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公开(公告)号：CN101946208B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN200980105684.9
申请日：2009-02-19
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , C03C23/0025 , G03F1/24 , G03F1/60 , G03F1/72 , G21K2201/067
Abstract: 本发明提供一种使EUVL用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面平滑的方法。本发明涉及一种使EUVL用光学部件的光学表面平滑的方法，其包括：用波长为250nm以下的准分子激光以0.5～2.0J/cm2的能量密度照射EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面，所述光学部件由包含SiO2作为主要成分的含TiO2的石英玻璃材料制成。
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公开(公告)号：CN106469682A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201610695059.6
申请日：2016-08-19
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明涉及层叠体的剥离装置和剥离方法及电子器件的制造方法。对于层叠体的剥离装置，该层叠体以能够剥离的方式借助吸附层粘贴第1基板和第2基板而成，其特征在于，该层叠体的剥离装置包括：激光束照射构件，通过对所述层叠体的外周缘部的一部分照射激光束、使所述吸附层的一部分气化而去除该部分，在所述外周缘部的一部分制作剥离开始部；液体供给构件，其向所述剥离开始部供给液体，且向所述第1基板与所述吸附层之间的间隙或所述第2基板与所述吸附层之间的间隙供给所述液体；以及剥离构件，其以所述剥离开始部为起点使所述第1基板和所述第2基板相对分开而剥离。
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公开(公告)号：CN103329014A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201280005969.7
申请日：2012-01-16
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3083 , C03C23/0025
Abstract: 提供一种成本低廉、不会产生衍射光另外也不会产生波像差的相位差板。具有配置在玻璃基板上的第1区域、第2区域及第3区域，上述第1区域和上述第2区域在至少一部分具有单轴性的双折射，上述第3区域具有单轴性的双折射，上述第3区域配置于上述第1区域和上述第2区域之间，上述第1区域和上述第2区域的上述双折射的快轴大致平行，上述第3区域的上述双折射的快轴与上述第1及上述第2区域的双折射的快轴大致正交。
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公开(公告)号：CN102442769A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201010502396.1
申请日：2010-09-30
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03B33/08
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明目的在于提供一种新的玻璃基板的倒棱方法及装置，其能够提高玻璃基板的端面的弯曲强度及冲击强度，防止在玻璃基板制造过程中玻璃基板的破裂及缺损，提高生产性。一种玻璃基板的倒棱方法及装置，其为利用激光光线进行倒棱的方法，其特征在于，对玻璃基板的端面照射激光光线，并对所述玻璃基板的激光光线照射部喷吹冷却气体。
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公开(公告)号：CN102150218A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200980135762.X
申请日：2009-08-19
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G21K1/06 , C03C23/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y10/00 , C03C23/0025 , C03C2204/08 , G03F1/24 , G03F1/60 , G21K2201/067
Abstract: 本发明提供一种将EUVL用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面平滑化的方法。具体而言，本发明提供一种如下所述将EUVL用光学部件的光学面平滑化的方法，即，对含有TiO2且以SiO2为主成分的石英玻璃材料制的EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面，在水蒸气分压3.6mmHg以下的气氛中，以能量密度0.3～1.5J/cm2，照射以EUVL用光学部件的吸收系数为0.01μm-1以上的波长进行振荡的激光，从而将EUVL用光学部件的光学面平滑化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102150218B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN200980135762.X
申请日：2009-08-19
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G21K1/06 , C03C23/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y10/00 , C03C23/0025 , C03C2204/08 , G03F1/24 , G03F1/60 , G21K2201/067
Abstract: 本发明提供一种将EUVL用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面平滑化的方法。具体而言，本发明提供一种如下所述将EUVL用光学部件的光学面平滑化的方法，即，对含有TiO2且以SiO2为主成分的石英玻璃材料制的EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹陷缺陷点的光学面，在水蒸气分压3.6mmHg以下的气氛中，以能量密度0.3～1.5J/cm2，照射以EUVL用光学部件的吸收系数为0.01μm-1以上的波长进行振荡的激光，从而将EUVL用光学部件的光学面平滑化。
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公开(公告)号：CN102947239A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN201180029589.2
申请日：2011-06-15
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C27/06 , C03C8/24 , G02F1/1339 , H05B33/04
CPC classification number: C03C8/24 , C03C8/04 , C03C27/06 , G02F1/1303 , G02F1/1339 , H01J9/261 , H01J11/48 , H01J2211/48 , H01J2329/867 , H01J2329/8675 , Y10T428/239
Abstract: 本发明提供在对两块玻璃基板间进行激光密封时，能够抑制玻璃基板及密封层产生裂纹或破裂等的电子器件。电子器件(1)具备第一玻璃基板(2)、第二玻璃基板(3)和在它们之间形成的密封层(6)。密封层(6)由含有密封玻璃、低膨胀填充材料和激光吸收材料的密封材料的熔融固着层构成。观察密封层(6)的截面时，存在于每单位面积的低膨胀填充材料和激光吸收材料的周长的和(流动性阻碍值)为0.7～1.3μm-1，并且，密封玻璃的面积比例乘以该密封玻璃的热膨胀系数而得的值、与低膨胀填充材料和激光吸收材料的面积比例的和乘以低膨胀填充材料的热膨胀系数而得的值的和(热膨胀值)为50～90×10-7/℃。
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公开(公告)号：CN102066280A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201080002297.5
申请日：2010-04-01
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03C27/06 , G02F1/1339 , G09F9/30 , H01J9/26 , H01J29/86
CPC classification number: H01J9/261 , C03C8/24 , C03C23/0025 , C03C27/10 , G02F1/1339 , G02F2001/133354 , H01J11/10 , H01J11/48
Abstract: 本发明提供即使在无法对整块玻璃基板加热的情况下也能良好地形成密封材料层的带密封材料层的玻璃构件的制造方法。将包含密封玻璃和激光吸收材料的密封材料与有机粘合剂混合而制成密封材料糊料，将该密封材料糊料以框状涂布在玻璃基板(2)的密封区域上。沿着框状的密封材料糊料的涂布层(8)照射激光(9)来选择性地对涂布层(8)加热，从而在除去涂布层(8)内的有机粘合剂的同时对密封材料进行烧成而形成密封材料层(7)。用该密封材料层(7)将两块玻璃基板之间密封。
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公开(公告)号：CN101437764B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200780016680.4
申请日：2007-03-14
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C03B5/225
Abstract: 本发明的目的是提供高效地除去残存于熔融玻璃表面的气泡的方法、除泡装置及使用上述除泡方法的玻璃的制造方法，该除泡方法解决玻璃基板制造时，残存于熔融玻璃表面的气泡在成形时被卷入内部，成为内部气泡的问题，可提供品质良好的玻璃基板，并且可提高玻璃基板的生产性。本发明提供熔融玻璃的除泡方法及除泡装置，该除泡方法是熔融玻璃表面的浮游气泡的除去方法，以规定的角度对熔融玻璃表面的浮游气泡照射至少1束激光束。
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公开(公告)号：CN101946208A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200980105684.9
申请日：2009-02-19
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , C03C23/0025 , G03F1/24 , G03F1/60 , G03F1/72 , G21K2201/067
Abstract: 本发明提供一种使EUVL用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面平滑的方法。本发明涉及一种使EUVL用光学部件的光学表面平滑的方法，其包括：用波长为250nm以下的准分子激光以0.5～2.0J/cm2的能量密度照射EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面，所述光学部件由包含SiO2作为主要成分的含TiO2的石英玻璃材料制成。
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