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公开(公告)号:CN111383911B
公开(公告)日:2023-11-24
申请号:CN201911366053.4
申请日:2019-12-26
Applicant: 株式会社FLOSFIA , 株式会社电装
IPC: H01L21/02
Abstract: 本发明提供一种对要求散热性的半导体装置等有用的、晶体品质优异的结晶性氧化物膜、半导体装置及半导体系统。在形成至少包括第一晶轴和第二晶轴、以含有镓的金属氧化物为主要成分的结晶性氧化物膜时,通过使第二边比第一边短,使第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,使第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,使第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行,从而得到一种结晶性氧化物膜,该结晶性氧化物膜至少包括第一边和比第一边短的第二边,第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行。
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公开(公告)号:CN111384158B
公开(公告)日:2024-01-09
申请号:CN201911364732.8
申请日:2019-12-26
Applicant: 株式会社FLOSFIA , 株式会社电装
IPC: H01L29/24 , H01L23/367 , H01L29/732 , H01L29/739 , H01L29/778 , H01L29/786 , H01L29/872 , H01L33/26 , H01L33/64
Abstract: 本发明提供一种对要求散热性的半导体装置等有用的、晶体品质优异的结晶性氧化物半导体、半导体装置及半导体系统。在形成至少包括第一晶轴和第二晶轴的结晶性氧化物半导体时,通过使第二边比第一边短,使第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,使第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,使第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行,从而得到一种结晶性氧化物半导体,该结晶性氧化物半导体至少包括第一边和比第一边短的第二边,第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行。
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公开(公告)号:CN111384158A
公开(公告)日:2020-07-07
申请号:CN201911364732.8
申请日:2019-12-26
Applicant: 株式会社FLOSFIA , 株式会社电装
IPC: H01L29/24 , H01L23/367 , H01L29/732 , H01L29/739 , H01L29/778 , H01L29/786 , H01L29/872 , H01L33/26 , H01L33/64
Abstract: 本发明提供一种对要求散热性的半导体装置等有用的、晶体品质优异的结晶性氧化物半导体、半导体装置及半导体系统。在形成至少包括第一晶轴和第二晶轴的结晶性氧化物半导体时,通过使第二边比第一边短,使第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,使第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,使第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行,从而得到一种结晶性氧化物半导体,该结晶性氧化物半导体至少包括第一边和比第一边短的第二边,第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行。
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公开(公告)号:CN111383911A
公开(公告)日:2020-07-07
申请号:CN201911366053.4
申请日:2019-12-26
Applicant: 株式会社FLOSFIA , 株式会社电装
IPC: H01L21/02
Abstract: 本发明提供一种对要求散热性的半导体装置等有用的、晶体品质优异的结晶性氧化物膜、半导体装置及半导体系统。在形成至少包括第一晶轴和第二晶轴、以含有镓的金属氧化物为主要成分的结晶性氧化物膜时,通过使第二边比第一边短,使第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,使第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,使第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行,从而得到一种结晶性氧化物膜,该结晶性氧化物膜至少包括第一边和比第一边短的第二边,第一晶轴方向的线热膨胀系数比第二晶轴方向的线热膨胀系数小,第一边方向与第一晶轴方向平行或大致平行,第二边方向与第二晶轴方向平行或大致平行。
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公开(公告)号:CN102400224B
公开(公告)日:2015-04-01
申请号:CN201110220363.2
申请日:2011-07-29
Abstract: 一种碳化硅单晶(3),包括作为掺杂剂的氮和作为掺杂剂的铝。氮浓度为2×1019cm-3或更高,并且铝浓度与所述氮浓度的比率在5%至40%的范围内。
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公开(公告)号:CN102400224A
公开(公告)日:2012-04-04
申请号:CN201110220363.2
申请日:2011-07-29
Abstract: 一种碳化硅单晶(3),包括作为掺杂剂的氮和作为掺杂剂的铝。氮浓度为2×1019cm-3或更高,并且铝浓度与所述氮浓度的比率在5%至40%的范围内。
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