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发明公开
等离子体处理装置

公开(公告)号：CN119172912A

公开(公告)日：2024-12-20

申请号：CN202410785026.5

申请日：2024-06-18

Applicant: 株式会社达谊恒

Inventor： 玉城怜士 , 纳富隼人 , 天立茂树 , 长谷川慎一

IPC: H05H1/24

Abstract: 本发明提供能够减少翅片构件的损伤的等离子体处理装置。等离子体处理装置具备内侧电极、电极保持体、外侧电极、将内侧电极及电极保持体包围的绝缘构件、用于通过使供给到绝缘构件的内侧的处理气体回转从而形成绕内侧电极的回转流的翅片构件以及吹出等离子体化后的回转流的喷嘴。绝缘构件直接或间接地固定于外侧电极，翅片构件以从内侧电极分离的状态固定于电极保持体，并且与绝缘构件的内周面接触。

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