公开(公告)号：CN105321847A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201410459438.6

申请日：2014-09-10

Applicant: 株式会社日立国际电气

Inventor： 田边光朗 ,  柳泽爱彦 ,  汤浅和宏 ,  境正宪 ,  坪田康寿

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: C23C16/4585 ,  B05C9/14 ,  B05C11/1015 ,  C23C16/4411 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45582 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/46 ,  C23C16/463 ,  C23C16/52 ,  H01L21/67248 ,  H05B1/0233

Abstract: 本发明涉及衬底处理装置以及衬底的生产方法，解决了如下问题：衬底载置部外周的热由构成气体分散通道的壁吸收，结果，难以使衬底面内的温度均匀。具有：腔室盖部，具有第一加热机构；衬底载置部，靠近该腔室盖部，并具有用于加热衬底的第二加热机构；处理容器，至少由所述腔室盖部和所述衬底载置部构成；控制部，在所述第二加热机构加热所述衬底载置部时，控制所述第一加热机构从而抑制来自所述第二加热机构的热能从所述衬底载置部向所述腔室盖部热传递。

公开(公告)号：CN105321847B

公开(公告)日：2018-10-26

申请号：CN201410459438.6

申请日：2014-09-10

Applicant: 株式会社日立国际电气

Inventor： 田边光朗 ,  柳泽爱彦 ,  汤浅和宏 ,  境正宪 ,  坪田康寿

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: C23C16/4585 ,  B05C9/14 ,  B05C11/1015 ,  C23C16/4411 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45582 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/46 ,  C23C16/463 ,  C23C16/52 ,  H01L21/67248 ,  H05B1/0233

Abstract: 本发明涉及衬底处理装置以及衬底的生产方法，解决了如下问题：衬底载置部外周的热由构成气体分散通道的壁吸收，结果，难以使衬底面内的温度均匀。具有：腔室盖部，具有第一加热机构；衬底载置部，靠近该腔室盖部，并具有用于加热衬底的第二加热机构；处理容器，至少由所述腔室盖部和所述衬底载置部构成；控制部，在所述第二加热机构加热所述衬底载置部时，控制所述第一加热机构从而抑制来自所述第二加热机构的热能从所述衬底载置部向所述腔室盖部热传递。