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公开(公告)号：CN106354353A
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201610846762.2
申请日：2016-09-23
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G06F3/0412 , G06F3/044 , G06F2203/04112
Abstract: 本发明公开了一种触控导电膜，包括基板和形成在所述基板上的导电网格，所述基板的可视区和非可视区的导电网格为一体成型结构。本发明还公开了应用所述触控导电膜的触控模组和显示装置。本发明的触控导电膜具有结构简单、制造方便、成本较低的优点，而且也提升了稳定性，对应降低了制造成本和组装成本。
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公开(公告)号：CN103699281A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201310672795.6
申请日：2013-12-12
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G06F3/044
Abstract: 一种电容式触控屏组件，包括触控屏本体、控制模块、连接模块、用于固定所述触控屏本体的盖板以及设置于所述触控屏本体之上的外挂模块，所述控制模块一端电连接所述触控屏本体，另一端电连接所述连接模块，所述连接模块又电连接一显示器，所述触控屏本体包括依次层叠的面板层、粘合层以及薄膜层，所述薄膜层设置有金属导电材料排布的金属网格，所述电容式触控屏组件通过所述外挂模块以贴合或者机械卡位的方式外置与显示屏面板之上。与现有技术相比，本发明将电容式触控屏外置于显示屏之上，牢固稳定，结构简单，可以通过有线或者无线连接，即插即用，方便快捷，可低成本的将普通显示器升级为触控功能显示屏。
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公开(公告)号：CN108728790A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201710263831.1
申请日：2017-04-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种AMOLED用金属掩膜板的制造方法，包括步骤：选取导电基板；在导电基板的表面涂布一层光刻胶；使光刻胶光刻出与金属掩膜板的蒸镀孔相对应的光刻胶图形，但光刻出的光刻胶图形的尺寸大于金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸；在带有光刻胶图形的导电基板上进行电铸过生长，使金属材料的生长厚度大于光刻胶图形的厚度，金属材料同时将光刻胶图形的四周边缘覆盖，直至光刻胶图形未被金属材料覆盖的开口区域的尺寸与金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸一致；去除导电基板上残留的光刻胶。上述金属掩膜板的制造方法只需要一次图形光刻和电铸工艺便可加工成型，工艺简单，成本低廉，而且是通过在带有光刻胶图形的导电基板上电铸过生长出金属掩膜板，因此精度更高。
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公开(公告)号：CN103744571A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201410037667.9
申请日：2014-01-26
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G06F3/044
Abstract: 本发明公开了一种超薄触控传感器及其制作方法，其中超薄触控传感器包括：依次层叠排布的基材层、接收电路层、发射电路层和保护层，所述接收电路层和发射电路层位于所述基材层的同侧；所述发射电路层和接收电路层包括：多个导电网格、以及压印层，所述多个导电网格嵌合于所述压印层中，所述导电网格包括至少三条顺次连接的网格线，所述网格线的宽度大于或等于1μm，所述网格线的高度与宽度之比的范围为1:0.5～1:2。本发明的超薄触控传感器的发射电路层和接收电路层设置于基材层的同侧，且发射电路层和接收电路层都由金属导电材料制成，减小了超薄触控传感器的厚度，具有环保、低成本、高灵敏度的优势。
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公开(公告)号：CN206209681U
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201621076663.2
申请日：2016-09-23
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本实用新型公开了一种触控导电膜，包括基板和形成在所述基板上的导电网格，所述基板的可视区和非可视区的导电网格为一体成型结构。本实用新型还公开了应用所述触控导电膜的触控模组和显示装置。本实用新型的触控导电膜具有结构简单、制造方便、成本较低的优点，而且也提升了稳定性，对应降低了制造成本和组装成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114815489A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202110062212.2
