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公开(公告)号：CN102041482B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201010521611.2
申请日：2010-10-25
Applicant: 气体产品与化学公司
IPC: C23C16/40 , C23C16/18 , C23C16/44 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45553 , C07F7/003 , C23C16/405
Abstract: 本发明涉及含第4族金属的膜的沉积方法，尤其是一种利用通式M(OR1)(OR2)(R3C(O)C(R4)C(O)XR5y)2的前体通过原子层沉积形成含金属膜的方法，其中，M是第4族金属；R1和R2可以相同或不同，选自直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基；R3可选自直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基，优选为C1-3烷基；R4是选自氢、C1-10烷基和C6-12芳基，优选为氢；R5是选自直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基，优选为甲基或乙基；X＝O或N，其中当X＝O时，y＝1且R1，2和5是相同的，当X＝N时，y＝2且每个R5可以相同或不同。
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公开(公告)号：CN102040620B
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201010521551.4
申请日：2010-10-25
Applicant: 气体产品与化学公司
CPC classification number: C23C16/18 , C07F7/003 , C23C16/405 , C23C16/45553 , Y02P20/582
Abstract: 本发明涉及用于含金属膜的第4族金属前体，特别是由以下通式表示的第4族金属前体：M(OR1)2(R2C(O)C(R3)C(O)OR1)2，其中M是第4族金属Ti、Zr或Hf；其中R1选自下组：直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基，优选甲基、乙基或正丙基；R2选自下组：支链C3-10烷基，优选异丙基、叔丁基、仲丁基、异丁基或叔戊基，和C6-12芳基；R3选自下组：氢、C1-10烷基和C6-12芳基，优选氢。在本发明的优选实施方式中，该前体是液体或者熔点低于60℃的固体。
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公开(公告)号：CN102041482A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010521611.2
申请日：2010-10-25
Applicant: 气体产品与化学公司
IPC: C23C16/40 , C23C16/18 , C23C16/44 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45553 , C07F7/003 , C23C16/405
Abstract: 本发明涉及含第4族金属的膜的沉积方法，尤其是一种利用通式M(OR1)(OR2)(R3C(O)C(R4)C(O)XR5y)2的前体通过原子层沉积形成含金属膜的方法，其中，M是第4族金属；R1和R2可以相同或不同，选自直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基；R3可选自直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基，优选为C1-3烷基；R4是选自氢、C1-10烷基和C6-12芳基，优选为氢；R5是选自直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基，优选为甲基或乙基；X＝O或N，其中当X＝O时，y＝1且R1，2和5是相同的，当X＝N时，y＝2且每个R5可以相同或不同。
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公开(公告)号：CN102040620A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010521551.4
申请日：2010-10-25
Applicant: 气体产品与化学公司
CPC classification number: C23C16/18 , C07F7/003 , C23C16/405 , C23C16/45553 , Y02P20/582
Abstract: 本发明涉及用于含金属膜的第4族金属前体，特别是由以下通式表示的第4族金属前体：M(OR1)2(R2C(O)C(R3)C(O)OR1)2，其中M是第4族金属Ti、Zr或Hf；其中R1选自下组：直链或支链C1-10烷基和C6-12芳基，优选甲基、乙基或正丙基；R2选自下组：支链C3-10烷基，优选异丙基、叔丁基、仲丁基、异丁基或叔戊基，和C6-12芳基；R3选自下组：氢、C1-10烷基和C6-12芳基，优选氢。在本发明的优选实施方式中，该前体是液体或者熔点低于60℃的固体。
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