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公开(公告)号:CN107516471B
公开(公告)日:2019-10-25
申请号:CN201710679587.7
申请日:2014-02-21
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: G09F9/30 , H01L21/336 , H01L27/32 , H05B33/26 , H01L51/50 , H05B33/12 , H05B33/22 , H01L29/786
Abstract: 本发明涉及发光面板。一种薄膜半导体基板,具备顶栅型的第1TFT(10)及第2TFT(20)和数据线(源极布线(32)),第1TFT(10)包括第1半导体层(11)、第1栅极绝缘膜(12)、第1栅电极(10G)、第1源电极(10S)及第1漏电极(10D)、以及第1保护层(13),第2TFT(20)包括第2半导体层(21)、第2栅极绝缘膜(22)、第2栅电极(20G)、第2源电极(20S)及第2漏电极(20D)、以及第2保护层(23),数据线与第1源电极(10S)连接,第1漏电极(10D)是第2栅电极(20G)延伸而构成的,第2栅电极(20G)的厚度比数据线的厚度薄。
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公开(公告)号:CN103314444A
公开(公告)日:2013-09-18
申请号:CN201280004416.X
申请日:2012-10-23
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L51/50
CPC classification number: H01L29/786 , H01L21/02532 , H01L21/0262 , H01L21/02675 , H01L27/3262 , H01L29/6675 , H01L29/66765 , H01L29/78618 , H01L29/78696
Abstract: 薄膜半导体器件(100)具备:栅电极(120)、沟道层(140)、第1非晶半导体层(150)、沟道保护层(160)、在沟道层(140)的两侧面形成的一对第2非晶半导体层(171、172)、和经由第2非晶半导体层(171、172)与沟道层(140)的侧面接触的一对接触层(181、182),栅电极(120)、沟道层(140)、第1非晶半导体层(150)以及沟道保护层(160)层叠成俯视时外形轮廓线一致,第1非晶半导体层(150)的局部能级密度比第2非晶半导体层(171、172)的局部能级密度高,第2非晶半导体层(171、172)的带隙比第1非晶半导体层(150)的带隙大。
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公开(公告)号:CN103026492A
公开(公告)日:2013-04-03
申请号:CN201280002085.6
申请日:2012-02-06
Applicant: 松下电器产业株式会社 , 松下液晶显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/20 , H01L21/205 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/786 , H01L29/04 , H01L29/6675 , H01L29/78618 , H01L29/78669 , H01L29/78678 , H01L29/78687 , H01L29/78696
Abstract: 本发明提供一种能抑制突增现象、且具有优异的TFT特性的薄膜晶体管器件及其制造方法。薄膜晶体管器件具备:栅电极(2),其形成于基板(1)上;栅极绝缘膜(3),其形成于栅电极(2)上;结晶硅薄膜(4),其形成于栅极绝缘膜(3)上;第1半导体膜(5),其形成于结晶硅薄膜(4)上;一对第2半导体膜(6),其形成于第1半导体膜(5)上;源电极(8S),其形成于一对第2半导体膜(6)的一方的上方;以及漏电极(8D),其形成于一对第2半导体膜(6)的另一方的上方,将结晶硅薄膜(4)和第1半导体膜(5)的导带下端的能级分别设为ECP、EC1,则ECP
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公开(公告)号:CN104934437A
公开(公告)日:2015-09-23
申请号:CN201510007493.6
申请日:2015-01-07
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor: 钟之江有宣
Abstract: 提供一种使用氧化物半导体的顶部栅极结构的TFT基板,该TFT基板在实现接触区域的低电阻化的同时,进一步提高了对水分的阻隔性。TFT基板(1)具备第1水分阻隔层(6),所述第1水分阻隔层(6)被设置为覆盖栅极绝缘层(4)以及栅电极(5),并且,被设置为覆盖氧化物半导体层(3)的接触区域(3a1、3a2)上的、除了接触区域(3a1)与源电极(8)的接合部分、以及接触区域(3a2)与漏电极(9)的接合部分之外的区域、和基板(2)上的不存在氧化物半导体层(3)的区域。第1水分阻隔层(6)包含金属氧化物,采用原子层沉积法形成。
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公开(公告)号:CN102576722A
公开(公告)日:2012-07-11
申请号:CN201080003406.5
申请日:2010-09-29
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor: 钟之江有宣
IPC: H01L27/32 , H01L29/786 , H01L21/77
CPC classification number: H01L27/3276
Abstract: EL显示面板具有EL部和薄膜半导体部,EL部包括阳极电极、阴极电极和发光层,薄膜半导体部具有基板、栅电极、栅极绝缘膜、半导体层、第1电极、第2电极、层间绝缘膜、在层间绝缘膜上配置的栅极布线(21)、在层间绝缘膜上与栅极布线(21)同层且与栅极布线(21)并行地配置的电源布线(23)、在层间绝缘膜上与栅极布线(21)和电源布线(23)同层且与栅极布线(21)和电源布线(23)并行地配置的辅助布线(25)。
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公开(公告)号:CN111081734A
公开(公告)日:2020-04-28
申请号:CN201911126328.7
申请日:2015-01-07
