公开(公告)号：CN117730281A

公开(公告)日：2024-03-19

申请号：CN202280052467.3

申请日：2022-07-15

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 萨曼莎·西亚姆华·坦 ,  李达 ,  游正义 ,  金志妍 ,  潘阳

IPC: G03F7/20

Abstract: 本文中所述的各种实施方案涉及用于处理含金属光致抗蚀剂以修改光致抗蚀剂的材料属性的方法、装置和系统。含金属光致抗蚀剂可在涉及至少两个热操作的暴露后烘烤工艺中进行处理。暴露后烘烤操作中的至少一者包括，在富含氧的环境中使含金属光致抗蚀剂暴露于适度升高的温度。接着进行的暴露后烘烤操作包括，在惰性气体环境中使含金属光致抗蚀剂暴露于高度升高的温度。该多步骤暴露后烘烤操作改善了在后续干式显影工艺中的蚀刻选择性。

公开(公告)号：CN118159914A

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202380014188.2

申请日：2023-06-29

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 李达 ,  金志妍 ,  萨曼塔·S·H·坦 ,  蒂莫西·威廉·威德曼

IPC: G03F7/36 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  H01J37/32

Abstract: 提供了用于在EUV暴露后显影基于光图案化的金属或金属氧化物的薄膜光致抗蚀剂，以去除非挥发性物质并阻止蚀刻停止的处理。用蚀刻剂和氧化剂交替处理的重复循环；或用蚀刻剂处理然后用清洗剂处理是去除光致抗蚀剂中不需要的未暴露部分的有效技术。