处理晶圆的方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110164820B

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN201910110077.7

    申请日:2019-02-11

    Abstract: 本发明涉及一种处理晶圆(W)的方法,晶圆在一个侧面(1)上具有包括多个器件(27)的器件区域(2)。该方法包括:提供保护膜(4);将保护膜施加到晶圆的一个侧面(1)或晶圆的与一个侧面相对的侧面(6),使得至少保护膜的前表面(4a)的中央区域与晶圆的一个侧面或晶圆的与一个侧面相对的侧面直接接触。该方法还包括:将保护膜附接至晶圆的一个侧面或晶圆的与一个侧面相对的侧面,使得保护膜的周边部分的至少一部分沿着晶圆的整个圆周附接至晶圆的侧边缘(5)的至少一部分。晶圆的侧边缘从晶圆的一个侧面延伸到晶圆的与一个侧面相对的侧面。而且,该方法包括:处理晶圆的一个侧面/或晶圆的与一个侧面相对的侧面。

    处理晶圆的方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110164820A

    公开(公告)日:2019-08-23

    申请号:CN201910110077.7

    申请日:2019-02-11

    Abstract: 本发明涉及一种处理晶圆(W)的方法,晶圆在一个侧面(1)上具有包括多个器件(27)的器件区域(2)。该方法包括:提供保护膜(4);将保护膜施加到晶圆的一个侧面(1)或晶圆的与一个侧面相对的侧面(6),使得至少保护膜的前表面(4a)的中央区域与晶圆的一个侧面或晶圆的与一个侧面相对的侧面直接接触。该方法还包括:将保护膜附接至晶圆的一个侧面或晶圆的与一个侧面相对的侧面,使得保护膜的周边部分的至少一部分沿着晶圆的整个圆周附接至晶圆的侧边缘(5)的至少一部分。晶圆的侧边缘从晶圆的一个侧面延伸到晶圆的与一个侧面相对的侧面。而且,该方法包括:处理晶圆的一个侧面/或晶圆的与一个侧面相对的侧面。

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