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发明公开
制程制作系统、测长系统以及制程制作方法审中-实审

公开(公告)号：CN119256206A

公开(公告)日：2025-01-03

申请号：CN202280096303.0

申请日：2022-05-30

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 藤田浩美 , 川原敏一 , 菅原仁志

IPC: G01B15/04 , H01L21/66

Abstract: 针对每个图像取得条件设定基于设计数据的设计图像，并针对多个设计图像中的每个设计图像设定测长光标。一种制程制作系统，其制作记述了观察对象的测长步骤的制程，其执行如下处理：存储处理，存储包含多个层的观察对象的设计数据；层设定处理，针对观察对象的每个图像取得条件，从多个层中设定一个或多个层；以及测长光标设定处理，在由通过设定处理设定的一个或多个层中存在的设计构成的设计图像中，设定表示观察对象的测长区域的测长光标。

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