-
公开(公告)号：CN106555160B
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201610473468.1
申请日：2016-06-24
Applicant: 株式会社思可林集团
Inventor： 大泽笃史
Abstract: 本发明提供一种成膜装置及层叠体。在基材表面进行成膜处理，获得从一侧观察包括透明层与金属性的不透明层的层叠体。在成膜装置中，确定部基于从输入部输入的颜色信息，参照对应数据来确定成膜条件。另外，成膜条件中至少包含透明层的膜厚作为层叠体的颜色调整要素。在从所述一侧将光照射至层叠体的情况下，产生在透明层表面反射的光与在不透明层表面反射的光的干涉作用。能够通过调整透明层的膜厚使所述干涉作用发生变化，而调整层叠体的颜色。因此，能够高精度且稳定地获得所期望的颜色的层叠体。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106555164B
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201610471340.1
申请日：2016-06-24
Applicant: 株式会社思可林集团
Inventor： 大泽笃史
Abstract: 本发明提供一种能高精度且稳定地执行所期望的膜色的成膜处理的技术的成膜装置及数据制作方法。在成膜装置中，确定部基于从输入部输入的颜色信息，参照对应数据来确定成膜条件。另外，成膜条件中至少包含气体供应量作为膜色调整要素。已知一般来说，成膜处理时所供应的气体的种类或其供应量是主要的膜色调整要素。因此，本实施方式与根据成膜装置的操作者的直觉或经验来调整成膜条件的实施方式相比，能高精度且稳定地执行所期望的膜色的成膜处理。
-
公开(公告)号：CN106555160A
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201610473468.1
申请日：2016-06-24
Applicant: 株式会社思可林集团
Inventor： 大泽笃史
CPC classification number: C23C14/0641 , C23C14/0015 , C23C14/0036 , C23C14/0652 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C14/165 , C23C14/352 , C23C14/358 , C23C14/547 , C23C28/322 , C23C28/34
Abstract: 本发明提供一种成膜装置及层叠体。在基材表面进行成膜处理，获得从一侧观察包括透明层与金属性的不透明层的层叠体。在成膜装置中，确定部基于从输入部输入的颜色信息，参照对应数据来确定成膜条件。另外，成膜条件中至少包含透明层的膜厚作为层叠体的颜色调整要素。在从所述一侧将光照射至层叠体的情况下，产生在透明层表面反射的光与在不透明层表面反射的光的干涉作用。能够通过调整透明层的膜厚使所述干涉作用发生变化，而调整层叠体的颜色。因此，能够高精度且稳定地获得所期望的颜色的层叠体。
-
公开(公告)号：CN105470088B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201510617300.9
申请日：2015-09-24
Applicant: 株式会社思可林集团
Abstract: 本发明涉及等离子体处理装置以及等离子体处理方法，提供能够解决振荡等问题的气体供给技术。两个第一供给部(21a)以固定的第一供给量从开口部(22a)向腔室(11)内供给反应性气体。第二供给部(21b)以可变的第二供给量从开口部(22b)向腔室(11)内供给反应性气体。在等离子体处理中，利用PEM法的反馈控制调整第二供给量。这样，由于溅射装置(10)具有进行第二供给量的反馈控制的一个第二供给部(21b)，所以能够消除因存在多个反馈控制所引起的振荡的问题。
-
公开(公告)号：CN106555164A
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201610471340.1
申请日：2016-06-24
Applicant: 株式会社思可林集团
Inventor： 大泽笃史
CPC classification number: C23C14/0015 , C23C14/35 , C23C14/46 , C23C14/548
Abstract: 本发明提供一种能高精度且稳定地执行所期望的膜色的成膜处理的技术的成膜装置及数据制作方法。在成膜装置中，确定部基于从输入部输入的颜色信息，参照对应数据来确定成膜条件。另外，成膜条件中至少包含气体供应量作为膜色调整要素。已知一般来说，成膜处理时所供应的气体的种类或其供应量是主要的膜色调整要素。因此，本实施方式与根据成膜装置的操作者的直觉或经验来调整成膜条件的实施方式相比，能高精度且稳定地执行所期望的膜色的成膜处理。
-
公开(公告)号：CN105470088A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510617300.9
申请日：2015-09-24
Applicant: 株式会社思可林集团
Abstract: 本发明涉及等离子体处理装置以及等离子体处理方法，提供能够解决振荡等问题的气体供给技术。两个第一供给部(21a)以固定的第一供给量从开口部(22a)向腔室(11)内供给反应性气体。第二供给部(21b)以可变的第二供给量从开口部(22b)向腔室(11)内供给反应性气体。在等离子体处理中，利用PEM法的反馈控制调整第二供给量。这样，由于溅射装置(10)具有进行第二供给量的反馈控制的一个第二供给部(21b)，所以能够消除因存在多个反馈控制所引起的振荡的问题。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.031 seconds)
