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    被曝光基板用防水剂组合物以及抗蚀图形的形成方法
    1.
    发明授权
    被曝光基板用防水剂组合物以及抗蚀图形的形成方法 失效

    公开(公告)号：CN102027570B

    公开(公告)日：2013-04-24

    申请号：CN200980114703.4

    申请日：2009-02-20

    Applicant: 瑞萨电子株式会社 ,  旭硝子株式会社

    Inventor： 石桥健夫 ,  寺井护 ,  萩原琢也 ,  横小路修 ,  武部洋子

    IPC: H01L21/027 ,  G03F7/09

    CPC classification number: G03F7/16 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

    Abstract: 本发明提供可抑制由浸渍液所导致的被曝光基板背面的污染并且可提高被加工膜与其正上方的有机膜的附着性以抑制膜剥离且操作性优良的被曝光基板用防水剂组合物、抗蚀图形的形成方法及通过该形成方法制造的电子器件、被曝光基板的防水处理方法、被曝光基板用防水剂套装以及使用该套装的被曝光基板的防水处理方法。本发明使用被曝光基板用防水剂组合物，该组合物至少包含以下述通式(1)表示的有机硅化合物和溶剂。式中，R1为碳原子数14～30的1价有机基团，R2、R3、R4分别独立地为碳原子数1～10的1价有机基团或水解性基团，R2、R3、R4中的至少1个为水解性基团。

    含氟化合物、含氟聚合物及其制造方法以及含该聚合物的抗蚀组合物
    3.
    发明公开
    含氟化合物、含氟聚合物及其制造方法以及含该聚合物的抗蚀组合物 无效

    公开(公告)号：CN1826358A

    公开(公告)日：2006-08-30

    申请号：CN200480021330.3

    申请日：2004-07-29

    Applicant: 旭硝子株式会社

    Inventor： 武部洋子 ,  金子勇

    IPC: C08F36/20 ,  C08L47/00 ,  C07C43/17 ,  C07C43/172 ,  C07C69/65 ,  G03F7/039

    Abstract: 本发明提供具有官能团、在宽广的波长区域中具有高透明性的含氟聚合物和由该含氟聚合物构成的抗蚀用组合物。具有下述式(1)所表示的含氟二烯聚合的单体单元的含氟聚合物(A)、其制造方法以及以含氟聚合物(A)为基础的抗蚀组合物。CF2＝CFCH2CH－Q－CH2CH＝CH2…(1)式中，Q表示(CH2)aC(CF3)2OR4(a为0～3的整数，R4表示可以具有醚性氧原子的碳原子数小于等于20的烷基、含氟烷基、碳原子数小于等于6的烷氧羰基或者CH2R5(R5为碳原子数小于等于6的烷氧羰基))或者(CH2)dCOOR6(d为0或1，R6为氢原子或碳原子数小于等于20的烷基或者含氟烷基)。

    含氟共聚物及其制造方法、以及含有该共聚物的抗蚀组合物
    5.
    发明公开
    含氟共聚物及其制造方法、以及含有该共聚物的抗蚀组合物 无效

    公开(公告)号：CN1832973A

    公开(公告)日：2006-09-13

    申请号：CN200480022886.4

    申请日：2004-08-19

    Applicant: 旭硝子株式会社

    Inventor： 武部洋子 ,  江田昌隆 ,  横小路修

    IPC: C08F236/20 ,  C08L47/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/033

    Abstract: 本发明提供具有官能团、在宽广的波长区域中具有高透明性的含氟聚合物和由该含氟聚合物构成的抗蚀用组合物。具有来源于下述式(1)所表示的含氟二烯环化聚合的单体单元的单元以及来源于其它的环化聚合的单体单元的单元或来源于丙烯酸类单体聚合的单体单元的单元的含氟共聚体，以及将它们作为基本聚合物的抗蚀组合物。CF2＝CFCH2CH(CH2C(CF3)2(OR1)CH2CH＝CH2(1)，式中，R1为氢原子、可以具有醚性氧原子的碳原子数小于等于20的烷基、碳原子数小于等于6的烷氧羰基或者CH2R2，R2为碳原子数小于等于6的烷氧羰基。

    保护膜组合物
    6.
    发明公开
    保护膜组合物 失效

    公开(公告)号：CN1493020A

    公开(公告)日：2004-04-28

    申请号：CN02805512.8

    申请日：2002-01-31

    Applicant: 旭硝子株式会社

    Inventor： 金子勇 ,  冈田伸治 ,  川口泰秀 ,  武部洋子 ,  儿玉俊一

    IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/146 ,  Y10T428/3154

    Abstract: 提供了可形成对放射线的透明度和干蚀刻性优异、且灵敏度、析像度、平坦性、耐热性等优异的保护膜图形的化学放大型保护膜组合物。该保护膜组合物的特征是，它是具有以式(1)表示的含氟二烯的环化聚合重复单元的含氟聚合物，且包含Q中具有嵌段化酸性基团的含氟聚合物(A)、受光照射而产生酸的产酸化合物(B)及有机溶剂(C)，CF2＝CR1－Q－CR2＝CH2……(1)式中，R1、R2分别独立地表示氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基，Q为2价的有机基，且表示具有通过酸能够显现为酸性基团的嵌段化酸性基团或能转换成该嵌段化酸性基团的基团的有机基。

    光刻用薄膜、带薄膜的光掩模及曝光处理方法
    7.
    发明授权
    光刻用薄膜、带薄膜的光掩模及曝光处理方法 失效

    公开(公告)号：CN103718105B

    公开(公告)日：2016-08-17

    申请号：CN201280036649.8

    申请日：2012-07-27

    Applicant: 旭硝子株式会社

    Inventor： 武部洋子

    IPC: G03F1/62

    CPC classification number: G03F1/62 ,  G03F1/142

    Abstract: 本发明提供具有对于波长250nm以下、特别是200nm以下的光的耐光性良好的防尘薄膜的光刻用薄膜、使用该薄膜的带薄膜的光掩模及曝光处理方法。光刻用薄膜是具有包含由含氟聚合物(A)形成的膜和由含氟聚合物(B)形成的膜的多层薄膜的光刻用薄膜，其中，含氟聚合物(A)含有将含1个醚性氧原子的全氟二烯环化聚合而得的重复单元作为主要成分，含氟聚合物(B)具有环结构内含互不相邻的2个或3个醚性氧原子的含氟脂肪族环结构，其特征在于，所述由含氟聚合物(B)形成的膜的总膜厚在所述由含氟聚合物(A)形成的膜的总膜厚的40％以下。

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