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公开(公告)号:CN106170579A
公开(公告)日:2016-11-30
申请号:CN201380045025.7
申请日:2013-07-29
Applicant: 通用电气公司
Inventor: S.西瓦拉马克里什南 , J.A.鲁德 , C.A.约翰逊 , L.S.罗森斯维希
Abstract: 公开了一种物品和形成该物品的方法。该物品包括基底、沉积在该基底上方的覆盖粘合涂层、和沉积在该粘合涂层上方的顶涂层。该物品的粘合涂层包括接近粘合涂层与顶涂层之间的界面的等离子影响区域,并且该等离子影响区域包括伸长粒间相。沉积的方法包括调整等离子喷涂条件,以便形成接近粘合涂层与顶涂层之间的界面的等离子影响区域,和等离子影响区域中的伸长粒间相。
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公开(公告)号:CN103850729A
公开(公告)日:2014-06-11
申请号:CN201310447585.7
申请日:2013-09-27
Applicant: 通用电气公司
IPC: F01D25/06
CPC classification number: F01D5/22 , F01D5/284 , F01D5/3007 , F01D5/3084 , F01D11/008 , F01D25/06 , F05D2250/11 , F05D2250/132 , F05D2250/241 , F05D2260/96 , F05D2300/20 , F05D2300/2112 , F05D2300/2114 , F05D2300/2118 , F05D2300/2261 , F05D2300/2283 , F05D2300/6033
Abstract: 本发明涉及一种用于阻尼涡轮中的振动的系统,该系统包括第一旋转叶片,第一旋转叶片具有第一陶瓷翼型件、连接于第一陶瓷翼型件的第一陶瓷平台、和连接于第一陶瓷平台的第一根部。与第一旋转叶片相邻的第二旋转叶片包括第二陶瓷翼型件、连接于第二陶瓷翼型件的第二陶瓷平台、和连接于第二陶瓷平台的第二根部。非金属平台阻尼器具有同时与第一陶瓷平台和第二陶瓷平台接触的第一位置。
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公开(公告)号:CN106170579B
公开(公告)日:2019-11-22
申请号:CN201380045025.7
申请日:2013-07-29
Applicant: 通用电气公司
Inventor: S.西瓦拉马克里什南 , J.A.鲁德 , C.A.约翰逊 , L.S.罗森斯维希
Abstract: 公开了一种物品和形成该物品的方法。该物品包括基底、沉积在该基底上方的覆盖粘合涂层、和沉积在该粘合涂层上方的顶涂层。该物品的粘合涂层包括接近粘合涂层与顶涂层之间的界面的等离子影响区域,并且该等离子影响区域包括伸长粒间相。沉积的方法包括调整等离子喷涂条件,以便形成接近粘合涂层与顶涂层之间的界面的等离子影响区域,和等离子影响区域中的伸长粒间相。
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公开(公告)号:CN103850729B
公开(公告)日:2017-07-04
申请号:CN201310447585.7
申请日:2013-09-27
Applicant: 通用电气公司
IPC: F01D25/06
CPC classification number: F01D5/22 , F01D5/284 , F01D5/3007 , F01D5/3084 , F01D11/008 , F01D25/06 , F05D2250/11 , F05D2250/132 , F05D2250/241 , F05D2260/96 , F05D2300/20 , F05D2300/2112 , F05D2300/2114 , F05D2300/2118 , F05D2300/2261 , F05D2300/2283 , F05D2300/6033
Abstract: 本发明涉及一种用于阻尼涡轮中的振动的系统,该系统包括第一旋转叶片,第一旋转叶片具有第一陶瓷翼型件、连接于第一陶瓷翼型件的第一陶瓷平台、和连接于第一陶瓷平台的第一根部。与第一旋转叶片相邻的第二旋转叶片包括第二陶瓷翼型件、连接于第二陶瓷翼型件的第二陶瓷平台、和连接于第二陶瓷平台的第二根部。非金属平台阻尼器具有同时与第一陶瓷平台和第二陶瓷平台接触的第一位置。
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公开(公告)号:CN104838039B
公开(公告)日:2018-03-30
申请号:CN201380064866.2
申请日:2013-11-13
Applicant: 通用电气公司
IPC: C23C28/04
CPC classification number: C09D5/00 , C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/89 , C23C28/042 , F01D5/288 , Y10T428/24612 , C04B35/565 , C04B35/806 , C04B35/584 , C04B35/58085 , C04B41/5096 , C04B41/4558 , C04B41/5035 , C04B41/5022 , C04B41/522 , C04B41/5037 , C04B41/5024 , C04B41/5045
