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公开(公告)号：CN100451761C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200410085115.1
申请日：2004-09-24
Applicant: 通用电气公司
IPC: G02F1/1335 , G02B1/10
CPC classification number: G02B6/0053 , G02B5/021 , G02B5/0236 , G02B5/045 , Y10T428/24479
Abstract: 一种光学器件，其包括具有附加功能的多个基片。这些基片通过集成在基片表面上的结构而相连。该连接结构还可用来在光学表面和其它系统元件之间提供间隔。
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公开(公告)号：CN102892920B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201180017239.4
申请日：2011-02-23
Applicant: 通用电气公司
IPC: C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/04 , C23C26/00
CPC classification number: C23C16/403 , C23C16/045 , C23C16/402 , C23C16/45525 , C23C26/00
Abstract: 本发明提供了一种处理多层膜的方法。所述方法包括提供具有基底膜第一表面和基底膜第二表面的基底膜。所述方法还包括提供邻近基底膜第二表面的阻挡层。所述阻挡层具有至少一个能让基底膜和阻挡层外表面之间流体连接的开口。进一步，所述方法包括使基底膜第一表面与第一反应物接触，以及最终使阻挡层外表面与第二反应物接触，所述第二反应物与第一反应物可反应。使基底膜第一表面接触第一反应物和使阻挡层外表面接触第二反应物的方法在所述第一反应物和第二反应物之间的反应形成反应层的条件下进行。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102892920A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201180017239.4
申请日：2011-02-23
Applicant: 通用电气公司
IPC: C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/04 , C23C26/00
CPC classification number: C23C16/403 , C23C16/045 , C23C16/402 , C23C16/45525 , C23C26/00
Abstract: 本发明提供了一种处理多层膜的方法。所述方法包括提供具有基底膜第一表面和基底膜第二表面的基底膜。所述方法还包括提供邻近基底膜第二表面的阻挡层。所述阻挡层具有至少一个能让基底膜和阻挡层外表面之间流体连接的开口。进一步，所述方法包括使基底膜第一表面与第一反应物接触，以及最终使阻挡层外表面与第二反应物接触，所述第二反应物与第一反应物可反应。使基底膜第一表面接触第一反应物和使阻挡层外表面接触第二反应物的方法在所述第一反应物和第二反应物之间的反应形成反应层的条件下进行。
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公开(公告)号：CN1601346A
公开(公告)日：2005-03-30
申请号：CN200410085115.1
申请日：2004-09-24
Applicant: 通用电气公司
IPC: G02F1/1335 , G02B1/10
CPC classification number: G02B6/0053 , G02B5/021 , G02B5/0236 , G02B5/045 , Y10T428/24479
Abstract: 一种光学器件，其包括具有附加功能的多个基片。这些基片通过集成在基片表面上的结构而相连。该连接结构还可用来在光学表面和其它系统元件之间提供间隔。
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公开(公告)号：CN1618876A
公开(公告)日：2005-05-25
申请号：CN200410078769.1
申请日：2004-09-17
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: G02B6/0053 , G02B1/041 , G02B6/0065 , Y10T428/31507 , C08L69/00
Abstract: 公开了从溴化聚碳酸酯材料制备的光学物品，包括光管理薄膜。该溴化聚碳酸酯提供一种显示出良好光透射率、高折射指数、和良好机械性能的薄膜。
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公开(公告)号：CN100378169C
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200410078769.1
申请日：2004-09-17
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: G02B6/0053 , G02B1/041 , G02B6/0065 , Y10T428/31507 , C08L69/00
Abstract: 公开了从溴化聚碳酸酯材料制备的光学物品，包括光管理薄膜。该溴化聚碳酸酯提供一种显示出良好光透射率、高折射指数和良好机械性能的薄膜。
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公开(公告)号：CN1489520A
公开(公告)日：2004-04-14
申请号：CN01822674.4
申请日：2001-11-13
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: B32B15/013 , B29C43/222 , B29C43/24 , B29C47/00 , B29C47/0021 , B29K2995/0032 , Y10T428/24355
Abstract: 一种利用连续挤压工艺制造适用于光学介质应用的低双折射、低应力并且具有至少一个抛光表面的热塑性膜(21)、以及适用于非光学应用的低应力膜的装置。该装置由压延辊组(14，16)中的新颖压延辊(14)组成，其中至少一个辊(14)由钢内壳(30)、所述钢内壳(30)上的弹性覆层(28)和至少两层(36，34，32)的多层金属辊套外覆层(26)构成。金属辊套优选由三层(36，34，32)构成。多层外辊套(26)的内层(36)优选是镍，中间层(34)优选是铜并且外层(32)是具有高抛光表面的铬。由该工艺得到的膜具有小于约100nm的延迟值(双折射乘以厚度)和小于约4微英寸的表面粗糙度。该工艺是用于制造所述膜或片的连续挤压工艺并且不需要任何进一步的精加工操作。
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