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor: 钟之江有宣
IPC: H01L27/32 , H01L29/786 , H01L51/00 , H01L51/52 , H01L21/34
Abstract: 提供使用氧化物半导体的薄膜晶体管元件基板及其制造方法、和采用该薄膜晶体管元件基板的有机EL显示装置,该薄膜晶体管元件基板在实现接触区域的低电阻化的同时,进一步提高了对水分的阻隔性。薄膜晶体管元件基板(1)具备第1水分阻隔层(6),所述第1水分阻隔层(6)被设置为覆盖栅极绝缘层(4)以及栅电极(5),并且,被设置为覆盖氧化物半导体层(3)的接触区域(3a1、3a2)上的、除了接触区域(3a1)与源电极(8)的接合部分、以及接触区域(3a2)与漏电极(9)的接合部分之外的区域、和基板(2)上的不存在氧化物半导体层(3)的区域。第1水分阻隔层(6)包含金属氧化物,采用原子层沉积法形成。
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公开(公告)号:CN104934437B
公开(公告)日:2019-12-13
申请号:CN201510007493.6
申请日:2015-01-07
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor: 钟之江有宣
Abstract: 提供一种使用氧化物半导体的顶部栅极结构的TFT基板,该TFT基板在实现接触区域的低电阻化的同时,进一步提高了对水分的阻隔性。TFT基板(1)具备第1水分阻隔层(6),所述第1水分阻隔层(6)被设置为覆盖栅极绝缘层(4)以及栅电极(5),并且,被设置为覆盖氧化物半导体层(3)的接触区域(3a1、3a2)上的、除了接触区域(3a1)与源电极(8)的接合部分、以及接触区域(3a2)与漏电极(9)的接合部分之外的区域、和基板(2)上的不存在氧化物半导体层(3)的区域。第1水分阻隔层(6)包含金属氧化物,采用原子层沉积法形成。
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公开(公告)号:CN104350533A
公开(公告)日:2015-02-11
申请号:CN201480001305.2
申请日:2014-02-21
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: G09F9/30 , H01L21/336 , H01L27/32 , H01L29/786 , H01L51/50 , H05B33/12 , H05B33/22 , H05B33/26
CPC classification number: H01L27/3276 , G09F9/30 , H01L27/1225 , H01L27/1259 , H01L27/3246 , H01L27/3262 , H01L29/6656 , H01L29/66757 , H01L29/66772 , H01L29/66969 , H01L29/786 , H01L29/78618 , H01L29/7869 , H01L2227/323 , H05B33/12 , H05B33/22 , H05B33/26
Abstract: 一种薄膜半导体基板,具备顶栅型的第1TFT(10)及第2TFT(20)和数据线(源极布线(32)),第1TFT(10)包括第1半导体层(11)、第1栅极绝缘膜(12)、第1栅电极(10G)、第1源电极(10S)及第1漏电极(10D)、以及第1保护层(13),第2TFT(20)包括第2半导体层(21)、第2栅极绝缘膜(22)、第2栅电极(20G)、第2源电极(20S)及第2漏电极(20D)、以及第2保护层(23),数据线与第1源电极(10S)连接,第1漏电极(10D)是第2栅电极(20G)延伸而构成的,第2栅电极(20G)的厚度比数据线的厚度薄。
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公开(公告)号:CN103189970A
公开(公告)日:2013-07-03
申请号:CN201180029746.X
申请日:2011-10-28
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L21/336 , G09F9/30 , H01L29/786
CPC classification number: H01L27/04 , G02F1/136213 , H01L21/77 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L27/1288 , H01L27/3262 , H01L29/42384 , H01L29/4908 , H01L29/78633
Abstract: 薄膜半导体装置包括:具备遮光性的栅电极(51)、第1绝缘层(120)、沟道层(54)、第2绝缘层(131)、源电极(53)以及漏电极(52)的半导体元件部(50);以及具备由透明导电性材料形成的第1电容电极(61)、电介质层(120)和第2电容电极(62)的电容部(60);栅电极(51)、沟道层(54)以及第2绝缘层(131)层叠为俯视时外形轮廓线一致。
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公开(公告)号:CN102741905A
公开(公告)日:2012-10-17
申请号:CN201080003324.0
申请日:2010-09-29
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor: 钟之江有宣
CPC classification number: H01L51/5228 , H01L27/3262 , H01L27/3276 , H01L27/3279
Abstract: 本发明的EL显示面板(1)具备有机EL元件(10)和对有机EL元件(10)的发光进行控制的薄膜半导体部。有机EL元件包括下部电极(12)、有机发光层(13)及上部电极(14)。薄膜半导体部包括基板(300)、第1栅电极(310G)、栅极绝缘膜(330)、第1半导体层(311)、第1源电极(310S)、与第1源电极(310S)形成于相同的层的第2漏电极(320D)、与第2漏电极同层且电连接的第1电源布线(23A)及形成为覆盖第1源电极和第2漏电极的第1层间绝缘膜(340)。进而,具备:配置于第1层间绝缘膜上且与第1栅电极连接的栅极布线(21)、与栅极布线同层且与第1电源布线连接的第2电源布线(23B)及与第2电源布线同层且与上部电极连接的辅助布线(25)。
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