公开(公告)号：CN102234791A

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：CN201010172618.8

申请日：2010-05-05

Applicant: 财团法人工业技术研究院

Inventor： 刘俊岑 ,  潘彦妤 ,  黄智勇 ,  简荣祯 ,  罗顺远

IPC: C23C16/455

Abstract: 本发明公开了一种气体分布喷洒模块与镀膜设备，其中的气体分布喷洒模块包括第一、第二、第三与第四扩散板。其中，第二扩散板位于第一扩散板底下、第三扩散板位于第二扩散板底下以及第四扩散板位于第三扩散板底下并与第三扩散板相隔一间距。所述第三扩散板分为面积比为1∶1至1∶5的一内部区域与一外部区域，且第三扩散板具有多个气孔分布于内部区域与外部区域，其中内部区域内与外部区域内的气孔的面积比为1∶1至1∶5。本发明的气体分布喷洒模块以及镀膜设备，能使气体充分的混合，并解决气体喷洒到基板的不均匀性。而且，本发明的气体分布喷洒模块不但易于组装，其加工制造成本也低，连带具有维修保养简单容易的效果。

公开(公告)号：CN102234791B

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：CN201010172618.8

申请日：2010-05-05

Applicant: 财团法人工业技术研究院

Inventor： 刘俊岑 ,  潘彦妤 ,  黄智勇 ,  简荣祯 ,  罗顺远

IPC: C23C16/455

Abstract: 本发明公开了一种气体分布喷洒模块与镀膜设备，其中的气体分布喷洒模块包括第一、第二、第三与第四扩散板。其中，第二扩散板位于第一扩散板底下、第三扩散板位于第二扩散板底下以及第四扩散板位于第三扩散板底下并与第三扩散板相隔一间距。所述第三扩散板分为面积比为1∶1至1∶5的一内部区域与一外部区域，且第三扩散板具有多个气孔分布于内部区域与外部区域，其中内部区域内与外部区域内的气孔的面积比为1∶1至1∶5。本发明的气体分布喷洒模块以及镀膜设备，能使气体充分的混合，并解决气体喷洒到基板的不均匀性。而且，本发明的气体分布喷洒模块不但易于组装，其加工制造成本也低，连带具有维修保养简单容易的效果。

公开(公告)号：CN102094186B

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：CN200910254036.1

申请日：2009-12-15

Applicant: 财团法人工业技术研究院

Inventor： 孙湘平 ,  陈友凡 ,  罗顺远 ,  洪凯祥 ,  吴兴华

IPC: C23C16/455

Abstract: 本发明涉及一种气体供应设备，是用于导引气体至电浆辅助化学气相沉积系统的一工艺腔体。这样的气体供应设备至少包括从工艺腔体的外部进入其内的一进气管、一工艺气体管、一清洁气体管、一远程电浆源以及一调变阀。所述远程电浆源连接一清洁气体源，而清洁气体管则连接进气管与远程电浆源，用以将一清洁气体自远程电浆源输入进气管。至于工艺气体管是连接上述进气管与一工艺气体源，用以将一工艺气体输入进气管。而调变阀是设置于进气管中，用来关闭上述清洁气体管与上述进气管之间的通路，以避免工艺气体导向上述工艺腔体期间进入清洁气体管。

公开(公告)号：CN102094186A

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200910254036.1

申请日：2009-12-15

Applicant: 财团法人工业技术研究院

Inventor： 孙湘平 ,  陈友凡 ,  罗顺远 ,  洪凯祥 ,  吴兴华

IPC: C23C16/455

Abstract: 本发明涉及一种气体供应设备，是用于导引气体至电浆辅助化学气相沉积系统的一工艺腔体。这样的气体供应设备至少包括从工艺腔体的外部进入其内的一进气管、一工艺气体管、一清洁气体管、一远程电浆源以及一调变阀。所述远程电浆源连接一清洁气体源，而清洁气体管则连接进气管与远程电浆源，用以将一清洁气体自远程电浆源输入进气管。至于工艺气体管是连接上述进气管与一工艺气体源，用以将一工艺气体输入进气管。而调变阀是设置于进气管中，用来关闭上述清洁气体管与上述进气管之间的通路，以避免工艺气体导向上述工艺腔体期间进入清洁气体管。