公开(公告)号：CN1639392A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN03804541.9

申请日：2003-01-24

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 下村政嗣 ,  田中贤 ,  薮浩 ,  竹林允史 ,  门田隆二 ,  小山珠美 ,  细田喜一 ,  坂口雅司

IPC: C25F3/04 ,  H01G9/04

CPC classification number: H01G9/055

Abstract: 本发明的复合金属材料(1)是例如作为电解电容器电极用材料使用的复合金属材料，在金属材料基材(10)的至少一面上，通过自己组织化形成具有微细图形(12)的高分子薄膜(11)。该高分子薄膜(11)，例如通过高分子化合物的疏水性有机溶剂溶液的干燥而形成。如果在该复合金属材料(1)上实施蚀刻，基于上述微细图形可形成高密度且均匀地分布的蚀刻坑。