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公开(公告)号：CN112781828B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202010032170.3
申请日：2020-01-13
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本发明公开一种流场可视化观测装置与流场可视化观测方法。该流场可视化观测装置包括腔体、电源供应器、至少一对电极以及至少一流场观测模块。所述流场观测模块包括高速摄像机、光检测组件以及滤光组件。电源供应器输出等离子体产生用的电压，所述对电极设置在腔体内。流场观测模块则设置在腔体外并朝腔体拍摄等离子体所激发的流体粒子图像。滤光组件设置在高速摄像机与述腔体之间。光检测组件取得腔体内的光信息，并传送至滤光组件。
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公开(公告)号：CN106591804A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201510793532.X
申请日：2015-11-18
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45504 , C23C16/45563
Abstract: 本发明公开一种气体分布装置，其包括一顶部以及一侧壁部。顶部提供一分流结构。分流结构将来自N个上游口的气流分支到M个下游口，N与M都为正整数，且M大于N。顶部包括一顶板，且下游口排列于顶板周边。侧壁部连接于顶板并由顶板的周缘凸伸出来。侧壁部具有多个连通道以及多个排出口，其中连通道将下游口连通至排出口，且排出口于侧壁部内侧沿一环型轨迹排列。
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公开(公告)号：CN106140475A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201510207035.7
申请日：2015-04-28
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本发明公开一种静电式气体清净机，包含一主体、一电晕模块、一电极模块以及一风扇；在主体设有一气流通道，电晕模块、电极模块与风扇都设置于气流通道；电晕模块用以产生具有第一电性的尖端放电；由风扇将气体抽入气流通道，当气体通过电晕模块时，气体中的微粒会被电晕模块的电场充电，而后于气体通过电极模块时，气体中的微粒会被电极模块捕捉。
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公开(公告)号：CN104775105A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201410104272.6
申请日：2014-03-20
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45565
Abstract: 本发明公开一种喷洒头装置，其包括一多孔板体，其具有一第一流道以及多个第二流道。第一流道沿着多孔板体蜿蜒分布以供一第一流体流通。第二流道分别贯穿多孔板体并且交错于第一流道中以供一第二流体流通，其中第一流道与第二流道互不连通，且第一流体接触各第二流道的侧壁。
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公开(公告)号：CN103805964A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201210534969.8
申请日：2012-12-12
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45565 , C23C16/45519
Abstract: 本发明公开了一种能产生气幕的气体喷洒装置，包括一第一喷洒单元以及一第二喷洒单元。该第一喷洒单元提供喷洒一反应气体以形成一工艺气体区。该第二喷洒单元环设于该第一喷洒单元周围，该第二喷洒单元具有一缓冲气供应腔与一板体。该缓冲气供应腔提供一缓冲气体。该板体环设于该第一喷洒单元周围，且具有多个通孔，以提供该缓冲气体通过产生包围在该反应气体外围的一气幕。利用该能产生气幕的气体喷洒装置，在另一实施例中，本发明还提供一种薄膜沉积装置，通过该气幕避免真空负压对反应气体直接影响，以延长反应气体滞留时间，而提高气体使用率与镀膜效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102234791B
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201010172618.8
申请日：2010-05-05
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种气体分布喷洒模块与镀膜设备，其中的气体分布喷洒模块包括第一、第二、第三与第四扩散板。其中，第二扩散板位于第一扩散板底下、第三扩散板位于第二扩散板底下以及第四扩散板位于第三扩散板底下并与第三扩散板相隔一间距。所述第三扩散板分为面积比为1∶1至1∶5的一内部区域与一外部区域，且第三扩散板具有多个气孔分布于内部区域与外部区域，其中内部区域内与外部区域内的气孔的面积比为1∶1至1∶5。本发明的气体分布喷洒模块以及镀膜设备，能使气体充分的混合，并解决气体喷洒到基板的不均匀性。而且，本发明的气体分布喷洒模块不但易于组装，其加工制造成本也低，连带具有维修保养简单容易的效果。
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公开(公告)号：CN102685958A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201110123834.8
申请日：2011-05-13
Applicant: 财团法人工业技术研究院
CPC classification number: H01L51/5287 , H05B33/12
Abstract: 本发明公开一种有机发光装置及其形成方法。该有机发光装置包括：一不可挠管，包括一外表面及一内表面；一透光导电层，位于该不可挠管之中的该内表面之上；一有机发光层，位于该不可挠管之中，且位于该透光导电层之上；以及一导电层，位于该不可挠管之中，且位于该有机发光层之上。
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公开(公告)号：CN101748384B
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN200810178956.5
申请日：2008-12-03
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/44 , C23C16/455
Abstract: 一种气体喷洒模块，用于设有进气管道的气相沉积腔，包含：至少一气体分布块，该气体分布块是沿第一轴向设有至少一扩散室，且该气体分布块设有分别连接进气管道与扩散室的多个进气孔；以及一气体喷洒块，该气体喷洒块之中沿第二轴向设有至少一喷洒管道，且该气体喷洒块设有用于连接扩散室与喷洒管道的气体流入通道，以及用于连接喷洒管道与气相沉积腔的气体流出通道；其中，该气体分布块与气体喷洒块彼此结合，使得扩散室由气体流入通道与喷洒管道相连通，且该第一轴向与第二轴向彼此间不平行。
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公开(公告)号：CN114381716A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202110022234.6
申请日：2021-01-08
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开一种镀膜设备，其包括腔体、进气装置、气环、载盘以及挡环。腔体具有镀膜区与非镀膜区。进气装置连通于腔体，其中进气装置对应于镀膜区设置，且用以将制作工艺气体引入镀膜区。气环设置于腔体内，其中气环环绕进气装置，且用以在镀膜区内形成环形气幕。载盘设置于镀膜区内，其中气环位于进气装置与载盘之间，且载盘用以承载待镀物。待镀物被环形气幕围绕。挡环设置于腔体内，且环绕载盘。挡环位于气环与载盘之间，且沿着镀膜区与非镀膜区的交界处设置。挡环具有多个穿孔。
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公开(公告)号：CN103046019A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210142615.9
申请日：2012-05-09
Applicant: 财团法人工业技术研究院
CPC classification number: C23C16/4581
Abstract: 一种有机金属化学汽相沉积的方法与装置。在有机金属化学汽相沉积的方法中，先提供基板，于此基板的第一表面具有金属基材料层；再将基板放置于腔体内的基座上，且金属基材料层介于基板与基座之间，并对在第一表面的相对侧的第二表面进行有机金属化学汽相沉积制程，其中金属基材料层的热传导系数(thermal conductivity)与基板的热传导系数的差值须在1W/m·°C~20W/m·°C之间，金属基材料层的热膨胀系数(thermal expansion)与基板的热膨胀系数须在同一数量级(order)。
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