透明漫射性OLED基材及制造这样的基材的方法

    公开(公告)号:CN105189384B

    公开(公告)日:2019-04-30

    申请号:CN201480028340.3

    申请日:2014-04-29

    Abstract: 本发明涉及透明漫射性OLED基材,其包含下列连续的元件或层:‑由具有介于1.45和1.65之间的折射率的矿物玻璃制成的透明平坦基材,‑包含矿物颗粒的粗糙的低折射率层,所述矿物颗粒通过低折射率搪瓷粘合到所述基材的一侧,在所述搪瓷的表面附近、所述搪瓷的表面处或自所述搪瓷的表面突出的矿物颗粒产生以介于0.15和3µm之间的算术平均偏差Ra为特征的表面粗糙度,所述矿物颗粒和搪瓷两者都具有介于1.45和1.65之间的折射率;‑由具有介于1.8和2.1之间的折射率的搪瓷制成的覆盖所述粗糙的低折射率层(b)的高折射率平坦化层。本发明还涉及制备这样的漫射性OLED基材的方法。

    用于OLED的透明所承载电极

    公开(公告)号:CN104094439A

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:CN201380008699.X

    申请日:2013-02-07

    Abstract: 本发明涉及一种用于OLED的所承载电极,包括:-折射率被包括在1,3和1,6之间的透明或半透明的非导体衬底(1),-被沉积在衬底表面的至少一个区上的金属线的连续网(2),所述金属线由呈现至少等于5.106S.m-1电导率的金属或金属合金所构成,所述金属线具有被包括在0,05和3μm之间、优选地在0,2和2μm之间、特别地在0,3和1,5μm之间的平均宽度L,这些金属线限定多个非金属化区域,其具有被包括在0,1和7,0pm之间的平均等效直径D,D/L比被包括在0,8和5之间、优选地在1,2和4,5之间并且特别地在2和3,5之间,并且金属线连续网的表面的至少20%呈现相对于衬底和电极的平面形成被包括在15和75°之间的角的切线,-透明或半透明层(3),其呈现被包括在1,6和2,4之间的折射率以及大于金属线连续网的电阻率并且小于104Ω.cm的电阻率,所述层完全覆盖金属线的网和所述非金属化区域,金属线的连续网(2)以及透明或半透明层(3)一起形成被称为电极层的合成层。

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