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公开(公告)号：CN105738976B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201610232252.6
申请日：2016-04-14
Applicant: 清华大学深圳研究生院
Abstract: 一种在光学元件上制作涂镀层的方法，包括如下步骤：鉴别光学元件的表面形貌特征，确定其凹凸形态；对于表面形貌特征确定为凹形态的光学元件，通过PCGrate仿真分析重构光学元件在具有多种不同厚度的涂镀层时的表面形貌，仿真并比较不同涂镀层厚度时光学元件的性能，分析不同涂镀层厚度对于光学元件的性能的影响，以确定最佳涂镀层厚度；基于所确定的最佳涂镀层厚度，在光学元件上制作涂镀层。还公开了一种具有涂镀层的光学元件。本发明能够克服以往光学元件表面按照经验确定涂镀层的厚度值的弊端，提高带涂镀层的光学元件的光学性能。
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公开(公告)号：CN106226854B
公开(公告)日：2018-08-17
申请号：CN201610839438.8
申请日：2016-09-21
Applicant: 清华大学深圳研究生院
Abstract: 本发明公开了一种全息光栅阵列的制作装置，包括光源、准直镜、光阑、快门、分束镜、两面反射镜、光栅基板和移动平台，其中光源采用激光二极管，光源、准直镜和光阑沿光束前进的方向依次共轴排列，分束镜设置在光束经过光阑后的光路上，分束镜用于将光束反射为两光束，快门设置在光源与分束镜之间且与光束同轴；两面反射镜分别设置在经分束镜反射后的两光束的光路上，两面反射镜以分束镜为轴轴对称设置，光栅基板安装在移动平台上，且光栅基板位于干涉场。本发明提出的全息光栅阵列的制作装置，制作的全息光栅阵列可以应用于一维光栅尺，并大大降低了光源的成本，简化了结构、体积也大大减小。
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公开(公告)号：CN106292201A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610866886.7
申请日：2016-09-28
Applicant: 清华大学深圳研究生院
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种抗模具粘连的三维元件制作方法及三维元件倒模，该方法包括：A、基于软光刻工艺使用PDMS材料复制三维元件母版，得到PDMS材料的三维元件倒模；B、在步骤A得到的PDMS材料的三维元件倒模的表面，形成一层1H,1H,2H,2H-全氟癸基三氯硅烷分子涂层；C、以经过步骤B处理的PDMS材料的三维元件倒模为模具，使用PDMS材料进行二次复制，固化脱模后得到三维元件复制品。由于1H,1H,2H,2H-全氟癸基三氯硅烷分子涂层与PDMS材料接触角不同，二次复制脱模变得容易，起到了抗粘连的作用。
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公开(公告)号：CN106226854A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201610839438.8
申请日：2016-09-21
Applicant: 清华大学深圳研究生院
CPC classification number: G02B5/1857 , G02B5/32
Abstract: 本发明公开了一种全息光栅阵列的制作装置，包括光源、准直镜、光阑、快门、分束镜、两面反射镜、光栅基板和移动平台，其中光源采用激光二极管，光源、准直镜和光阑沿光束前进的方向依次共轴排列，分束镜设置在光束经过光阑后的光路上，分束镜用于将光束反射为两光束，快门设置在光源与分束镜之间且与光束同轴；两面反射镜分别设置在经分束镜反射后的两光束的光路上，两面反射镜以分束镜为轴轴对称设置，光栅基板安装在移动平台上，且光栅基板位于干涉场。本发明提出的全息光栅阵列的制作装置，制作的全息光栅阵列可以应用于一维光栅尺，并大大降低了光源的成本，简化了结构、体积也大大减小。
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公开(公告)号：CN106226855B
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201610840386.6
申请日：2016-09-21
Applicant: 清华大学深圳研究生院
Abstract: 本发明公开了一种全息光栅的制作装置，包括光源、准直镜、光阑、分束镜、两面反射镜和光栅基板，其中所述光源采用激光二极管，所述光源、所述准直镜和所述光阑沿光束前进的方向依次共轴排列，所述分束镜设置在所述光束经过所述光阑后的光路上，所述分束镜用于将所述光束反射为两光束，两面所述反射镜分别设置在经所述分束镜反射后的两光束的光路上，两面所述反射镜以所述分束镜为轴轴对称设置，所述光栅基板设置在干涉场。本发明提出的全息光栅的制作装置，大大降低了光源的成本，简化了结构、体积也大大减小。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106226855A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201610840386.6
申请日：2016-09-21
