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公开(公告)号：CN102428409A
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN201080021725.9
申请日：2010-05-19
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 渡边俊二
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/70916 , G03F7/70975
Abstract: 本发明提供一种清洁方法、曝光方法、及器件制造方法。所述清洁方法包括透过液体将在基板曝光时所使用的与该液体接触的构件进行清洁(S2)。该方法包括用碱溶液清洁该构件(S3)，接着，用包括过氧化氢的溶液清洁该构件(S4)。
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公开(公告)号：CN1720110B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200380104822.4
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B08B3/08 , G03F7/20 , G02B3/00 , G03F7/22 , H01L21/027
Abstract: 一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN101430424A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200810170976.8
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种污染物质去除方法及装置，以及曝光方法及装置。更具体地，提供一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN101528447B
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN200780034450.0
申请日：2007-09-13
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: B29D11/00009 , H01L33/52
Abstract: 一种光学元件的制造方法，包括：准备具有凹部的模型和至少在一部分上具有贯通孔的板状构件，并将前述板状构件配置在前述模型的上面，以使前述贯通孔的至少一个与前述模型的凹部相对的工程，其中，该凹部是作为使第一树脂形成所规定形状的光学构件，该板状构件是由第二树脂形成；将前述第一树脂的液状前驱物注入到由前述模型的凹部及前述板状构件的贯通孔所形成的空间中，以以使与前述板状构件的至少一部分相接触的工程；使前述液状前驱物保持与前述板状构件相接触的状态而进行聚合的工程；将由作为前述液状前驱物的聚合物的第一树脂所构成的光学构件和前述板状构件，从前述模型上一体拆除而得到光学元件的工程。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101528447A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780034450.0
申请日：2007-09-13
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: B29D11/00009 , H01L33/52
Abstract: 一种光学元件的制造方法，包括：准备具有凹部的模型和至少在一部分上具有贯通孔的板状构件，并将前述板状构件配置在前述模型的上面，以使前述贯通孔的至少一个与前述模型的凹部相对的工程，其中，该凹部是作为使第一树脂形成所规定形状的光学构件，该板状构件是由第二树脂形成；将前述第一树脂的液状前驱物注入到由前述模型的凹部及前述板状构件的贯通孔所形成的空间中，以使与前述板状构件的至少一部分相接触的工程；使前述液状前驱物保持与前述板状构件相接触的状态而进行聚合的工程；将由作为前述液状前驱物的聚合物的第一树脂所构成的光学构件和前述板状构件，从前述模型上一体拆除而得到光学元件的工程。
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公开(公告)号：CN1720110A
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：CN200380104822.4
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B08B3/08 , G03F7/20 , G02B3/00 , G03F7/22 , H01L21/027
Abstract: 一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN102918630A
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201180026454.0
申请日：2011-04-04
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 清洗方法包括：将清洗用的第1液体供给到接液构件而对接液构件进行清洗；回收供给到接液构件的第1液体；在用第1液体对接液构件进行了清洗之后，将与第1液体不同的第2液体供给到接液构件；回收供给到接液构件的第2液体；以及执行使回收的第2液体中包含的第1液体的浓度成为规定浓度以下的处理。
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公开(公告)号：CN101430423B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200810170975.3
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及一种污染物质去除方法及装置，以及曝光方法及装置。更具体地，涉及一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN101430423A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200810170975.3
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及一种污染物质去除方法及装置，以及曝光方法及装置。更具体地，涉及一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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