公开(公告)号：CN107403715A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201710356596.2

申请日：2017-05-19

Applicant: 格罗方德半导体公司

Inventor： 黄海苟 ,  刘金平 ,  刘黄 ,  T·赵

IPC: H01L21/02 ,  H01L29/10

CPC classification number: H01L27/0886 ,  H01L21/28518 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/31155 ,  H01L21/823431 ,  H01L21/823821 ,  H01L27/0924 ,  H01L29/66795 ,  H01L29/66803 ,  H01L29/785 ,  H01L29/7856 ,  H01L21/0217 ,  H01L29/1033

Abstract: 本发明涉及使用掺杂抛光材料控制内部裸片的均匀性，各种实施例包括方法以及集成电路结构。在某些情况下，形成一集成电路结构的一方法可包括：形成一掩膜于一氧化层以及一底层鳍片结构组的上方，该鳍片结构组包括多个鳍片，各该鳍片具有一基板基部以及位于该基板基部上方的一硅化层；通过一开口注入该氮化层于该掩膜中；移除该掩膜；于移除该掩膜后，抛光覆盖该鳍片结构组的该氧化层以暴露该鳍片结构组；以及形成一氮化层于该鳍片结构组的上方。