Applicant: 清华大学深圳研究生院
CPC classification number: G02B5/1857 , G02B5/32
Abstract: 本发明公开了一种全息光栅的制作装置，包括光源、准直镜、光阑、分束镜、两面反射镜和光栅基板，其中所述光源采用激光二极管，所述光源、所述准直镜和所述光阑沿光束前进的方向依次共轴排列，所述分束镜设置在所述光束经过所述光阑后的光路上，所述分束镜用于将所述光束反射为两光束，两面所述反射镜分别设置在经所述分束镜反射后的两光束的光路上，两面所述反射镜以所述分束镜为轴轴对称设置，所述光栅基板设置在干涉场。本发明提出的全息光栅的制作装置，大大降低了光源的成本，简化了结构、体积也大大减小。
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公开(公告)号：CN105738976A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201610232252.6
申请日：2016-04-14
Applicant: 清华大学深圳研究生院
CPC classification number: G02B1/10 , G02B1/14 , G02B5/1857 , G02B27/0012
Abstract: 一种在光学元件上制作涂镀层的方法，包括如下步骤：鉴别光学元件的表面形貌特征，确定其凹凸形态；对于表面形貌特征确定为凹形态的光学元件，通过PCGrate仿真分析重构光学元件在具有多种不同厚度的涂镀层时的表面形貌，仿真并比较不同涂镀层厚度时光学元件的性能，分析不同涂镀层厚度对于光学元件的性能的影响，以确定最佳涂镀层厚度；基于所确定的最佳涂镀层厚度，在光学元件上制作涂镀层。还公开了一种具有涂镀层的光学元件。本发明能够克服以往光学元件表面按照经验确定涂镀层的厚度值的弊端，提高带涂镀层的光学元件的光学性能。
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公开(公告)号：CN104880753B
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201510225311.2
申请日：2015-05-05
Applicant: 清华大学深圳研究生院
CPC classification number: G02B27/0012 , G02B5/1876 , G02B27/00 , G02B27/0037 , G02B27/4266
Abstract: 本发明公开了一种用于制作菲涅尔光栅的优化设计方法，包括以下步骤：(1)将菲涅尔光栅的菲涅尔面型等效为曲面面型，基于菲涅尔面型等效的曲面面型确定菲涅尔光栅的光程差函数：Φ(λ)＝＜AP1P2B＞‑＜AOB＞+Nmλ，其中A点表示物点，B点表示像点，O点表示光栅的参考原点，P1为物点的光线在透镜表面的入射点，P2表示光线落在光栅上的点，λ表示波长，m表示衍射级次，N表示栅线分布函数，“<>”表示路径对应的光程；(2)确定使得所述光程差函数的函数值最小化的菲涅尔光栅参数，以用于制作具有消像差效果的菲涅尔光栅。按照本发明的方法，所制作的菲涅尔光栅能够有效消除菲涅尔光栅部分像差，提高光谱仪的分辨率。
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公开(公告)号：CN104880753A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201510225311.2
申请日：2015-05-05
Applicant: 清华大学深圳研究生院
CPC classification number: G02B27/0012 , G02B5/1876 , G02B27/00 , G02B27/0037 , G02B27/4266
Abstract: 本发明公开了一种用于制作菲涅尔光栅的优化设计方法，包括以下步骤：(1)将菲涅尔光栅的菲涅尔面型等效为曲面面型，基于菲涅尔面型等效的曲面面型确定菲涅尔光栅的光程差函数：Φ(λ)＝＜AP1P2B＞-＜AOB＞+Nmλ，其中A点表示物点，B点表示像点，O点表示光栅的参考原点，P1为物点的光线在透镜表面的入射点，P2表示光线落在光栅上的点，λ表示波长，m表示衍射级次，N表示栅线分布函数，“<>”表示路径对应的光程；(2)确定使得所述光程差函数的函数值最小化的菲涅尔光栅参数，以用于制作具有消像差效果的菲涅尔光栅。按照本发明的方法，所制作的菲涅尔光栅能够有效消除菲涅尔光栅部分像差，提高光谱仪的分辨率。
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公开(公告)号：CN206057800U
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201621090552.7
申请日：2016-09-28
Applicant: 清华大学深圳研究生院
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型公开了一种抗粘连的三维元件倒模，所述三维元件倒模包括PDMS材料的倒模主体和形成在所述倒模主体的表面上的抗粘连涂层。较佳地，所述抗粘连涂层为1H,1H,2H,2H-全氟癸基三氯硅烷分子涂层。使用本实用新型的三维元件倒模，由于倒模主体的表面具有抗粘连涂层，二次复制脱模变得容易，起到了抗粘连的作用。
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