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公开(公告)号:CN1265110A
公开(公告)日:2000-08-30
申请号:CN98807442.7
申请日:1998-03-27
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: C07F7/08 , H01L21/208 , H01L21/316 , G02B6/12
CPC classification number: H01L21/02164 , H01L21/02123 , H01L21/02282 , H01L21/02381 , H01L21/0242 , H01L21/02532 , H01L21/02601 , H01L21/02628 , H01L21/3121 , H01L21/316 , H01L51/0094
Abstract: 本发明公开了一种有机硅纳米簇组合物及其制造方法,还具体公开了利用该有机硅纳米簇形成的硅薄膜和氧化硅薄膜,以及包括这些膜的电子器件。该有机硅纳米簇能溶于有机溶剂中,用Tauc绘图法测量的其在有机溶剂中的溶液的带隙在3eV-1.2eV之间。