公开(公告)号：CN102422350A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN201080020629.2

申请日：2010-05-14

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 坂口龙二 ,  大岛德夫 ,  王志鹏 ,  田中良

IPC: G11B5/84 ,  B08B3/12

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B08B3/102 ,  B08B3/12 ,  H01L21/67057

Abstract: 本发明提供高效地除去在基板的表面附着的尘埃等且防止在清洗后该尘埃等在基板的表面上再次附着的流水式清洗方法和流水式清洗装置。该流水式清洗方法，在清洗槽(2)内使清洗液(L)向横向流动，在将被清洗物(W)在该清洗液(L)中浸渍的状态下，在向清洗液(L)施加超声波振动的同时进行被清洗物(W)的清洗，其中通过调整在向清洗槽(2)供给清洗液(L)的多个供给口(3)和从清洗槽(2)排出清洗液(L)的多个排出口(5)中的任一个供给口(3)和/或排出口(5)流动的清洗液(L)的流量，来使清洗槽(2)内的清洗液(L)在层流的状态下流动。

公开(公告)号：CN102629475A

公开(公告)日：2012-08-08

申请号：CN201210015408.7

申请日：2012-01-18

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 石桥信一 ,  冈田翼 ,  山根明 ,  茂智雄 ,  上田学 ,  王志鹏 ,  村上雄二

IPC: G11B5/84

CPC classification number: G11B5/855

Abstract: 本发明提供一种能够切实且以高速进行掩模层的除去的磁记录介质的制造方法。本发明是一种具有磁分离了的磁记录图案(2a)的磁记录介质的制造方法，其包括：在非磁性基板(1)之上形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)之上形成溶解层(3)的工序；在溶解层(3)之上形成掩模层(4)的工序；将溶解层(3)和掩模层(4)图案化成为与磁记录图案(2a)对应的形状的工序；将磁性层(2)的没有被掩模层(4)和溶解层(3)覆盖的地方部分性地改性或除去的工序；和利用药剂将溶解层(3)湿式溶解，与其上的掩模层(4)一同从磁性层(2)之上除去的工序，在形成溶解层(3)的工序中，通过在磁性层(2)之上涂布了将有机硅化合物溶解于有机溶剂中的涂液后，固化该涂液，从而形成溶解层(3)。