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公开(公告)号：CN115803480A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202280005381.5
申请日：2022-01-19
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 斯蒂芬·J·巴尼克二世 , 加布里埃尔·海·格拉哈姆 , 布莱恩·L·巴卡柳 , 罗伯特·拉什 , 蔡利平 , 弗雷德里克·迪恩·威尔莫特 , 林倩倩
IPC: C25D5/08
Abstract: 一种用于电镀设备的离子电阻性离子可渗透元件包含用以在电镀期间调整接近衬底的流体动力环境的肋状物。在一个实施方案中，离子电阻性离子可渗透元件包含至少与衬底的镀覆面共同延伸的槽形部分，以及从槽形部分的面向衬底表面朝向衬底延伸的多个肋状物。肋状物包含具有完整最大高度的第一多个肋状物和具有比完整最大高度更小的最大高度的第二多个肋状物。在一个实施方案中，具有较小最大高度的肋状物安置成使得肋状物的最大高度在从元件的一个边缘到元件的中心的方向上逐渐增加。
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公开(公告)号：CN111492096B
公开(公告)日：2023-02-14
申请号：CN201880080745.X
申请日：2018-10-15
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 加布里埃尔·海·格拉哈姆 , 蔡利平 , 翁恩康
Abstract: 本文的各种实施方案涉及用于将材料电镀到衬底上的方法和设备。通常，衬底是半导体衬底。本文描述的各种技术利用许多不同的电镀阶段，其中对流状态在不同的电镀阶段之间变化。在许多情况下，使用至少一个超低对流阶段。超低对流阶段可以与具有较高对流状态的初始阶段和最终阶段配对。通过控制如本文所述的对流状态，即使在单个衬底上提供了不同尺寸和/或形状的特征时，也可以获得非常均匀的镀敷结果。
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公开(公告)号：CN106245078A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610394032.3
申请日：2016-06-06
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 加布里埃尔·海·格拉哈姆 , 蔡李鹏 , 史蒂文·T·迈耶 , 罗伯特·拉什 , 亚伦·贝尔克
Abstract: 本发明涉及用于调节在电镀中的方位角均匀性的装置和方法。用于在半导体衬底上以改善的方位角均匀性电镀金属的装置在一个方面包括：电镀室，其被配置成容纳电解液和阳极；衬底支架，其配置成在电镀期间保持半导体衬底；离子阻性离子可穿透元件(“元件”)，其被配置成邻近衬底定位；和屏蔽件，其被配置用于提供方位角不对称屏蔽并定位在衬底支架和元件之间，使得所述屏蔽件的面对衬底的表面和所述衬底的工作表面之间的最近距离为小于约2mm。在一些实施方式中，在电镀期间，在所述屏蔽件的面对衬底的表面和所述屏蔽件之间存在填充电解液的间隙。所述屏蔽件的面对衬底的表面可以设置轮廓使得从屏蔽件的不同位置到衬底的距离是变化的。
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公开(公告)号：CN106245078B
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201610394032.3
申请日：2016-06-06
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 加布里埃尔·海·格拉哈姆 , 蔡李鹏 , 史蒂文·T·迈耶 , 罗伯特·拉什 , 亚伦·贝尔克
Abstract: 本发明涉及用于调节在电镀中的方位角均匀性的装置和方法。用于在半导体衬底上以改善的方位角均匀性电镀金属的装置在一个方面包括：电镀室，其被配置成容纳电解液和阳极；衬底支架，其配置成在电镀期间保持半导体衬底；离子阻性离子可穿透元件(“元件”)，其被配置成邻近衬底定位；和屏蔽件，其被配置用于提供方位角不对称屏蔽并定位在衬底支架和元件之间，使得所述屏蔽件的面对衬底的表面和所述衬底的工作表面之间的最近距离为小于约2mm。在一些实施方式中，在电镀期间，在所述屏蔽件的面对衬底的表面和所述屏蔽件之间存在填充电解液的间隙。所述屏蔽件的面对衬底的表面可以设置轮廓使得从屏蔽件的不同位置到衬底的距离是变化的。
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公开(公告)号：CN106480481B
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201610756695.5
申请日：2016-08-29
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 加布里埃尔·海·格拉哈姆 , 布莱恩·L·巴卡柳 , 史蒂文·T·迈耶 , 罗伯特·拉什 , 詹姆斯·艾萨克·福特纳 , 蔡李鹏
CPC classification number: C25D5/08 , C25D17/001 , C25D17/008
Abstract: 本发明涉及用于电镀装置的边缘流元件，具体涉及用于将一种或多种材料电镀到衬底上的方法和装置。在许多情况下，材料是金属并且衬底是半导体晶片，但不限于此。通常情况下，本发明的实施方式利用定位在衬底附近的有沟道的板，产生在底部由有沟道的板限定、在顶部由衬底限定并在侧面由横流约束环限定的横流歧管。通常还提供配置为引导电解液到衬底和衬底夹持器之间形成的拐角中的边缘流元件。电镀期间，流体向上穿过有沟道的板中的通道并横向通过位于横流约束环的一侧上的横流侧入口，进入横流歧管。流动路径组合在横流歧管中并且出口在位于横流入口相对处的横流出口处。这些组合的流动路径和边缘流元件导致改善的电镀均匀性，尤其在衬底的外周。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112236550B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN201980038215.3
