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公开(公告)号：CN116520464A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310412990.9
申请日：2023-04-18
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种复眼透镜制备方法，包括：S101、在玻璃衬底上进行涂胶，形成光刻胶版；S102、激光直写设备根据导入的复眼透镜加工图对所述光刻胶版进行灰度曝光刻蚀；S103、对所述光刻胶版进行后烘；S104、通过显影机对所述光刻胶版进行多次旋涂浸泡式显影，在所述光刻胶版上获得复眼透镜结构；S105、对所述光刻胶版进行硬烘；S106、通过等离子刻蚀机对所述光刻胶版进行等离子干法刻蚀，移除所述玻璃衬底上的胶膜，在所述玻璃衬底表面形成玻璃材质的复眼透镜结构，得到复眼透镜模板；S107、对所述复眼透镜模板进行UV转印。本发明可保证复眼透镜整体结构的一致性和形貌完整性。
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公开(公告)号：CN117031743A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311155870.1
申请日：2023-09-07
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种占空比可调的微透镜阵列设计及制备方法，所述方法包括以下步骤：步骤S1：设计单个微透镜结构；步骤S2：根据占空比要求计算所述单个微透镜结构之间的排列周期；步骤S3：根据所述排列周期将所述单个微透镜结构复制拼接成微透镜阵列结构；步骤S4：采用3D激光直写光刻技术将所述微透镜阵列结构制备到光刻胶层上，得到光刻胶复制件；步骤S5：基于所述光刻胶复制件制备得到PDMS模具；以及步骤S6：将所述PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上，制备得到符合占空比要求的微透镜阵列。本发明方法可以实现10％‑100％占空比的微透镜阵列设计及制造，可以为微透镜应用领域带来重要的收益，并且极大地提高微透镜设计领域的便捷性。
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公开(公告)号：CN119840327A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202510098756.2
申请日：2025-01-22
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有变色效果的高精度3D浮雕图案制备方法，所述方法包括以下步骤：步骤1，采用清洗液清洁玻璃基底表面；步骤2，将光刻胶旋涂至清洁后的所述玻璃基底表面；步骤3，将低频锯齿光栅和高频闪耀光栅组成灰度图，并将所述灰度图导入激光直写设备；步骤4，采用所述激光直写设备刻蚀所述光刻胶；步骤5，将刻蚀后的样品显影；以及步骤6，在显影后的样品表面镀金属薄膜。本发明制备的变色3D浮雕图案，其微纳米结构形貌精度高，立体效果明显，以及在不同视角下观察具有变色效果，且改变颜色均匀。本发明的制备方法对环境无污染隐患，为绿色制备方法。
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公开(公告)号：CN215005943U
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202121277696.4
申请日：2021-06-08
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司 , 武汉大学
IPC: G02B3/00
Abstract: 本实用新型提供了一种用于微透镜阵列制造的一体化装置，包括：用于光刻的激光直写腔、第一真空过渡舱门、用于光刻胶显影的显影转运腔、第二真空过渡舱门以及用于刻蚀加工的等离子体刻蚀腔，所述激光直写腔与所述显影转运腔通过所述第一真空过渡舱门转运样品并实现彼此隔离，所述显影转运腔与所述等离子体刻蚀腔通过第二真空过渡舱门转运样品并实现彼此隔离。本实用新型将激光直写光刻设备、显影设备、等离子体刻蚀机的多个功能集成于一体，能够实现微透镜阵列的一体化制造。由于本实用新型装置集成度高，中间步骤少，洁净度高，有效减少了芯片制造工艺中的风险。另外，本实用新型所述的装置自动化程度高，结构简单，节省了人工成本和设备成本。
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公开(公告)号：CN216979342U
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202220792269.8
申请日：2022-04-07
