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公开(公告)号:CN1896039A
公开(公告)日:2007-01-17
申请号:CN200610100399.6
申请日:2003-08-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C08F36/20 , C08F36/16 , C08F214/18 , C08F2/60
Abstract: 本发明提供了含氟化合物,其特征在于,由式(3)表示,CF2=CFCF2C(CF3)(OR9)-CH2-CR10=CH2(3)式中,R9表示氢原子、可具有醚系氧原子或环状脂肪族烃基的碳原子数小于等于10的烷基或碳原子数小于等于6的烷氧基羰基;R10表示环状脂肪族烃基。
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公开(公告)号:CN1286867C
公开(公告)日:2006-11-29
申请号:CN03819683.2
申请日:2003-08-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C08F36/20 , C08F36/16 , C08F214/18 , C08F2/60
Abstract: 本发明提供了官能团浓度高、可获得充分的官能团特性、且Tg不会下降的含氟聚合物。该聚合物是具有通过式(1)CFR1=CR2-Q-CR3=CHR4-(1)表示的含官能团的含氟二烯的环化聚合而形成的单体单元的含氟聚合物。式中,R1~R4互相独立,表示氢原子、氟原子、碳原子数小于等于8的烷基或环状脂肪族烃基,其中至少1个为环状脂肪族烃基,烷基及环状脂肪族烃基中的氢原子可被氟原子、烷基或氟烷基取代;Q表示2价有机基团,该基团是具有通过酸可显现酸性基的嵌段化酸性基或可转变为该嵌段化酸性基的基团的有机基团。
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公开(公告)号:CN1711504A
公开(公告)日:2005-12-21
申请号:CN200380102724.7
申请日:2003-11-06
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027 , C08F16/02 , C08F16/24 , C08F8/02
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F14/18 , C08F36/16 , G03C1/492 , G03F7/0046 , G03F7/0392
Abstract: 提供抗蚀组合物,该组合物易形成抗蚀图案,对F2激基缔合物(excimer)激光等真空紫外线透明性、干蚀刻性能优良,且感光度、析像度、平坦性、耐热性等也良好。该抗蚀组合物的特征在于包括含氟聚合物(A)、受光照射产生酸的产酸化合物(B)以及有机溶剂(C),该含氟聚合物(A)含有一个被保护基保护的酸性基,该保护基含有环烷基、有一个或多个环烷基的有机基、双环烷基等。
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公开(公告)号:CN1886442B
公开(公告)日:2010-09-08
申请号:CN200480035239.7
申请日:2004-12-02
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C08G67/00 , G03F1/14 , C09J173/00 , C09J7/02
CPC classification number: G03F1/62 , C08G65/007 , C08G65/226 , G03F7/0046 , Y10T428/24331 , Y10T428/3154
Abstract: 本发明提供作为表膜材料等的对短波长光(振荡波长193nm的ArF准分子激光,振荡波长157nm的F2准分子激光)具有高透明性和耐久性的有用的含氟聚合物。本发明还提供表膜,该表膜的被用于表膜的膜及/或粘合剂的聚合物(I)由以下述单元(1)为必须成分的聚合物形成。单元(1)是含有氟原子、形成聚合物主链的链由碳原子和醚性氧原子构成、形成该主链的碳原子的1个或1个以上是形成环基的碳原子、且形成该主链的1个或1个以上的醚性氧原子为不形成环基的氧原子的单元。例如,下式(A1)表示的单元,式中,n为1或2,RF1为-F或-CF3,RF2为-F或碳原子数1~5的全氟烷基。
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公开(公告)号:CN1886442A
公开(公告)日:2006-12-27
申请号:CN200480035239.7
申请日:2004-12-02
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C08G67/00 , G03F1/14 , C09J173/00 , C09J7/02
CPC classification number: G03F1/62 , C08G65/007 , C08G65/226 , G03F7/0046 , Y10T428/24331 , Y10T428/3154
Abstract: 本发明提供作为半透膜材料等的对短波长光(振荡波长193nm的ArF准分子激光,振荡波长157nm的F2准分子激光)具有高透明性和耐久性的有用的含氟聚合物。本发明还提供半透膜,该半透膜的被用于半透膜的膜及/或粘合剂的聚合物(I)由以下述单元(1)为必须成分的聚合物形成。单元(1)是含有氟原子、形成聚合物主链的链由碳原子和醚性氧原子构成、形成该主链的碳原子的1个或1个以上是形成环基的碳原子、且形成该主链的1个或1个以上的醚性氧原子为不形成环基的氧原子的单元。例如,上式(A1)表示的单元,式中,n为1或2,RF1为-F或-CF3,RF2为-F或碳原子数1~5的全氟烷基。
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公开(公告)号:CN103392135A
公开(公告)日:2013-11-13
申请号:CN201280009982.X
