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公开(公告)号：CN119937240A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202510119726.5
申请日：2025-01-24
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开一种真空磁力辅助纳米压印装置，包括支撑单元、定位单元、真空磁力单元，支撑单元包括支撑台和固定块，用于调节压印时下基板的位置；定位单元包括导轨、定位块和滑块，用于调节压印时上软膜基板的位置和保证压印准确度；真空磁力单元包括真空箱及其内外的磁铁，用于维持压印时的真空环境以及提供磁力以控制纳米压印流程启动。本发明利用真空磁力手段辅助纳米压印的进行，能避免常规纳米压印手段在加工高深宽比结构时产生的倒塌、填充不足等结构缺陷，以实现高精度高深宽比结构的可靠纳米压印加工。
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