一种逆向设计的超构表面器件及其制备、设计方法

    公开(公告)号:CN115857067B

    公开(公告)日:2025-04-22

    申请号:CN202211739816.7

    申请日:2022-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种逆向设计的超构表面器件及其制备、设计方法,包括从下至上依次设置的透明介质衬底与第一层电介质微纳单元结构、HSQ分隔层和第二层电介质微纳单元结构,根据层数不同可追加更多层数的微纳单元结构。本发明逆向设计的超构表面器件通过在现有数据库的基础上,采用逆向设计的方法,训练优化网络后获得了其他结构参数以及自由形状结构的光学响应,为正向设计方法中难以获得的高自由度形状提供了全新的设计思路。本发明利用GPU的并行计算能力提高计算性能,而且将多种算法相互融合,避免了局部最优解、难以收敛等问题,计算资源损耗低,计算结果优秀。采用套刻工艺进行多层的制备,工艺简单,层间对准精度高。

    一种逆向设计的超构表面器件及其制备、设计方法

    公开(公告)号:CN115857067A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202211739816.7

    申请日:2022-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种逆向设计的超构表面器件及其制备、设计方法,包括从下至上依次设置的透明介质衬底与第一层电介质微纳单元结构、HSQ分隔层和第二层电介质微纳单元结构,根据层数不同可追加更多层数的微纳单元结构。本发明逆向设计的超构表面器件通过在现有数据库的基础上,采用逆向设计的方法,训练优化网络后获得了其他结构参数以及自由形状结构的光学响应,为正向设计方法中难以获得的高自由度形状提供了全新的设计思路。本发明利用GPU的并行计算能力提高计算性能,而且将多种算法相互融合,避免了局部最优解、难以收敛等问题,计算资源损耗低,计算结果优秀。采用套刻工艺进行多层的制备,工艺简单,层间对准精度高。

    一种显示模组以及显示模组的制备方法

    公开(公告)号:CN112015015B

    公开(公告)日:2021-03-02

    申请号:CN202011151894.6

    申请日:2020-10-26

    Abstract: 本发明实施例涉及显示模组技术领域,特别是涉及一种显示模组以及显示模组的制备方法,显示模组包括第一衬底层,所述第一衬底层用于供光入射;第一电极层,叠设于所述第一衬底层,所述第一电极层用于与外部电源连接;若干电介质纳米柱,分布于所述第一电极层;第一光致取向层,叠设于所述若干电介质纳米柱;第二光致取向层;液晶层,设置于所述第一光致取向层和第二光致取向层之间;第二电极层,叠设于所述第二光致取向层,所述第二电极层用于与所述外部电源连接;第二衬底层,叠设于所述第二电极层,所述第二衬底层用于所述光出射。在所述第一电极层和第二电极层施加电压,所述液晶层中的液晶分子取向,则可通过所述显示模组实现全息图的切换。

    一种成像模组
    9.
    发明公开
    一种成像模组 审中-实审

    公开(公告)号:CN112188072A

    公开(公告)日:2021-01-05

    申请号:CN202011155716.0

    申请日:2020-10-26

    Abstract: 本发明实施例涉及超构表面之中的超构透镜技术领域,特别是涉及一种成像模组,包括衬底、超构透镜、感光芯片和光学胶。超构透镜包括四种超构透镜单元,其电介质基底设置于衬底,包括第一超构透镜单元、第二超构透镜单元、第三超构透镜单元和第四超构透镜单元,第一超构透镜单元与第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度,第三超构透镜单元,与第一超构透镜单元和第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为四十五度,第四超构透镜单元可供左圆或者右圆偏振光通过。感光芯片设置于超构透镜。光学胶设置于超构透镜与感光芯片之间。成像模组的四种超构透镜单元分别对四种偏振光敏感,成像模组可同时进行四种偏振成像。

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