Abstract: 一种制品,所述制品包括含硅区域,所述含硅区域包括其表面上的表面特征。所述表面特征包括凹部、突起或者它们的组合。至少一个外层覆盖在所述含硅区域的所述表面上。成分层提供在所述含硅区域的所述表面上以及所述含硅区域与所述至少一个外层之间并且与这二者接触。成分层由所述含硅区域的成分形成并且在所述制品的运行环境中易于蠕变。所述表面特征通过所述成分层将所述至少一个外层与所述含硅区域物理互锁。
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公开(公告)号:CN106045575A
公开(公告)日:2016-10-26
申请号:CN201510966228.0
申请日:2015-12-22
Applicant: 通用电气公司
IPC: C04B41/89
CPC classification number: F01D5/288 , C04B35/50 , C04B35/62222 , C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/89 , C04B2235/3427 , C04B2235/3481 , C04B2235/428 , F01D11/12 , F05D2230/31 , F05D2240/11 , F05D2250/21 , F05D2250/294 , F05D2300/6033 , Y02T50/672 , Y02T50/6765 , C04B35/565 , C04B35/806 , C04B35/584 , C04B41/5096 , C04B41/5071 , C04B41/522 , C04B41/5024 , C04B2103/0021 , C04B2103/001 , C04B41/524 , C04B41/526 , C04B41/5042
Abstract: 制品包括基材、布置在所述基材上的粘合涂层、布置在所述粘合涂层上的环境阻挡涂层和布置在第二顶涂层上的图案化可磨耗涂层。所述环境阻挡涂层包括布置在所述粘合涂层上的中间层、布置在所述中间层上的密封层、布置在所述密封层上的第一顶涂层和布置在所述第一顶涂层上的第二顶涂层。所述第一顶涂层与所述第二顶涂层不同。
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公开(公告)号:CN105683132A
公开(公告)日:2016-06-15
申请号:CN201480059905.4
申请日:2014-08-19
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/89 , F01D5/288 , F05D2250/181 , Y10T428/24537 , C04B35/565 , C04B35/806 , C04B41/5096 , C04B41/5059 , C04B41/522 , C04B41/0072 , C04B41/4556 , C04B41/5035 , C04B41/4558 , C04B41/5024 , C04B41/5037 , C04B41/5029
Abstract: 一种制品包括:含硅区域;上覆含硅区域的表面的至少一个外层;以及在含硅区域的表面上且在含硅区域和至少一个外层之间且接触它们的组分层,组分层由含硅区域的组分形成,且易于在制品的操作环境内蠕变,其中含硅区域限定多个通道和多个凸脊,多个凸脊在形成于含硅区域中的多个通道内联锁,以使至少一个外层与含硅区域经由组分层物理地联锁。
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公开(公告)号:CN104838039A
公开(公告)日:2015-08-12
申请号:CN201380064866.2
申请日:2013-11-13
Applicant: 通用电气公司
IPC: C23C28/04
CPC classification number: C09D5/00 , C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/89 , C23C28/042 , F01D5/288 , Y10T428/24612 , C04B35/565 , C04B35/806 , C04B35/584 , C04B35/58085 , C04B41/5096 , C04B41/4558 , C04B41/5035 , C04B41/5022 , C04B41/522 , C04B41/5037 , C04B41/5024 , C04B41/5045
Abstract: 一种制品,所述制品包括含硅区域,所述含硅区域包括其表面上的表面特征。所述表面特征包括凹部、突起或者它们的组合。至少一个外层覆盖在所述含硅区域的所述表面上。成分层提供在所述含硅区域的所述表面上以及所述含硅区域与所述至少一个外层之间并且与这二者接触。成分层由所述含硅区域的成分形成并且在所述制品的运行环境中易于蠕变。所述表面特征通过所述成分层将所述至少一个外层与所述含硅区域物理互锁。
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