织构化具有大表面积的基底的方法

    公开(公告)号:CN104272187A

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:CN201380024814.2

    申请日:2013-05-14

    Abstract: 本发明涉及在基底上形成纹理的方法,包括:-在基底上沉积可变形层;-令该可变形层与子印模的织构化面接触;-将涂布的基底与子印模引入到不可渗透性材料制成的袋中;-将该袋及其内容物引入到密封容器中;-从该容器中抽出空气,直到达到最高等于0.5巴的压力;-在向该容器中重新引入空气之前将该袋密封;-将密封的袋及其内容物引入到高压釜中;-施加0.5至8巴的压力和25至400℃的温度15分钟至数小时;-打开该袋;随后-分离该基底与子印模;本发明还涉及一种通过该方法获得的透明组件,包含涂有织构化层的玻璃基底;还涉及该方法用于获得意在提取、引导或重新定向光的基底的用途,或超疏水性或超亲水性基底。

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