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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101430424A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200810170976.8
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种污染物质去除方法及装置，以及曝光方法及装置。更具体地，提供一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN1720110B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200380104822.4
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B08B3/08 , G03F7/20 , G02B3/00 , G03F7/22 , H01L21/027
Abstract: 一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN1720110A
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：CN200380104822.4
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B08B3/08 , G03F7/20 , G02B3/00 , G03F7/22 , H01L21/027
Abstract: 一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN101430423B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200810170975.3
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及一种污染物质去除方法及装置，以及曝光方法及装置。更具体地，涉及一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN101430423A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200810170975.3
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及一种污染物质去除方法及装置，以及曝光方法及装置。更具体地，涉及一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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