Patent search ap:("株式会社尼康") AND inv:"冨冈贞祐" Page 1

1.

发明公开
相移掩模、检测元件、散焦量检测方法、焦点调整方法以及器件的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN116830035A

公开(公告)日：2023-09-29

申请号：CN202280014132.2

申请日：2022-04-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 泷优介 , 矢岛海都 , 牛田正男 , 冨冈贞祐 , 原笃史 , 铃木一弘 , 樋口潔

IPC: G03F1/44

Abstract: 本发明涉及相移掩模(100、200)，其具有基材(10)、第1半透过层(20)和第2半透过层(20)、以及遮光层(30)，在上述基材的表面形成有测量标记，该测量标记具有下述区域沿着与上述表面平行的排列方向相邻地设置的图案：配置有第1半透过层的第1区域(A1)；上述基材表面露出的第2区域(B1)；配置有上述遮光层的第3区域(C)；配置有第2半透过层的第4区域(A2)；以及上述基材表面露出的第5区域(B2)。

Patent Agency Ranking