硅微粒及其制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112105583A

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN201980031382.5

    申请日:2019-05-15

    Abstract: 提供:可有效地防止氧化、具有接近非晶的微晶直径的硅微粒。本发明的硅微粒的特征在于,一次颗粒的平均直径为30~900nm,微晶直径低于10nm,氯浓度处于1~1量0%质)量与比%表,氧面浓积(度S:(mC2/og:)之质比(Co/S)低于0.05。另外,本发明的硅微粒的制造方法如下:在反应器内,将包含三氯硅烷的气体加热至600~950℃的温度,使三氯硅烷热分解而生成含氯的硅微粒前体,然后捕集前述硅微粒前体,接着,将捕集到的前述硅微粒前体在非活性气体的供给下或在减压下以750~900℃的温度加热来进行脱氯。

    氮化铝单结晶基板的洗净方法及层叠体

    公开(公告)号:CN106605291B

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN201580047184.X

    申请日:2015-08-21

    Inventor: 有行正男

    Abstract: 本发明的课题在于提供不会使氮化铝单结晶基板表面被蚀刻,而有效地去除存在于该基板表面尺寸1μm以下的细微异物的方法。本发明的解决手段是使用选自由氢氧化钾及氢氧化钠所组成的群的碱的浓度为0.01~1质量%的碱性水溶液,及硬度较氮化铝单结晶低的高分子化合物材料,以高分子化合物材料吸收该碱性水溶液的状态,对氮化铝单结晶基板表面进行擦刷洗净。

    氮化铝单结晶基板的洗净方法及层叠体

    公开(公告)号:CN106605291A

    公开(公告)日:2017-04-26

    申请号:CN201580047184.X

    申请日:2015-08-21

    Inventor: 有行正男

    Abstract: 本发明的课题在于提供不会使氮化铝单结晶基板表面被蚀刻,而有效地去除存在于该基板表面尺寸1μm以下的细微异物的方法。本发明的解决手段是使用选自由氢氧化钾及氢氧化钠所组成的群的碱的浓度为0.01~1质量%的碱性水溶液,及硬度较氮化铝单结晶低的高分子化合物材料,以高分子化合物材料吸收该碱性水溶液的状态,对氮化铝单结晶基板表面进行擦刷洗净。

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