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公开(公告)号:CN118950417B
公开(公告)日:2024-12-24
申请号:CN202411452166.7
申请日:2024-10-17
Applicant: 沈阳芯达半导体设备有限公司
IPC: B05C13/02 , B05C9/14 , B05C5/02 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 本发明公开了一种晶圆横向抓取移动机构,涉及晶圆生产技术领域。该种晶圆横向抓取移动机构,包括旋涂箱和烘干箱,所述旋涂箱内设置有旋涂工作台和滴胶头,所述旋涂箱的顶部开设有进料口,且旋涂箱内通过升降机构连接有托盘,所述托盘上设置有晶圆盒,所述旋涂箱的底部固定连接有两个对称设置的气缸。该种晶圆横向抓取移动机构,能够对承载盘进行横向移动以及自动转动,从而实现对晶圆本体的横向抓取移动,使得对晶圆本体的移动更加方便快捷、效率更高;在对晶圆本体进行横向抓取移动的过程中,能够对其进行自动居中调节,保证后续旋涂的质量;在对晶圆本体移动的过程中,能够利用防护盖将承载盘罩起防护,能够避免气流的影响,保证旋涂的质量。
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公开(公告)号:CN110517980B
公开(公告)日:2024-04-26
申请号:CN201910908159.6
申请日:2019-09-25
Applicant: 沈阳芯达半导体设备有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明公开公开一种半导体行业用晶圆自动传送的机构,晶圆放置在晶圆盒,晶圆盒通过承载台、连接结构、传送机构由位置A自动传送至位置B。晶圆盒放置在承载台上由自动检测机构确认是否放置在正确位置,确保无偏移,如偏移会发生报警;检测机构在检测无偏移后传送指令至晶圆自动防滑出装置,由自动防滑出装置将晶圆锁定,确保在由位置A自动传送至位置B的过程中晶圆不会滑出。
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公开(公告)号:CN119321395B
公开(公告)日:2025-03-11
申请号:CN202411866291.2
申请日:2024-12-18
Applicant: 沈阳芯达半导体设备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种腐蚀液体输送用风囊泵,涉及风囊泵技术领域。该种腐蚀液体输送用风囊泵,包括设置在风囊泵本体上的泵体、阀板、中心轴、两个风囊、抽液管以及排液管,两个所述风囊和阀板之间形成两个工作腔,所述抽液管的侧壁固定连接有进液管,所述排液管的侧壁设置有出液管,且阀板的两侧设置有凹槽,还包括:安装腔,开设于所述阀板内;两组检测机构,设置于所述安装腔靠近凹槽的侧壁,用于检测两个工作腔的密封性。该种腐蚀液体输送用风囊泵,在进行抽液时,能够对左腔室或者右腔室的密封性进行检测,在发生泄露时及时发现,保证正常运行的同时,更加安全可靠;便于对腐蚀液体中的杂质进行过滤和收集,保证产品的生产质量。
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公开(公告)号:CN119321395A
公开(公告)日:2025-01-17
申请号:CN202411866291.2
申请日:2024-12-18
Applicant: 沈阳芯达半导体设备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种腐蚀液体输送用风囊泵,涉及风囊泵技术领域。该种腐蚀液体输送用风囊泵,包括设置在风囊泵本体上的泵体、阀板、中心轴、两个风囊、抽液管以及排液管,两个所述风囊和阀板之间形成两个工作腔,所述抽液管的侧壁固定连接有进液管,所述排液管的侧壁设置有出液管,且阀板的两侧设置有凹槽,还包括:安装腔,开设于所述阀板内;两组检测机构,设置于所述安装腔靠近凹槽的侧壁,用于检测两个工作腔的密封性。该种腐蚀液体输送用风囊泵,在进行抽液时,能够对左腔室或者右腔室的密封性进行检测,在发生泄露时及时发现,保证正常运行的同时,更加安全可靠;便于对腐蚀液体中的杂质进行过滤和收集,保证产品的生产质量。
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公开(公告)号:CN119028890B
公开(公告)日:2025-01-14
申请号:CN202411497481.1
申请日:2024-10-25
Applicant: 沈阳芯达半导体设备有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本发明公开了一种晶圆传送装置及晶圆传送方法,涉及晶圆生产技术领域。该种晶圆传送装置,包括设置在天车本体上的导轨、移动模块、车体、升降模块、夹持模块和晶圆传送盒,所述晶圆传送盒内设置有多组阵列设置的吸附机构,所述吸附机构用于对放置在晶圆传送盒内的晶圆进行吸附。该种晶圆传送装置及晶圆传送方法,便于对不同规格尺寸的晶圆进行自动居中夹紧限位;能够通过橡胶吸盘抽气对晶圆进行吸附,同时,能够根据晶圆的尺寸大小,自动调节吸附孔打开的数量,保证吸附的效果,并且,能够对橡胶吸盘的密封性进行检测,使得晶圆传送时更加稳定可靠,避免传送过程中发生晃动与碰撞,保证传送的质量。
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公开(公告)号:CN119028890A