申请日：2021-01-18
Applicant: 维业达科技(江苏)有限公司 , 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G03B21/602 , G03B21/60 , G02B3/08 , G02B27/00 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种投影幕布。所述投影幕布至少包括着色层、扩散层、菲涅尔透镜层中的一层、以及反射层；其中，菲涅尔透镜层为球面菲涅尔透镜层或非球面菲涅尔透镜层，菲涅尔透镜层包括沿着一平面突起的若干环状凸起，所述若干环状凸起以环带排列，且沿着垂直于所述平面的截面，每个环状凸起的截面形状为三角形或多台阶形或自由面形，每个截面形状平行于所述平面的边宽度渐变，截面形状及其宽度的渐变，决定球面菲涅尔透镜层或非球面菲涅尔透镜层的聚光特性；每个环状凸起表面具有散点微结构，反射层为金属层或金属合金层，且其采用电镀、蒸镀、溅射或涂布工艺制备。本发明提供的投影幕布表现出比现有投影幕布具有更高的亮度、以及更大的视角。
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公开(公告)号：CN113752148A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202010485965.X
申请日：2020-06-01
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 维业达科技(江苏)有限公司
Abstract: 本发明提供一种薄膜处理系统和方法，所述薄膜处理系统包括：一种薄膜处理系统，其包括：第一抛光装置，被配置的对薄膜带的第一表面进行抛光，其包括至少一个抛光组件；第二抛光装置，被配置的对薄膜带的第二表面进行抛光，其包括至少一个抛光组件，其中所述抛光组件包括从动辊和抛光单元，所述薄膜带从从动辊和抛光单元之间的穿过，所述抛光单元用于对接触到的薄膜带的表面进行抛光。这样可以在一个处理流程中，实现对所述薄膜带的双面进行抛光处理，无需中断，生产效率高。
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公开(公告)号：CN112635123A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201910907779.8
申请日：2019-09-24
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种导电膜的制作方法，包括：在衬底上涂布一层固化胶；提供一具有凸起的模具；将种子层液体转移到凸起上；利用模具压印固化胶；固化，形成图形凹槽，以及在图形凹槽底部的下方形成种子层；脱模；在图形凹槽内制备导电层。本发明还公开了一种导电膜，包括衬底、设置在衬底表面具有图形凹槽的固化胶层，以及种子层和导电层，导电层设置在图形凹槽内，种子层设置在图形凹槽底部的下方，种子层在固化胶层形成前设置在图形凹槽底部的下方。通过将种子层液体转移到凸起上，在固化胶层上形成图形凹槽，以及在图形凹槽底部下方形成种子层，从而使得在图形凹槽内制备的导电层相对于刮涂制备的导电层电阻更低，进而使得导电膜的导电性能更佳。
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公开(公告)号：CN112449566A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN201910835890.0
申请日：2019-09-05
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种屏蔽膜，包括由微电铸制备形成包括多条金属线的屏蔽区，以及由微电铸制备形成、连接于所述屏蔽区至少一侧、用以降低所述屏蔽区整体的厚度差异的缓冲区。本发明还公开了一种屏蔽膜的制作方法，该方法包括：提供具有屏蔽区图形凹槽以及与屏蔽区图形凹槽连接的缓冲区图形凹槽的固化胶层；在屏蔽区图形凹槽和缓冲区图形凹槽内采用微电铸制备屏蔽区以及与屏蔽区连接的缓冲区；将连接在一起的屏蔽区和缓冲区与固化胶层分离，获得屏蔽膜。通过微电铸制备屏蔽区以及在屏蔽区至少一侧制备缓冲区，使得屏蔽区的整体的厚度差异较小，从而使屏蔽区的厚度比较均匀，进而增强了屏蔽膜的电磁屏蔽效果。
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公开(公告)号：CN109725753A
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201711063099.X
申请日：2017-10-27
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种透明导电膜及显示装置，包括位于不同层的第一触控感应区域和第二触控感应区域，第一触控感应区域包括多个第一导电单元，第二触控感应区域包括多个第二导电单元，所述多个第一导电单元和所述多个第二导电单元分别对应设置，所述第一导电单元的第一侧边与所述第二导电的第二侧边分别与同一参照线之间的两个夹角相异。该透明导电膜及显示装置通过在第一触控感应区域和第二触控感应区域上设置与同一参照线之间具有不同夹角的若干第一导电单元和第二导电单元，以避免贴合后的透明导电膜产生碎花纹或者明显的线条，有效地避免第一导电单元和第二导电单元与液晶显示器中的矩形像素单元的周期叠加，从而防止莫尔条纹的产生，提升其视觉效果。
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