申请日:2012-02-20
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B9/00 , G02B1/11 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B1/118 , G02B5/3058 , G02F1/133528 , G02F2001/133548 , Y10T428/1064 , Y10T428/24628
Abstract: 本发明提供具有充分的耐擦伤性和光学特性的线栅型偏振器、防反射物品等微细结构成形体和包括该微细结构成形体的液晶显示装置。该线栅型偏振器(1)等微细结构成形体包括:基板,其在至少一个面以可见光的波长以下的间距形成有凸条(50);无机氧化物层(30),其覆盖凸条(50)的至少顶部(52);以及含氟化合物层(32),其是利用含氟化合物至少处理无机氧化物层(30)的表面而形成的,该含氟化合物具有相对于无机氧化物具有反应性的基;无机氧化物层(30)的覆盖在凸条(50)的顶部(52)上的部分的厚度(Ha)为30nm以上,而且该厚度(Ha)与宽度(Dat)之比(Ha/Dat)为1.0以下。该液晶显示装置包括该微细结构成形体。
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公开(公告)号:CN1493020A
公开(公告)日:2004-04-28
申请号:CN02805512.8
申请日:2002-01-31
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/114 , Y10S430/146 , Y10T428/3154
Abstract: 提供了可形成对放射线的透明度和干蚀刻性优异、且灵敏度、析像度、平坦性、耐热性等优异的保护膜图形的化学放大型保护膜组合物。该保护膜组合物的特征是,它是具有以式(1)表示的含氟二烯的环化聚合重复单元的含氟聚合物,且包含Q中具有嵌段化酸性基团的含氟聚合物(A)、受光照射而产生酸的产酸化合物(B)及有机溶剂(C),CF2=CR1-Q-CR2=CH2……(1)式中,R1、R2分别独立地表示氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基,Q为2价的有机基,且表示具有通过酸能够显现为酸性基团的嵌段化酸性基团或能转换成该嵌段化酸性基团的基团的有机基。
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公开(公告)号:CN104170057A
公开(公告)日:2014-11-26
申请号:CN201380016027.3
申请日:2013-04-08
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02
CPC classification number: B29C59/022 , B29C59/16 , B29K2063/00 , B29K2909/08 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0752 , H01L21/3086
Abstract: 本发明提供一种能够抑制具有微细图案的固化树脂层的剥离,并且能够抑制因涂布光固化性树脂组合物时的排拒而产生的固化树脂层的缺陷的表面具有微细图案的物品的制造方法。本发明的方法包括:(a)将硅烷偶联剂的溶液涂布在基材(12)的表面,形成底涂层(14)的工序;(b)将光固化性树脂组合物涂布在底涂层(14)的表面,形成光固化性树脂层(18)的工序;(c)在表面具有微细图案(20)的反转图案的模具(30)与底涂层(14)之间夹着光固化性树脂层(18)的状态下照射光,制成固化树脂层(16)的工序;以及(d)从固化树脂层(16)分离模具(30),得到物品(10)的工序;硅烷偶联剂的溶液包含具有(甲基)丙烯酰氧基的硅烷偶联剂和具有环氧基的硅烷偶联剂。
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公开(公告)号:CN100422853C
公开(公告)日:2008-10-01
申请号:CN03107058.2
申请日:2003-03-03
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G03F7/038 , H01L21/027 , C08F214/18
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/115 , Y10S430/146
Abstract: 一种抗蚀剂组合物,它包括下列含氟聚合物(A)、在光照下产生酸的酸生成化合物(B)和有机溶剂(C);含氟聚合物(A):具有受保护的酸性基团的含氟聚合物,它具有式(1)的氟化二烯环化聚合形成的单体单元和聚合式(2)的丙烯酸类单体形成的单体单元,当通过聚合式(1)的氟化二烯和式(2)的丙烯酸类单体得到的共聚物没有受保护的酸性基团时,它可通过在共聚物中形成受保护的酸性基团来得到:CF2=CR1-Q-CR2=CH2(1)和CH2=CR3-CO2R4(2)。R1、R2、R3、R1和Q的定义见说明书。
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公开(公告)号:CN1711291A
公开(公告)日:2005-12-21
申请号:CN200380102894.5
申请日:2003-11-06
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C08F214/18 , C08F36/20 , C08F2/60
Abstract: 本发明提供一种适合用作250nm以下的准分子激光的抗蚀材料用的原料聚合物的含氟聚合物。含氟聚合物具有环化聚合下式(3)所示的含氟二烯而成的单体单元,CF2=CFCF2-C(CF3)(R5)-CH2CH=CH2(3),式中,R5表示被-CHR7-O-R8保护了的羟基或者具有该羟基的有机基;R8表示可具有取代基的环烷基等的环式饱和烃、具有该环式饱和烃的有机基。
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