用于晶片检验临界区域的产生的方法及系统

    公开(公告)号:CN116705637A

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN202310673613.0

    申请日:2017-10-27

    Abstract: 本申请的实施例涉及晶片检验临界区域的产生的方法及系统。本发明揭示一种方法,其包含:接收一或多组晶片数据;从所述一或多组晶片数据中的一或多个层中的一或多个形状识别一或多个基元;将所述一或多个基元中的每一者分类为特定基元类型;识别所述一或多个基元中的每一者的一或多个基元特性;产生所述一或多个基元的基元数据库;基于所述基元数据库来产生一或多个规则;接收一或多组设计数据;将所述一或多个规则应用于所述一或多组设计数据以识别一或多个临界区域;及产生用于检验子系统的包含所述一或多个临界区域的一或多个晶片检验方案。

    对于关注图案图像群体的异常检测

    公开(公告)号:CN107533759B

    公开(公告)日:2019-04-26

    申请号:CN201680021409.9

    申请日:2016-04-22

    Abstract: 本发明提供了用于识别关注图案POI的多个例项中的异常的方法和系统。一种系统包含一或多个计算机子系统,所述计算机子系统被配置用于获取由成像子系统在形成于样品上的裸片内的POI的多个例项处所产生的图像。所述多个例项包含定位在所述裸片内的非周期性位置处的两个或更多个例项。所述计算机子系统还被配置用于确定在所述POI的所述多个例项处所产生的所述图像中的每一个的特征。另外,所述计算机子系统被配置用于基于所述所确定特征来识别所述POI的所述多个例项中的一或多个异常。

    基于图像的样品过程控制

    公开(公告)号:CN108463874B

    公开(公告)日:2020-11-06

    申请号:CN201780005676.1

    申请日:2017-01-10

    Abstract: 本发明提供用于检测样品的图像的异常的方法及系统。一种系统包含经配置以获取由成像子系统产生的样品的图像的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置以确定所述获取图像的一或多个特性。另外,所述计算机子系统经配置以在无需将缺陷检测算法应用于所述图像或所述图像的所述一或多个特性的情况下基于所述一或多个确定特性而识别所述图像的异常。

    用于晶片检验临界区域的产生的方法及系统

    公开(公告)号:CN109952635A

    公开(公告)日:2019-06-28

    申请号:CN201780068638.0

    申请日:2017-10-27

    Abstract: 本发明揭示一种方法,其包含:接收一或多组晶片数据;从所述一或多组晶片数据中的一或多个层中的一或多个形状识别一或多个基元;将所述一或多个基元中的每一者分类为特定基元类型;识别所述一或多个基元中的每一者的一或多个基元特性;产生所述一或多个基元的基元数据库;基于所述基元数据库来产生一或多个规则;接收一或多组设计数据;将所述一或多个规则应用于所述一或多组设计数据以识别一或多个临界区域;及产生用于检验子系统的包含所述一或多个临界区域的一或多个晶片检验方案。

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