ppm的氧、选自由Mg、Zr、Nb、Fe、Si、Al、Ca、V、Ni、Mn、Ti和Cr所构成的组中的添加元素的金属材料。
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公开(公告)号:CN101599312A
公开(公告)日:2009-12-09
申请号:CN200910134118.2
申请日:2009-04-24
IPC: H01B1/02 , H01B5/02 , H01B3/30 , H01B7/00 , H01B13/008
CPC classification number: H01B1/026 , H01B3/306 , Y10T428/294
Abstract: 本发明提供了一种电磁线用铜线,在电磁线用铜线上被覆树脂并烘焙来制作电磁线时,能够抑制树脂的浮泡等缺陷。在从铜及铜合金熔融体进行连续地向上牵引而制造的电磁线用铜线(1)中,在该电磁线用铜线(1)的表层(2)上形成的柱状晶体组织(3)的平均晶体粒径为200~300μm。
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公开(公告)号:CN101864530B
公开(公告)日:2013-11-13
申请号:CN201010162677.7
申请日:2010-04-16
CPC classification number: C22C9/00 , B22D21/025 , C22F1/08 , H01B1/026
Abstract: 本发明提供生产率高,导电率、软化温度、表面品质优秀的低铜合金材料及其制造方法。该低铜合金材料,是在包含不可避免的不纯物的纯铜中包含2~12mass ppm的硫、2~30mass ppm的氧和4~55mass ppm的Ti的低铜合金材料。
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公开(公告)号:CN103225026A
公开(公告)日:2013-07-31
申请号:CN201310156897.2
申请日:2010-04-16
CPC classification number: C22C9/00 , B22D21/025 , C22F1/08 , H01B1/026
Abstract: 本发明提供生产率高,导电率、软化温度、表面品质优秀的低铜合金材料及其制造方法。该低铜合金材料,是在包含不可避免的不纯物的纯铜中包含2~12mass ppm的硫、2~30mass ppm的氧和4~55mass ppm的Ti的低铜合金材料。
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