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公开(公告)号:CN113939477A
公开(公告)日:2022-01-14
申请号:CN202080041940.9
申请日:2020-06-05
Applicant: 株式会社德山
IPC: C01G23/047 , C01B33/18 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K9/10
Abstract: 本发明提供了一种与现有的二氧化硅二氧化钛复合氧化物颗粒相比,在填充树脂等中使用时可以具有优异的流动性和良好的透明性的非晶质二氧化硅二氧化钛复合氧化物粉末。一种由未经表面处理剂处理的非晶质二氧化硅二氧化钛复合氧化物颗粒构成的粉末,对于该非晶质二氧化硅二氧化钛复合氧化物粉末,在测定波长589nm处的颗粒的折射率为1.46以上,基于体积的累积50%直径为0.1μm至2.0μm,粒径为5.0μm以上的颗粒的含量为10ppm以下,并且所述粉末在大气中110℃下干燥12小时,所述干燥粉末在25℃、相对湿度85%的条件下储存24小时吸湿,根据吸湿前的质量X和吸湿后的质量Y,通过(Y‑X)/X×100算出的吸水率为0.8质量%以下;在制造二氧化硅包覆的二氧化硅二氧化钛复合氧化物时,可以通过严格调整二氧化硅包覆条件,并在900℃以上烧成来制造。
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公开(公告)号:CN101160261A
公开(公告)日:2008-04-09
申请号:CN200580049421.2
申请日:2005-05-19
Applicant: 株式会社德山
IPC: C01B33/12
CPC classification number: C01B33/183 , B41M5/5218 , B82Y30/00 , C01B33/12 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C08K3/36 , C09C1/30 , C09C1/3081 , C09D7/43 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , C09K3/32 , D21H17/68 , D21H19/40 , D21H21/52 , Y10T428/2993
Abstract: 本发明提供一种微粒状二氧化硅,其可以适于用作像添加于水或液状树脂、涂料等液体中,在进行其粘度或触变性等粘弹性特性的调节之时所用的增粘剂那样的粘弹性调节剂;硅橡胶或密封胶的增强·填充剂;CMP(化学机械抛光)的抛光剂;喷墨记录纸的表面涂布剂。所述微粒状二氧化硅的BET比表面积(S)为130~380m2/g,另外α值分析对象范围为20nm~30nm的分形参数(α1)满足下述式(1),并且α值分析对象范围为30nm~50nm的分形参数(α2)满足下述式(2)。α1+0.00175S<2.518…(1),α2+0.00174S<2.105…(2)。
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公开(公告)号:CN101160261B
公开(公告)日:2010-12-08
申请号:CN200580049421.2
申请日:2005-05-19
Applicant: 株式会社德山
IPC: C01B33/12
CPC classification number: C01B33/183 , B41M5/5218 , B82Y30/00 , C01B33/12 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C08K3/36 , C09C1/30 , C09C1/3081 , C09D7/43 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , C09K3/32 , D21H17/68 , D21H19/40 , D21H21/52 , Y10T428/2993
Abstract: 本发明提供一种微粒状二氧化硅,其可以适于用作像添加于水或液状树脂、涂料等液体中,在进行其粘度或触变性等粘弹性特性的调节之时所用的增粘剂那样的粘弹性调节剂;硅橡胶或密封胶的增强·填充剂;CMP(化学机械抛光)的抛光剂;喷墨记录纸的表面涂布剂。所述微粒状二氧化硅的BET比表面积(S)为130~380m2/g,另外α值分析对象范围为20nm~30nm的分形参数(α1)满足下述式(1),并且α值分析对象范围为30nm~50nm的分形参数(α2)满足下述式(2)。α1+0.00175S<2.518...(1)α2+0.00174S<2.105...(2)
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公开(公告)号:CN101272997A
公开(公告)日:2008-09-24
申请号:CN200680035533.7
申请日:2006-09-26
Applicant: 株式会社德山
IPC: C04B35/111 , C04B35/581 , H01L33/00