公开(公告)日:2024-11-26
申请号:CN202411497481.1
申请日:2024-10-25
Applicant: 沈阳芯达半导体设备有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本发明公开了一种晶圆传送装置及晶圆传送方法,涉及晶圆生产技术领域。该种晶圆传送装置,包括设置在天车本体上的导轨、移动模块、车体、升降模块、夹持模块和晶圆传送盒,所述晶圆传送盒内设置有多组阵列设置的吸附机构,所述吸附机构用于对放置在晶圆传送盒内的晶圆进行吸附。该种晶圆传送装置及晶圆传送方法,便于对不同规格尺寸的晶圆进行自动居中夹紧限位;能够通过橡胶吸盘抽气对晶圆进行吸附,同时,能够根据晶圆的尺寸大小,自动调节吸附孔打开的数量,保证吸附的效果,并且,能够对橡胶吸盘的密封性进行检测,使得晶圆传送时更加稳定可靠,避免传送过程中发生晃动与碰撞,保证传送的质量。
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公开(公告)号:CN110344703A
公开(公告)日:2019-10-18
申请号:CN201910761589.X
申请日:2019-08-19
Applicant: 沈阳芯达半导体设备有限公司
Abstract: 本发明公开一种具有垂直升降功能的自动开关门装置,轴承c利用转轴c与轴承固定块连接,轴承a直接或间接与轴承c连接固定,气缸或电缸与轴承固定块分别安装在连接板的相应位置,连接板与气动滑台或电动滑台的滑块连接固定,气动滑台或电动滑台安装在门框组件相应位置,连接杆通过转轴a和转轴b分别与轴承a和轴承b相连接,轴承b与气缸或电缸活动杆相连,门板安装于连接杆上,通过气缸或电缸活动杆的伸缩运动及轴承a、b、c的联动配合,来实现门板的开关动作,之后通过气动滑台或电动滑台的滑块上下运动,实现门板垂直升降的功能。
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公开(公告)号:CN118208944A
公开(公告)日:2024-06-18
申请号:CN202410622334.6
申请日:2024-05-20
Applicant: 沈阳芯达半导体设备有限公司
IPC: F26B25/00
Abstract: 本发明属于晶圆干燥技术领域,具体为一种排风装置及其使用方法;其中排风装置包括干燥加热箱,干燥加热箱的侧面上设有轴承,轴承上连接有旋转轴,旋转轴远离干燥加热箱的一端上安装有旋动方块,旋动方块上设置有旋距锁禁组件;所述旋转轴位于干燥加热箱内的一端上安装有旋转齿轮,旋转齿轮啮合连接旋动齿环,旋动齿环上设置有位动锁持机构;旋动齿环啮合连接两个辅助齿轮,辅助齿轮上安装有辅助转轴,辅助转轴上设置有辅助基座,辅助基座与干燥加热箱内设有的通风口连接设置;通过贴合吸水单元,避免箱体内的空气湿度增加导致其内部出现霉、细菌和腐蚀等情况,从而提升装置整体的使用效果和晶圆干燥的效率、效果,降低装置在使用时的局限性。
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公开(公告)号:CN113808983A
公开(公告)日:2021-12-17
申请号:CN202111363978.0
申请日:2021-11-17
Applicant: 沈阳芯达半导体设备有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本发明公开了多手臂气液分离机械手臂,包括机械手,所述机械手的活动端通过螺丝固定安装有气液分离仓,所述气液分离仓的内部安装有气液分离组件,所述气液分离组件包括气液分离箱、盖板、过滤机构、转动机构和进气槽,所述气液分离仓的内部安装有驱动组件,所述气液分离仓的底端通过螺丝固定安装有转动组件,所述转动组件的底端固定连接有转动座,所述转动座的底面分别安装有多手臂组件,通过在机械手臂的活动端上安装有气液分离仓,并通过内部的气液分离箱对吸盘吸入的溶液或者溶剂进行过滤处理,使真空泵和真空电磁阀能够产生真空的吸力同时,溶液和溶剂不会被误入吸进空泵和真空电磁阀而造成损坏。
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公开(公告)号:CN118950417A
公开(公告)日:2024-11-15
申请号:CN202411452166.7
申请日:2024-10-17
Applicant: 沈阳芯达半导体设备有限公司
IPC: B05C13/02 , B05C9/14 , B05C5/02 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 本发明公开了一种晶圆横向抓取移动机构,涉及晶圆生产技术领域。该种晶圆横向抓取移动机构,包括旋涂箱和烘干箱,所述旋涂箱内设置有旋涂工作台和滴胶头,所述旋涂箱的顶部开设有进料口,且旋涂箱内通过升降机构连接有托盘,所述托盘上设置有晶圆盒,所述旋涂箱的底部固定连接有两个对称设置的气缸。该种晶圆横向抓取移动机构,能够对承载盘进行横向移动以及自动转动,从而实现对晶圆本体的横向抓取移动,使得对晶圆本体的移动更加方便快捷、效率更高;在对晶圆本体进行横向抓取移动的过程中,能够对其进行自动居中调节,保证后续旋涂的质量;在对晶圆本体移动的过程中,能够利用防护盖将承载盘罩起防护,能够避免气流的影响,保证旋涂的质量。
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