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公开(公告)号：CN1277457A
公开(公告)日：2000-12-20
申请号：CN00106537.8
申请日：2000-04-07
Applicant: 松下电器产业株式会社 , 松下电子工业株式会社
CPC classification number: C23C14/505 , H01J9/20 , H01K3/005 , Y10T428/131 , Y10T428/2991 , Y10T428/8305
Abstract: 提供一种薄膜形成方法,即使象各种蒸镀法和溅射法的成膜方法那样,使用只利用从特定方向飞来的成膜粒子的成膜方法,也可以在包含旋转椭圆体形状的被镀体衬底上形成均匀膜厚的薄膜。一种利用从成膜源沿一定方向飞来的成膜粒子在包括旋转椭圆体形状的衬底上形成薄膜的薄膜制造方法,以旋转椭圆体形状的旋转轴为中心,使衬底以一定的角速度旋转,进行自旋运动,同时,以旋转轴上的旋转椭圆体形状的2焦点间的中点附近为中心,进行使衬底以一定周期在同一面内旋转振动的摇摆运动,从而在衬底上形成薄膜。由此,即使是包括旋转椭圆体形状的衬底,也能够在衬底的外周方向和自旋运动的旋转轴方向上形成均匀的薄膜。
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公开(公告)号：CN100334684C
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN00106537.8
申请日：2000-04-07
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: C23C14/505 , H01J9/20 , H01K3/005 , Y10T428/131 , Y10T428/2991 , Y10T428/8305
Abstract: 提供一种薄膜形成方法，即使象各种蒸镀法和溅射法的成膜方法那样，使用只利用从特定方向飞来的成膜粒子的成膜方法，也可以在包含旋转椭圆体形状的被镀体衬底上形成均匀膜厚的薄膜。一种利用从成膜源沿一定方向飞来的成膜粒子在包括旋转椭圆体形状的衬底上形成薄膜的薄膜制造方法，以旋转椭圆体形状的旋转轴为中心，使衬底以一定的角速度旋转，进行自旋运动，同时，以旋转轴上的旋转椭圆体形状的2焦点间的中点附近为中心，进行使衬底以一定周期在同一面内旋转振动的摇摆运动，从而在衬底上形成薄膜。由此，即使是包括旋转椭圆体形状的衬底，也能够在衬底的外周方向和自旋运动的旋转轴方向上形成均匀的薄膜。
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