公开(公告)号：CN1166810C

公开(公告)日：2004-09-15

申请号：CN97117185.8

申请日：1997-05-21

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 本田和义 ,  小田桐优 ,  高桥喜代司 ,  越后纪康 ,  砂流伸树

IPC: C23C14/22 ,  B05B1/24 ,  B05B17/00

CPC classification number: B05D1/60 ,  B05B17/04 ,  C23C14/246 ,  C23C14/562 ,  G11B5/85

Abstract: 一种形成膜层的方法，包括下列步骤：蒸发液态的沉积材料；该蒸发后的沉积材料加到一可旋转的加热表面上从而使该蒸发后的沉积材料沉积到该加热表面上；加热和蒸发位于，旋转的加热表面上的该已沉积的沉积材料，同时将该已沉积的沉积材料移动；以及将在旋转的加热表面上被蒸发的沉积材料沉积在沉积表面上，将该沉积材料加到加热表面上的使在蒸发步骤中蒸发的沉积材料不能线性地到达沉积表面的位置处。

公开(公告)号：CN1177652A

公开(公告)日：1998-04-01

申请号：CN97117185.8

申请日：1997-05-21

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 本田和义 ,  小田桐优 ,  高桥喜代司 ,  越后纪康 ,  砂流伸树

IPC: C23C14/22 ,  B05B1/24 ,  B05B17/00

CPC classification number: B05D1/60 ,  B05B17/04 ,  C23C14/246 ,  C23C14/562 ,  G11B5/85

Abstract: 一种形成薄膜的方法,包括下列步骤:将液态的沉积材料加到加热表面上;加热和蒸发位于,加热表面上的沉积材料,同时将沉积材料移动;以及将沉积材料沉积在沉积表面上。将该沉积材料加到加热表面上的使蒸发的沉积材料不能到达沉积表面的位置处。