公开(公告)号：CN101405845B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200780010345.3

申请日：2007-03-23

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 日野守 ,  今井克广 ,  竹内裕人 ,  中森勇一 ,  高桥英则 ,  屋代进

IPC: H01L21/3065 ,  C23C16/455 ,  B01J19/08 ,  H05H1/24

CPC classification number: H01J37/32825 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3277 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412

Abstract: 本发明在被处理物为大型的情况下，也能够以简单的结构进行表面处理。用第一单元11L和第二单元11R构成表面处理装置1的处理头10。在这些单元11中，用于喷出处理气体的喷出口34沿第一方向延伸。第一方向与使被处理物移动的第二方向正交。两个单元11配置为相互在第一方向错开，且在第二方向错开。两个单元11的喷出口34之间在从第二方向观察的情况下重叠。

公开(公告)号：CN102165098B

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN200980138209.1

申请日：2009-09-15

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 屋代进

IPC: C23C16/455 ,  B08B7/00 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  H05H1/24

CPC classification number: H01J37/32449 ,  C23C16/45563 ,  H01J37/3244 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412

Abstract: 本发明提供一种表面处理用喷嘴装置，其可以防止处理气体自表面处理用喷嘴装置泄漏。在喷嘴装置(3)的板状的供给槽形成部件(11)的主面(11f)形成处理气体供给槽(40)，利用覆盖部件(12)覆盖主面(11f)，并将处理气体的供给机构(4)与处理气体供给槽(40)连接。使开口槽部(42)在与供给槽形成部件(11)的主面(11f)交叉的前端面开口。而且，在主面(11f)或覆盖部件(12)的覆盖面(12r)的、位于处理气体供给槽(40)外侧的部分，形成外侧槽(80)，将外侧槽(80)与气体吸引机构(5)连接。

公开(公告)号：CN103098183A

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN201180020022.9

申请日：2011-03-24

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 真弓聪 ,  屋代进

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32532

Abstract: 在等离子处理装置中，防止排列的3个以上的电极中的内侧电极的下端部被因潜流放电引起的腐蚀性成分腐蚀。排列3个以上的板状的电极(21)。用由板状的固体电介质构成的电介质部件(30)来覆盖各电极(21)的放电生成面(27)。从设置于电极(21)的侧部的清洗喷嘴(70)喷出清洗气体。清洗气体沿着内侧的电极(21B、21C、21D)的下端面而流动。

公开(公告)号：CN102165098A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200980138209.1

申请日：2009-09-15

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 屋代进

IPC: C23C16/455 ,  B08B7/00 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  H05H1/24

CPC classification number: H01J37/32449 ,  C23C16/45563 ,  H01J37/3244 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412

Abstract: 本发明提供一种表面处理用喷嘴装置，其可以防止处理气体自表面处理用喷嘴装置泄漏。在喷嘴装置(3)的板状的供给槽形成部件(11)的主面(11f)形成处理气体供给槽(40)，利用覆盖部件(12)覆盖主面(11f)，并将处理气体的供给机构(4)与处理气体供给槽(40)连接。使开口槽部(42)在与供给槽形成部件(11)的主面(11f)交叉的前端面开口。而且，在主面(11f)或覆盖部件(12)的覆盖面(12r)的、位于处理气体供给槽(40)外侧的部分，形成外侧槽(80)，将外侧槽(80)与气体吸引机构(5)连接。

公开(公告)号：CN1754409B

公开(公告)日：2010-07-28

申请号：CN03801713.X

申请日：2003-08-28

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 真弓聪 ,  日野守 ,  屋代进 ,  清水治和

IPC: H05H1/24 ,  H01L21/3065 ,  C08J7/00

CPC classification number: H01J37/32009 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32752 ,  H05H1/48 ,  H05H2001/3478

Abstract: 一种等离子处理装置，用于对电场中的处理气进行等离子化(也包括激活、离子化和激化)，然后喷出处理气。等离子处理装置包括：喷嘴头，包括一对平行设置的电极和支撑电极的支架，每个电极具有第一和第二侧边，电场被施加在电极对之间，第一侧边之间的开口用作处理气接收孔，第二侧边之间的开口用作处理气吹气孔；所述电极为沿第一侧边和第二侧边伸长的长条电极，喷嘴头进一步包括防变形设备，防变形设备防止成对的电极在所述电极平行布置的方向上变形；而且防变形设备包括靠近变形阻止器，靠近变形阻止器防止电极中的一个电极变形而靠近另一电极。可以防止电极之间的间距变得不均匀，等离子流可以沿着电极纵向均匀吹出，最后可以执行均匀表面处理。

公开(公告)号：CN101405845A

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200780010345.3

申请日：2007-03-23

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 日野守 ,  今井克广 ,  竹内裕人 ,  中森勇一 ,  高桥英则 ,  屋代进

IPC: H01L21/3065 ,  C23C16/455 ,  B01J19/08 ,  H05H1/24

CPC classification number: H01J37/32825 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3277 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412

Abstract: 本发明在被处理物为大型的情况下，也能够以简单的结构进行表面处理。用第一单元11L和第二单元11R构成表面处理装置1的处理头10。在这些单元11中，用于喷出处理气体的喷出口34沿第一方向延伸。第一方向与使被处理物移动的第二方向正交。两个单元11配置为相互在第一方向错开，且在第二方向错开。两个单元11的喷出口34之间在从第二方向观察的情况下重叠。

公开(公告)号：CN1754409A

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN03801713.X

申请日：2003-08-28

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 真弓聪 ,  日野守 ,  屋代进 ,  清水治和

IPC: H05H1/24 ,  H01L21/3065 ,  C08J7/00

CPC classification number: H01J37/32009 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32752 ,  H05H1/48 ,  H05H2001/3478

Abstract: 等离子处理装置M1装有用于支撑一对长条电极(30)的处理部分(20)。处理部分(20)设有多个拉动螺栓(52)(用于阻止靠近变形的装置)，在电极(30)纵向上相互隔开地排列螺栓(52)。拉动螺栓(52)的头部通过螺栓支架(53)钩住刚性板(33)，而螺栓(52)的腿部拧入电极(30)。由此，可以防止这种电极由于库仑力而变形。