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公开(公告)号：CN102464292A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110372138.0
申请日：2011-11-10
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B26/0858 , B81B3/0045 , B81B7/0016 , B81B2201/042 , B81B2203/0109 , B81B2203/0154 , F21S41/675 , G02B26/0833 , H02N1/006 , Y10S359/904
Abstract: 公开了致动器、防护罩、制造方法、光偏转器、扫描仪及投影仪。一种致动器，具有框架元件、一对横梁元件、由所述框架元件通过所述横梁元件旋转支撑的可移动元件、用于使所述可移动元件相对于所述框架元件并围绕作为旋转轴的所述横梁元件旋转的驱动器、以及在所述横梁元件旋转轴线上设置的阻尼元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101346858A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200780000885.3
申请日：2007-04-27
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41J2/45 , B41J2/473 , B82Y20/00 , G02B26/123 , H01S5/18311 , H01S5/18358 , H01S5/3432 , H01S5/423
Abstract: 一种面发光激光阵列，包括设置成二维阵列形式的多个面发光激光二极管元件，其中，从沿第二方向排列的多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于沿同该第二方向垂直的第一方向延伸的直线绘制的多条直线被形成为沿该第一方向具有大致相等的间隔，多个面发光激光二极管元件沿第一方向以被设定为基准值的间隔排列，以及沿第一方向排列的面发光激光二极管元件的数量少于沿第二方向排列的面发光激光二极管元件的数量。
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公开(公告)号：CN102464292B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201110372138.0
申请日：2011-11-10
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G02B26/0858 , B81B3/0045 , B81B7/0016 , B81B2201/042 , B81B2203/0109 , B81B2203/0154 , F21S41/675 , G02B26/0833 , H02N1/006 , Y10S359/904
Abstract: 公开了致动器、防护罩、制造方法、光偏转器、扫描仪及投影仪。一种致动器，具有框架元件、一对横梁元件、由所述框架元件通过所述横梁元件旋转支撑的可移动元件、用于使所述可移动元件相对于所述框架元件并围绕作为旋转轴的所述横梁元件旋转的驱动器、以及在所述横梁元件旋转轴线上设置的阻尼元件。
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公开(公告)号：CN101346858B
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN200780000885.3
申请日：2007-04-27
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41J2/45 , B41J2/473 , B82Y20/00 , G02B26/123 , H01S5/18311 , H01S5/18358 , H01S5/3432 , H01S5/423
Abstract: 一种面发光激光阵列，包括设置成二维阵列形式的多个面发光激光二极管元件，其中，从沿第二方向排列的多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于沿同该第二方向垂直的第一方向延伸的直线绘制的多条直线被形成为沿该第一方向具有大致相等的间隔，多个面发光激光二极管元件沿第一方向以被设定为基准值的间隔排列，以及沿第一方向排列的面发光激光二极管元件的数量少于沿第二方向排列的面发光激光二极管元件的数量。
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公开(公告)号：CN101776224B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201010116997.9
申请日：2007-04-27
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41J2/45 , B41J2/473 , B82Y20/00 , G02B26/123 , H01S5/18311 , H01S5/18358 , H01S5/3432 , H01S5/423
Abstract: 一种面发光激光阵列，包括设置成二维阵列形式的多个面发光激光二极管元件，其中，从沿第二方向排列的多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于沿同该第二方向垂直的第一方向延伸的直线绘制的多条直线被形成为沿该第一方向具有大致相等的间隔，多个面发光激光二极管元件沿第一方向以被设定为基准值的间隔排列，以及沿第一方向排列的面发光激光二极管元件的数量少于沿第二方向排列的面发光激光二极管元件的数量。
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公开(公告)号：CN101776224A
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN201010116997.9
申请日：2007-04-27
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41J2/45 , B41J2/473 , B82Y20/00 , G02B26/123 , H01S5/18311 , H01S5/18358 , H01S5/3432 , H01S5/423
Abstract: 一种面发光激光阵列，包括设置成二维阵列形式的多个面发光激光二极管元件，其中，从沿第二方向排列的多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于沿同该第二方向垂直的第一方向延伸的直线绘制的多条直线被形成为沿该第一方向具有大致相等的间隔，多个面发光激光二极管元件沿第一方向以被设定为基准值的间隔排列，以及沿第一方向排列的面发光激光二极管元件的数量少于沿第二方向排列的面发光激光二极管元件的数量。
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