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本实用新型提供了一种基于OPC与激光直写光刻技术的闪耀光栅，由多个山脊状结构体周期性排列而成，所述山脊状结构体的倾斜面为平整无曲面，所述倾斜面与水平面的夹角最大为9°。所述山脊状结构体的宽度为50微米，周期频率为20线/毫米，即1000微米/50微米。所述山脊状结构体的倾斜面的粗糙度为6～10nm。所述山脊状结构体的结构高度为7.9微米～8.1微米。本实用新型的闪耀光栅，其倾斜面平整无曲面，闪耀角达到9°，倾斜面表面粗糙度高，有效地降低了入射光经过光栅调制后发生的漫散射现象，光强均匀性与现有光栅相比提高了15％，明显提高了光衍射器件的功能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN216286155U
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202122472913.1
申请日：2021-10-14
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
IPC: G03F7/30
Abstract: 本实用新型提供了一种桌面型匀胶显影机，包括控制箱、匀胶腔、一路滴胶手动摆臂、一路显影自动摆臂、蠕动泵、压力罐和触摸屏，所述匀胶腔设置于所述控制箱的上部中央位置，所述一路滴胶手动摆臂与所述一路显影自动摆臂设置于所述控制箱的上表面，所述蠕动泵通过第一管路与所述控制箱连接，用于向所述滴胶手动摆臂提供光刻胶，所述压力罐通过第二管路与所述控制箱连接，用于向所述显影自动摆臂提供显影液和纯水，所述触摸屏设置于所述控制箱前侧。本实用新型的桌面型匀胶显影机，体积紧凑，可放置于防震桌上，造价较低，有效降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN213276260U
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN202022723974.6
申请日：2020-11-23
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
IPC: G03F7/30
Abstract: 本实用新型提供一种大幅面玻璃基版表面浸润式显影治具，包括主框架以及设置于所述主框架上的取放把手，其中，所述主框架由多个边框围成，所述主框架的形状与所述玻璃基版的形状匹配，各边框的下部内侧形成一圈直角凹陷部，所述直角凹陷部具有水平面及垂直面，当所述主框架放置于所述玻璃基版上时，通过所述水平面与所述玻璃基版的边缘表面接触以及所述垂直面与所述玻璃基版的侧壁接触，以使得所述主框架与所述玻璃基版形成零间隙配合。本实用新型的治具显影操作简便，不占用额外生产场地，治具造价低廉，并且能够节约药液，降低生产成本。
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公开(公告)号：CN216979589U
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202220639921.2
申请日：2022-03-22
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本实用新型提供了一种基于激光直写光刻技术的抗菌结构，包括聚酯薄膜层及粘附于聚酯薄膜层上的紫外光固化胶水层，所述紫外光固化胶水层由正视为长六边形、第一矩形、第二矩形的三种形状周期性排列而成，其中，长六边形由两条长边及四条斜边构成，长边与所述斜边形成135°，两条相邻斜边均形成90°，长六边形沿长边的正交方向为行方向、长边方向为列方向进行排列，每行各相邻长六边形之间分别设置一个第一矩形，列方向上相邻的两个所述长六边形在行方向上错开一定距离，相邻行的两个长六边形的相对的两条斜边平行且两条斜边之间分别设置一个第二矩形。本实用新型采用疏水疏油的结构，极大地降低了结构表面堆积水、油的风险，从而降低细菌滋生的可能性。
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公开(公告)号：CN217073733U
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202220791781.0
申请日：2022-04-07
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本实用新型提供了一种光学纳米级双面对准薄膜压印装置，包括：水平底座、溶剂槽、第一至第三机架、第一至第二上下导轨、刮刀头、从动轴、套筒、上轧辊、下轧辊、光学对准器件。水平底座上表面前端布置溶剂槽。水平底座上表面中后部分别设置第一至第三机架，第一机架上设置第一上下导轨及刮刀头。第二机架上设置从动轴，从动轴安装有套筒。第三机架上设置上轧辊、下轧辊，轧辊上、下轧辊贴合模板，模板上分别固设有对位标记，对位标记将用于校准上轧辊、下轧辊于水平、垂直两个方向上的位置误差，以及第三机架的顶部、底部各架设第二上导轨、第二下导轨，第二上导轨、第二下导轨成对安装四副光学对准器件，光学对准器件分别安装摄像头。
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