申请日：2019-04-29
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 斯蒂芬·J·巴尼克 , 布莱恩·L·巴卡柳 , 加布里埃尔·海·格拉哈姆 , 阿尔佛雷德·博斯蒂克 , 肖恩·威尔伯 , 约翰·弗洛伊德·奥斯特罗夫斯基
Abstract: 一种电镀装置，其包含位于室的底部的电极、水平设置在室顶部的具有穿孔的离子电阻性部件，而在中间设有膜。一或多个板从膜到所述部件竖直地且平行地延伸，并且线性延伸跨越室，在膜与所述部件之间形成了多个区域。将具有沿衬底的弦延伸并与所述部件的顶部表面接触的凸部的衬底设置在第一区域上方。在衬底与所述部件之间流动的电解液在凸部的第一侧经过穿孔下降进入第一区域，并且在凸部的第二侧经过穿孔从第一区域上升，迫使气泡从与第一区域关联的部件的一部分离开。
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公开(公告)号：CN110387564A
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201910553235.6
申请日：2016-06-06
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 加布里埃尔·海·格拉哈姆 , 蔡李鹏 , 史蒂文·T·迈耶 , 罗伯特·拉什 , 亚伦·贝尔克
Abstract: 本发明涉及用于调节在电镀中的方位角均匀性的装置和方法。用于在半导体衬底上以改善的方位角均匀性电镀金属的装置在一个方面包括：电镀室，其被配置成容纳电解液和阳极；衬底支架，其配置成在电镀期间保持半导体衬底；离子阻性离子可穿透元件(“元件”)，其被配置成邻近衬底定位；和屏蔽件，其被配置用于提供方位角不对称屏蔽并定位在衬底支架和元件之间，使得所述屏蔽件的面对衬底的表面和所述衬底的工作表面之间的最近距离为小于约2mm。在一些实施方式中，在电镀期间，在所述屏蔽件的面对衬底的表面和所述屏蔽件之间存在填充电解液的间隙。所述屏蔽件的面对衬底的表面可以设置轮廓使得从屏蔽件的不同位置到衬底的距离是变化的。
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公开(公告)号：CN118390144A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410254684.1
申请日：2019-04-29
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 斯蒂芬·J·巴尼克 , 布莱恩·L·巴卡柳 , 加布里埃尔·海·格拉哈姆 , 阿尔佛雷德·博斯蒂克 , 肖恩·威尔伯 , 约翰·弗洛伊德·奥斯特罗夫斯基
Abstract: 一种电镀装置，其包含位于室的底部的电极、水平设置在室顶部的具有穿孔的离子电阻性部件，而在中间设有膜。一或多个板从膜到所述部件竖直地且平行地延伸，并且线性延伸跨越室，在膜与所述部件之间形成了多个区域。将具有沿衬底的弦延伸并与所述部件的顶部表面接触的凸部的衬底设置在第一区域上方。在衬底与所述部件之间流动的电解液在凸部的第一侧经过穿孔下降进入第一区域，并且在凸部的第二侧经过穿孔从第一区域上升，迫使气泡从与第一区域关联的部件的一部分离开。
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公开(公告)号：CN115768928A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202280005187.7
申请日：2022-03-15
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 蔡利平 , 加布里埃尔·海·格拉哈姆 , 布莱恩·L·巴卡柳 , 斯蒂芬·J·巴尼克二世 , 桑托斯·库马尔 , 詹姆斯·艾萨克·福特纳 , 罗伯特·拉什 , 史蒂文·T·迈耶
IPC: C25D5/02
Abstract: 一种用于在半导体衬底上电镀金属的设备，其中在管芯级对电镀厚度具有高控制，所述设备包括离子阻性离子可渗透元件(例如，具有通道的板)，其中所述元件允许离子电流在电镀期间穿过所述元件流向所述衬底，其中所述元件包括多个区域，每个区域具有变化的局部电阻的图案，并且其中所述变化的局部电阻的图案在至少两个区域中重复。一种电镀方法，所述方法包括：将半导体衬底提供到电镀设备中，其中所述电镀设备包括具有与衬底上的特征图案相关的图案的离子阻性离子可渗透元件或网格状屏蔽件，同时至少在总电镀时间的一部分期间保持衬底上的图案与元件或网格状屏蔽件的图案空间对准。
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公开(公告)号：CN112236550A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201980038215.3
申请日：2019-04-29
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 斯蒂芬·J·巴尼克 , 布莱恩·L·巴卡柳 , 加布里埃尔·海·格拉哈姆 , 阿尔佛雷德·博斯蒂克 , 肖恩·威尔伯 , 约翰·弗洛伊德·奥斯特罗夫斯基
Abstract: 一种电镀装置，其包含位于室的底部的电极、水平设置在室顶部的具有穿孔的离子电阻性部件，而在中间设有膜。一或多个板从膜到所述部件竖直地且平行地延伸，并且线性延伸跨越室，在膜与所述部件之间形成了多个区域。将具有沿衬底的弦延伸并与所述部件的顶部表面接触的凸部的衬底设置在第一区域上方。在衬底与所述部件之间流动的电解液在凸部的第一侧经过穿孔下降进入第一区域，并且在凸部的第二侧经过穿孔从第一区域上升，迫使气泡从与第一区域关联的部件的一部分离开。
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