一种显影清洗装置
    1.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219702824U

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN202223442607.4

    申请日:2022-12-22

    Abstract: 本实用新型的名称一种显影清洗装置。属于功率半导体器件生产设备技术领域。它主要是解决现有光学玻璃静态显影存在液体浸润速度较慢的问题。它的主要特征是:包括设备控制箱体及箱体内自上而下设置的控制部分、显影清洗部分和输入输出排管部分;所述控制部分包括设置在设备控制箱体上的系统显示屏;所述显影清洗部分包括显影液槽、显影花篮及其摇晃机构、以及冲洗水槽;所述输入输出排管部分包括输入排管和输出排管,输入排管与冲洗水槽连接,输出排管包括分别与显影液槽和冲洗水槽连接的输出显影液排管和输出清洗液排管。本实用新型具有在显影液中动态显影、自动显影和自动清洗的特点,主要用于功率半导体器件生产中光学玻璃的显影、清洗。

    一种光刻胶点胶机
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218982156U

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202223442616.3

    申请日:2022-12-22

    Abstract: 本实用新型的名称一种光刻胶点胶机。属于功率半导体器件生产设备技术领域。它主要是解决现有手工点胶因台面粘有多余的光刻胶而存在影响下一次点胶时产品放置和较为浪费光刻胶的问题。它的主要特征是:包括装置箱体、控制装置、点胶装置和余胶回收装置;点胶装置包括接胶胶碗、透明盖板、出胶针阀、出胶微调旋钮、自动开盖组件、电动推台和升降台,接胶胶碗装于产品台面的通孔上,升降台安装在电动推台上并位于通孔下方;余胶回收装置由胶体刮板及其水平驱动机构构成,与升降台相配合;出胶针阀和出胶微调旋钮装于透明盖板上。本实用新型具有可通过胶体刮板清除升降台上多余光刻胶和节约光刻胶的特点,主要用于功率半导体器件制造的光刻胶点胶机。

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