公开(公告)号：CN106098521A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201610270946.9

申请日：2016-04-27

Applicant: 英飞凌科技股份有限公司

Inventor： E·韦尔特斯彻 ,  P·祖潘 ,  W·舒斯特德 ,  M·杰里纳克 ,  R·埃伯维恩 ,  F·科勒纳

IPC: H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3171 ,  C23C14/48 ,  H01J37/08 ,  H01J2237/081 ,  H01J2237/0822 ,  H01J37/317

Abstract: 本公开涉及用于金属注入的离子源及其方法，具体地，用于注入机的离子源包括设置在离子源室中的第一固态源电极。第一固态源电极包括耦合至第一负电位节点的源材料。第二固态源电极设置在离子源室中。第二固态源电极包括耦合至第二负电位节点的源材料，并且第一固态源电极和第二固态源电极被配置为产生通过注入机注入的离子。