公开(公告)号：CN102150218A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200980135762.X

申请日：2009-08-19

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 小野元司 ,  渡边满 ,  横山美华

IPC: G21K1/06 ,  C03C23/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y40/00 ,  B82Y10/00 ,  C03C23/0025 ,  C03C2204/08 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明提供一种将EUVL用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面平滑化的方法。具体而言，本发明提供一种如下所述将EUVL用光学部件的光学面平滑化的方法，即，对含有TiO2且以SiO2为主成分的石英玻璃材料制的EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面，在水蒸气分压3.6mmHg以下的气氛中，以能量密度0.3～1.5J/cm2，照射以EUVL用光学部件的吸收系数为0.01μm-1以上的波长进行振荡的激光，从而将EUVL用光学部件的光学面平滑化。

公开(公告)号：CN102150218B

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：CN200980135762.X

申请日：2009-08-19

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 小野元司 ,  渡边满 ,  横山美华

IPC: G21K1/06 ,  C03C23/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y40/00 ,  B82Y10/00 ,  C03C23/0025 ,  C03C2204/08 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明提供一种将EUVL用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面平滑化的方法。具体而言，本发明提供一种如下所述将EUVL用光学部件的光学面平滑化的方法，即，对含有TiO2且以SiO2为主成分的石英玻璃材料制的EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面，在水蒸气分压3.6mmHg以下的气氛中，以能量密度0.3～1.5J/cm2，照射以EUVL用光学部件的吸收系数为0.01μm-1以上的波长进行振荡的激光，从而将EUVL用光学部件的光学面平滑化。