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发明公开
布局数据检验方法、掩模图案检验方法及电路动作检验方法无效

公开(公告)号：CN1667505A

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：CN200510054376.1

申请日：2005-03-10

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 向井清士 , 伊藤光实 , 尾添律子 , 大桥达夫 , 辻川洋行

IPC: G03F1/08 , H01L21/027 , H01L21/82

CPC classification number: G03F1/70 , G03F7/705

Abstract: 一种检出方法，从掩模图案抽出制造上成问题的缺陷。掩模图案是使在光刻蚀工序中使用的光掩膜的掩模图案变形，以便得到近似于所需的设计图案的复制图象。该检出方法包括：决定光刻蚀工序中的曝光量的工序；根据曝光量，使用计算机，进行光刻蚀工序的模拟的工序；确认是否能够获得所需要的设计图案的工序；特定故障部位后输出的工序。

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