CPC classification number: C04B35/111 , C04B35/581 , C04B41/009 , C04B41/5031 , C04B41/87 , C04B2111/80 , H01L33/486 , H01L33/60 , H01L2924/0002 , Y10T428/24479 , C04B41/0072 , C04B41/4556 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种发光元件搭载用陶瓷烧结体,其由如下所述的陶瓷烧结体形成:其具有光反射面,该光反射面对250nm~750nm的范围的各波长的光的反射率为70%以上,在将对750nm的光的反射率设为RA%、对300nm的光的反射率设为RB%时,成立|RA-RB|≤20的关系,并且按照基于JIS H8504(1990)的带试验的方法对该光反射面进行带剥离试验时,不具有从该面剥离的层。通过该发光元件搭载用陶瓷烧结体,从紫外线区域到可见光区域整个区域的光反射率高。
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公开(公告)号:CN113939477B
公开(公告)日:2023-09-01
申请号:CN202080041940.9
申请日:2020-06-05
Applicant: 株式会社德山
IPC: C08K3/22 , C01G23/047 , C01B33/18 , C08K3/36 , C08K9/10
Abstract: 本发明提供了一种与现有的二氧化硅二氧化钛复合氧化物颗粒相比,在填充树脂等中使用时可以具有优异的流动性和良好的透明性的非晶质二氧化硅二氧化钛复合氧化物粉末。一种由未经表面处理剂处理的非晶质二氧化硅二氧化钛复合氧化物颗粒构成的粉末,对于该非晶质二氧化硅二氧化钛复合氧化物粉末,在测定波长589nm处的颗粒的折射率为1.46以上,基于体积的累积50%直径为0.1μm至2.0μm,粒径为5.0μm以上的颗粒的含量为10ppm以下,并且所述粉末在大气中110℃下干燥12小时,所述干燥粉末在25℃、相对湿度85%的条件下储存24小时吸湿,根据吸湿前的质量X和吸湿后的质量Y,通过(Y‑X)/X×100算出的吸水率为0.8质量%以下;在制造二氧化硅包覆的二氧化硅二氧化钛复合氧化物时,可以通过严格调整二氧化硅包覆条件,并在900℃以上烧成来制造。
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公开(公告)号:CN112105583A
公开(公告)日:2020-12-18
申请号:CN201980031382.5
申请日:2019-05-15
Applicant: 株式会社德山
Abstract: 提供:可有效地防止氧化、具有接近非晶的微晶直径的硅微粒。本发明的硅微粒的特征在于,一次颗粒的平均直径为30~900nm,微晶直径低于10nm,氯浓度处于1~1量0%质)量与比%表,氧面浓积(度S:(mC2/og:)之质比(Co/S)低于0.05。另外,本发明的硅微粒的制造方法如下:在反应器内,将包含三氯硅烷的气体加热至600~950℃的温度,使三氯硅烷热分解而生成含氯的硅微粒前体,然后捕集前述硅微粒前体,接着,将捕集到的前述硅微粒前体在非活性气体的供给下或在减压下以750~900℃的温度加热来进行脱氯。
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公开(公告)号:CN106605291B
公开(公告)日:2020-05-05
申请号:CN201580047184.X
申请日:2015-08-21
Applicant: 株式会社德山
Inventor: 有行正男
IPC: H01L21/304 , C23C16/34 , C30B25/18 , C30B29/38 , C30B33/10 , H01L21/205
Abstract: 本发明的课题在于提供不会使氮化铝单结晶基板表面被蚀刻,而有效地去除存在于该基板表面尺寸1μm以下的细微异物的方法。本发明的解决手段是使用选自由氢氧化钾及氢氧化钠所组成的群的碱的浓度为0.01~1质量%的碱性水溶液,及硬度较氮化铝单结晶低的高分子化合物材料,以高分子化合物材料吸收该碱性水溶液的状态,对氮化铝单结晶基板表面进行擦刷洗净。
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公开(公告)号:CN106605291A
公开(公告)日:2017-04-26
申请号:CN201580047184.X
申请日:2015-08-21
Applicant: 株式会社德山
Inventor: 有行正男
IPC: H01L21/304 , C23C16/34 , C30B25/18 , C30B29/38 , C30B33/10 , H01L21/205
Abstract: 本发明的课题在于提供不会使氮化铝单结晶基板表面被蚀刻,而有效地去除存在于该基板表面尺寸1μm以下的细微异物的方法。本发明的解决手段是使用选自由氢氧化钾及氢氧化钠所组成的群的碱的浓度为0.01~1质量%的碱性水溶液,及硬度较氮化铝单结晶低的高分子化合物材料,以高分子化合物材料吸收该碱性水溶液的状态,对氮化铝单结晶基板表面进行擦刷洗净。
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