Mini LED镀膜玻璃及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN115959837B

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202310011141.2

    申请日:2023-01-04

    Abstract: 本申请涉及背光显示技术领域,特别是涉及一种Mini LED镀膜玻璃及其制备方法和应用。所述Mini LED镀膜玻璃包括依次层叠设置的玻璃基板、第一金属膜层、第二金属膜层和导电层;其中,所述第一金属膜层的材质包括金属钼,所述第二金属膜层的材质包括锡铅合金,所述导电层的材质包括金属铜。本申请可减少厚铜应力对附着力和基片翘曲的影响,提高膜层的附着力并降低方阻。

    导电薄膜的制备方法、镀膜设备、导电薄膜及电子器件

    公开(公告)号:CN108220898B

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN201711451104.4

    申请日:2017-12-27

    Abstract: 本发明涉及一种导电薄膜的制备方法、镀膜设备、导电薄膜及电子器件。该制备方法包括如下步骤:在基板上镀制阻挡层,阻挡层的材质为二氧化硅、氮化硅及二氧化钛中的至少一种;在阻挡层远离基板的一侧镀制第一ITO层;在第一ITO层远离阻挡层的一侧镀制增强层,增强层的材料为银或石墨烯;及以氩气为工作气体,在臭氧存在下,且臭氧与氩气的体积比为1:8~2:9,在所述增强层远离所述第一ITO层的一侧镀制第二ITO层,得到导电薄膜。通过上述制备方法能够于低温下制备具有较高可见光透过率且较低电阻率的导电薄膜。

    柔性基板制备方法及柔性基板

    公开(公告)号:CN111041435A

    公开(公告)日:2020-04-21

    申请号:CN201910997920.8

    申请日:2019-10-21

    Abstract: 本发明涉及一种柔性基板的制备方法及柔性基板。其中,柔性基板的制备方法,包括:将基片进行超声波清洗;对清洗后的所述基片进行等离子体轰击;采用射频磁控溅射法在所述基片上形成衬底薄膜;采用直流磁控溅射法在所述衬底薄膜上形成导电薄膜以形成柔性基板;对所述柔性基板进行退火处理。上述柔性基板的制备方法通过在采用等离子体轰击技术和磁控溅射技术,增加沉积到柔性基板表面的粒子和柔性基板表面本身的能量及膜层结合的能量,可提高膜层之间的附着力,降低膜层的内应力。同时,在基片和导电薄膜之间还溅射衬底薄膜,也可以增大膜层之间的粘附力。由于在基片上溅射沉积衬底薄膜和导电薄膜,可以降低基片表面的阻抗。

    柔性触控屏及其制造方法、显示装置

    公开(公告)号:CN110442268A

    公开(公告)日:2019-11-12

    申请号:CN201910722375.1

    申请日:2019-08-06

    Abstract: 本发明涉及一种柔性触控屏及其制造方法、显示装置。柔性触控屏包括:衬底基板,具有相对的第一表面和第二表面;第一导电层,设于所述衬底基板的第一表面上;第二导电层,设于所述衬底基板的第二表面上;第一增透膜层,设于所述第一导电层的远离所述衬底基板的一侧;以及第二增透膜层,设于所述第二导电层的远离所述衬底基板的一侧。在柔性触控屏的第一表面和第二表面分别设置第一增透膜层和第二增透膜层,其中的二氧化硅膜层或二氧化钛膜层与五氧化二铌膜层对光的相消性干涉可以增加柔性触控屏的光的通过率,从而减小柔性触控屏的雾度,进而增强显示装置的显示效果。

    一种玻璃基板上通孔的处理方法

    公开(公告)号:CN115304291A

    公开(公告)日:2022-11-08

    申请号:CN202211108996.9

    申请日:2022-09-13

    Abstract: 本发明提供了一种玻璃基板上通孔的处理方法,该处理方法包括:提供一具有通孔的玻璃基板,所述玻璃基板未形成所述通孔的区域设置有保护层;将所述玻璃基板放入反应釜中;向所述反应釜中通入反应气体,在预设时间内使所述反应气体与所述通孔处的玻璃进行反应。由此可知该处理方法通过反应气体对通孔孔径内部等区域进行修复,并且还可以在保证通孔外径不被快速扩大的情况下,增大通孔的内径,进而提高通孔的内径/外径最大比,以此提高玻璃基板的性能。

    曝光机构、曝光装置及曝光系统

    公开(公告)号:CN107908079A

    公开(公告)日:2018-04-13

    申请号:CN201711306712.6

    申请日:2017-12-11

    CPC classification number: G03F7/20 G03F7/70716

    Abstract: 本发明涉及一种曝光机构、曝光装置及曝光系统,曝光系统包括:光罩;支撑台,包括第一支撑台及第二支撑台,所述第一支撑台与所述第二支撑台之间的间距可调,以适应不同尺寸的曝光平台,所述第一支撑台及所述第二支撑台远离所述支架的表面用于承载所述光罩的两端;曝光平台,位于所述光罩下方并位于所述第一支撑台及第二支撑台之间,用以放置待曝光元件;支架,位于所述曝光装置底部以用于支撑所述曝光平台及所述支撑台。上述曝光机构、曝光装置及曝光系统,实现了对待曝光元件的多尺寸兼容,节省了曝光成本。

    Mini LED镀膜玻璃及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN115959837A

    公开(公告)日:2023-04-14

    申请号:CN202310011141.2

    申请日:2023-01-04

    Abstract: 本申请涉及背光显示技术领域,特别是涉及一种Mini LED镀膜玻璃及其制备方法和应用。所述Mini LED镀膜玻璃包括依次层叠设置的玻璃基板、第一金属膜层、第二金属膜层和导电层;其中,所述第一金属膜层的材质包括金属钼,所述第二金属膜层的材质包括锡铅合金,所述导电层的材质包括金属铜。本申请可减少厚铜应力对附着力和基片翘曲的影响,提高膜层的附着力并降低方阻。

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