-
公开(公告)号：CN106153218A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201610494144.6
申请日：2016-06-29
Applicant: 昆山国显光电有限公司
Inventor： 檀长兵
IPC: G01L1/00
CPC classification number: G01L1/00
Abstract: 本发明公开了一种摩擦力测量装置和方法，包括：上吸盘、下吸盘、真空泵和推拉力计。所述上吸盘吸附在待镀膜基板的上表面；所述下吸盘吸附在所述待镀膜基板的下表面；所述真空泵排净所述上吸盘与所述待镀膜基板的上表面之间的空气以及所述下吸盘与所述待镀膜基板的下表面之间的空气；所述推拉力计在所述上吸盘与所述待镀膜基板的上表面之间的空气以及所述下吸盘与所述待镀膜基板的下表面之间的空气被排净时，在外力作用下测量所述待镀膜基板与机械臂之间的摩擦力数值大小。通过摩擦力测量装置既能够准确地得到待镀膜基板与机械臂之间的摩擦力大小，又能够有效保证在测量待镀膜基板与机械臂之间的摩擦力时待镀膜基板不被损坏。
-
公开(公告)号：CN106153218B
公开(公告)日：2019-04-30
申请号：CN201610494144.6
申请日：2016-06-29
Applicant: 昆山国显光电有限公司
Inventor： 檀长兵
Abstract: 本发明公开了一种摩擦力测量装置和方法，包括：上吸盘、下吸盘、真空泵和推拉力计。所述上吸盘吸附在待镀膜基板的上表面；所述下吸盘吸附在所述待镀膜基板的下表面；所述真空泵排净所述上吸盘与所述待镀膜基板的上表面之间的空气以及所述下吸盘与所述待镀膜基板的下表面之间的空气；所述推拉力计在所述上吸盘与所述待镀膜基板的上表面之间的空气以及所述下吸盘与所述待镀膜基板的下表面之间的空气被排净时，在外力作用下测量所述待镀膜基板与机械臂之间的摩擦力数值大小。通过摩擦力测量装置既能够准确地得到待镀膜基板与机械臂之间的摩擦力大小，又能够有效保证在测量待镀膜基板与机械臂之间的摩擦力时待镀膜基板不被损坏。
-
公开(公告)号：CN110158053A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201910408927.1
申请日：2019-05-15
Applicant: 昆山国显光电有限公司
Inventor： 檀长兵
Abstract: 本发明提供一种CVD设备，包括：基座；接地带，连接在所述基座与设备底部接地端之间，所述接地带的至少一端设有连接孔；固定装置，适于固定在所述基座和/或所述接地端上，所述固定装置包括第一夹具，所述第一夹具上具有至少两个定位柱，所述接地带通过所述连接孔穿设在所述定位柱上；第二夹具，与所述第一夹具相对设置，所述第二夹具上具有与所述至少两个定位柱相适配的至少两个定位孔，所述定位柱与所述定位孔配合将所述接地带的端部夹设在所述第一夹具与所述第二夹具之间。通过定位柱和定位孔进行接地带的定位安装，减少了安装时间，且定位后再安装不易出现安装偏移。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108517512A
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：CN201810195419.5
申请日：2018-03-09
Applicant: 昆山国显光电有限公司
Inventor： 檀长兵
IPC: C23C16/44
Abstract: 本发明公开了一种化学气相沉积设备及其反应腔室。化学气相沉积反应腔室包括：反应腔壁、所述反应腔壁围成的封闭的反应腔、以及延伸入所述反应腔内的基座，其特征在于，所述反应腔壁内部包括中空层。本发明提供的反应腔室，反应腔壁内部包括中空层，有效提高了反应腔壁的隔热作用。反应腔壁的隔热作用的提高，使得具有反应腔室的化学气相沉积设备有效地提高了反应腔内的温度均匀性，进而提高了成膜基板的成膜质量；同时，有效地对反应腔壁外表面附近的零部件起到保护作用，降低其老化速度，进而降低设备生产运营成本。
-
公开(公告)号：CN108359959A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201810194858.4
申请日：2018-03-09
Applicant: 昆山国显光电有限公司
Inventor： 檀长兵
IPC: C23C16/44
CPC classification number: C23C16/44 , C23C16/4402 , C23C16/4411
Abstract: 本发明公开了一种化学气相沉积设备，包括压缩冷却系统、第一进气管道、反应腔室以及排气管道，所述第一进气管道连通所述压缩冷却系统与所述反应腔室，以将所述压缩冷却系统所产生压缩冷却气体传输至所述反应腔室；所述排气管道连通所述反应腔室，以排出所述反应腔室内部的气体。本发明能够有效降低反应腔冷却时间，进而提高设备稼动率。
-
公开(公告)号：CN205205222U
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201521052574.X
申请日：2015-12-16
Applicant: 昆山国显光电有限公司
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型实施例公开了一种磁控溅射装置，所述磁控溅射装置包括：基板、与所述基板正对设置的靶材、环绕设置在所述基板外围的遮挡板以及多个突出部；所述多个突出部两两间隔一定距离固定设置在所述遮挡板的至少一侧，相邻突出部之间形成阻挡空间。本实用新型的磁控溅射装置能够防止溅射到基板之外的靶材原子污染基板和腔室，并且能够提高基板镀膜的质量。
-
公开(公告)号：CN208352257U
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201820414900.4
申请日：2018-03-26
Applicant: 昆山国显光电有限公司
Inventor： 檀长兵
IPC: H01J37/32 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本实用新型实施例提供了一种承载机构、机械传送装置和真空设备，解决了在承载过程中由于电荷的产生，承载工件表面积累过多的电荷，导致承载工件报废的问题。本实用新型一实施例提供的一种承载机构包括：承载台，用于承载工件；以及与所述承载台的表面电性连接的导电件，所述导电件接地。
-
公开(公告)号：CN205205224U
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201520996939.8
申请日：2015-12-03
Applicant: 昆山国显光电有限公司
Inventor： 檀长兵
IPC: C23C16/458
Abstract: 本实用新型提供了一种CVD设备用吊具，其包括收放调节装置、位于收放调节装置底部的承载导轨、安装于所述承载导轨上的载板、以及连接相邻两个载板的连接板；所述收放调节装置包括旋转丝杆以及与旋转丝杆连接的拉伸件，所述拉伸件的一端与所述载板连接。与现有技术相比，本实用新型所述CVD设备用吊具采用载板来承载屏蔽框，大大增加了吊具与屏蔽框之间的接触面，减少了屏蔽框破碎的概率，同时通过旋转丝杆和拉伸件的配合，可拉伸载板沿承载导轨作运动，方便吊具的安全的退出腔室。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.025 seconds)
