等离子处理装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1754409B

    公开(公告)日:2010-07-28

    申请号:CN03801713.X

    申请日:2003-08-28

    Abstract: 一种等离子处理装置,用于对电场中的处理气进行等离子化(也包括激活、离子化和激化),然后喷出处理气。等离子处理装置包括:喷嘴头,包括一对平行设置的电极和支撑电极的支架,每个电极具有第一和第二侧边,电场被施加在电极对之间,第一侧边之间的开口用作处理气接收孔,第二侧边之间的开口用作处理气吹气孔;所述电极为沿第一侧边和第二侧边伸长的长条电极,喷嘴头进一步包括防变形设备,防变形设备防止成对的电极在所述电极平行布置的方向上变形;而且防变形设备包括靠近变形阻止器,靠近变形阻止器防止电极中的一个电极变形而靠近另一电极。可以防止电极之间的间距变得不均匀,等离子流可以沿着电极纵向均匀吹出,最后可以执行均匀表面处理。

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