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公开(公告)号：CN1720110A
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：CN200380104822.4
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B08B3/08 , G03F7/20 , G02B3/00 , G03F7/22 , H01L21/027
Abstract: 一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN1720110B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200380104822.4
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B08B3/08 , G03F7/20 , G02B3/00 , G03F7/22 , H01L21/027
Abstract: 一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN1371027A
公开(公告)日：2002-09-25
申请号：CN02104628.X
申请日：2002-02-19
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/706 , H01J2237/30433 , H01J2237/30461
Abstract: 一个计算机系统包括一个第一计算机和一个第二计算机;一个光学设备需要实现的目标信息输入到该第一计算机中;该第二计算机根据借助于通讯线路从第一计算机接收来的目标信息并使用投射光学系统需要满足的波前像差量作为标准来确定一个投射光学系统的规格。因此,在制造投射光学系统的过程中,通过根据测量波前像差的结果来调节投射光学系统,像差的高阶分量可以在对低阶分量进行修正的同时进行修正以满足该规格;因此,该制造方法变得简单。而且,所述的投射光学系统能够保证实现所述的曝光设备所需实现的目标。
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公开(公告)号：CN101258581B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200680032751.5
申请日：2006-09-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
Abstract: 本发明提供曝光装置。曝光装置(EX)具备浸液系统(1)、第一移动体(4)、和给定构件(30)。曝光装置(EX)经由光学构件(FL)和液体(LQ)将基板(P)曝光。浸液系统(1)进行上述液体(LQ)的供给和回收。第一移动体(4)在第一区域(10)中移动，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。给定构件(30)在上述第一移动体(4)离开上述光学构件(FL)的对置位置后被从上述第一移动体(4)上取下，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101430424A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200810170976.8
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种污染物质去除方法及装置，以及曝光方法及装置。更具体地，提供一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN101258581A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200680032751.5
申请日：2006-09-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
Abstract: 本发明提供曝光装置。曝光装置(EX)具备浸液系统(1)、第一移动体(4)、和给定构件(30)。曝光装置(EX)经由光学构件(FL)和液体(LQ)将基板(P)曝光。浸液系统(1)进行上述液体(LQ)的供给和回收。第一移动体(4)在第一区域(10)中移动，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。给定构件(30)在上述第一移动体(4)离开上述光学构件(FL)的对置位置后被从上述第一移动体(4)上取下，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。
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公开(公告)号：CN101430423B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200810170975.3
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及一种污染物质去除方法及装置，以及曝光方法及装置。更具体地，涉及一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN101430423A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200810170975.3
申请日：2003-11-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明涉及一种污染物质去除方法及装置，以及曝光方法及装置。更具体地，涉及一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。
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公开(公告)号：CN100401191C
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN02104628.X
申请日：2002-02-19
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/706 , H01J2237/30433 , H01J2237/30461
Abstract: 一个计算机系统包括一个第一计算机和一个第二计算机；一个光学设备需要实现的目标信息输入到该第一计算机中；该第二计算机根据借助于通讯线路从第一计算机接收来的目标信息并使用投射光学系统需要满足的波前像差量作为标准来确定一个投射光学系统的规格。因此，在制造投射光学系统的过程中，通过根据测量波前像差的结果来调节投射光学系统，像差的高阶分量可以在对低阶分量进行修正的同时进行修正以满足该规格；因此，该制造方法变得简单。而且，所述的投射光学系统能够保证实现所述的曝光设备所需实现的目标。
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