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公开(公告)号:CN1698169A
公开(公告)日:2005-11-16
申请号:CN200480000343.2
申请日:2004-03-03
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 一种放电延迟时间短且具有对于电压施加的放电产生的优良的响应性,同时抑制了其放电延迟时间对于温度的变化的等离子体显示板。是形成电介质层(9)使其覆盖在前面基板(4)上形成的扫描电极(5)以及维持电极(6),并在该电介质层(9)上形成保护层(10)的等离子体显示板,保护层(10)包含碳元素以及硅元素。而且,保护层(10)是包含原子数为5×1018个/cm3~2.0×1021个/cm3的硅元素,和原子数为1×1018个/cm3~2.0×1021个/cm3的碳元素的氧化镁。
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公开(公告)号:CN1698172A
公开(公告)日:2005-11-16
申请号:CN200480000651.5
申请日:2004-05-14
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 一种等离子显示板形成有电介质层(9)使其覆盖前面基板(4)上形成的扫描电极(5)及维持电极(6),并在该电介质层(9)上形成保护层(10),保护层(10)含有硅及氮。进而,保护层(10)是氧化镁,该氧化镁含有原子数为5×1018个/cm3~2×1021个/cm3的硅和原子数为1×1018个/cm3~8×1021个/cm3的氮。由于按这种结构而形成,因而提供下述等离子显示板,上述等离子显示板可缩短放电延迟时间并具有相对于施加电压而产生放电的优良的响应性,与此同时抑制该放电延迟时间相对于温度的变化。
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公开(公告)号:CN100353478C
公开(公告)日:2007-12-05
申请号:CN200480000343.2
申请日:2004-03-03
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 一种放电延迟时间短且具有对于电压施加的放电产生的优良的响应性,同时抑制了其放电延迟时间对于温度的变化的等离子体显示板。是形成电介质层(9)使其覆盖在前面基板(4)上形成的扫描电极(5)以及维持电极(6),并在该电介质层(9)上形成保护层(10)的等离子体显示板,保护层(10)包含碳元素以及硅元素。而且,保护层(10)是包含原子数为5×1018个/cm3~2.0×1021个/cm3的硅元素,和原子数为1×1018个/cm3~2.0×1021个/cm3的碳元素的氧化镁。
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公开(公告)号:CN1811009B
公开(公告)日:2011-12-14
申请号:CN200610006980.1
申请日:2006-01-26
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , H01J37/3423
Abstract: 一种成膜装置,具有:在其内部形成实施成膜处理的减压空间的处理容器;保持被实施所述成膜处理的基材的基材保持部;支持靶的靶支持部;向所述靶支持部施加电力,使得在所述减压空间中产生等离子体的电源装置,其中,所述靶在其表面上具有由粉体材料构成的粉体靶配置在其内周面上的凹部。通过使用所述靶进行成膜处理,可以提高成膜速度的面内均匀性,实现稳定的成膜。
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公开(公告)号:CN101138063A
公开(公告)日:2008-03-05
申请号:CN200680007629.2
申请日:2006-04-07
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 本发明提供一种PDP(21),其具备形成多个显示电极(4),且以第一电介质层(6)及保护膜(7)覆盖显示电极(4)的前面板(22),和具有沿与显示电极(4)正交的方向形成、并以第二电介质层(基底电介质层(9))覆盖的多个地址电极(10)的背面板(23),其中,保护膜(7)形成为具有粒状的结晶集合而成的结构,结晶的粒径大,且邻接的结晶间的空隙小。
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公开(公告)号:CN101138063B
公开(公告)日:2010-06-16
申请号:CN200680007629.2
申请日:2006-04-07
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 本发明提供一种PDP(21),其具备形成多个显示电极(4),且以第一电介质层(6)及保护膜(7)覆盖显示电极(4)的前面板(22);和具有沿与显示电极(4)正交的方向形成、并以第二电介质层(基底电介质层(9))覆盖的多个地址电极(10)的背面板(23),其中,保护膜(7)形成为具有粒状的结晶集合而成的结构,结晶的粒径大,且邻接的结晶间的空隙小。
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公开(公告)号:CN100345241C
公开(公告)日:2007-10-24
申请号:CN200480000651.5
申请日:2004-05-14
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 一种等离子显示板形成有电介质层(9)使其覆盖前面基板(4)上形成的扫描电极(5)及维持电极(6),并在该电介质层(9)上形成保护层(10),保护层(10)含有硅及氮。进而,保护层(10)是氧化镁,该氧化镁含有原子数为5×1018个/cm3~2×1021个/cm3的硅和原子数为1×1018个/cm3~8×1021个/cm3的氮。由于按这种结构而形成,因而提供下述等离子显示板,上述等离子显示板可缩短放电延迟时间并具有相对于施加电压而产生放电的优良的响应性,与此同时抑制该放电延迟时间相对于温度的变化。
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公开(公告)号:CN1811009A
公开(公告)日:2006-08-02
申请号:CN200610006980.1
申请日:2006-01-26
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , H01J37/3423
Abstract: 一种成膜装置,具有:在其内部形成实施成膜处理的减压空间的处理容器;保持被实施所述成膜处理的基材的基材保持部;支持靶的靶支持部;向所述靶支持部施加电力,使得在所述减压空间中产生等离子体的电源装置,其中,所述靶在其表面上具有由粉体材料构成的粉体靶配置在其内周面上的凹部。通过使用所述靶进行成膜处理,可以提高成膜速度的面内均匀性,实现稳定的成膜。
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