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公开(公告)号:CN101582365A
公开(公告)日:2009-11-18
申请号:CN200910141789.1
申请日:2009-05-15
Applicant: 通用电气公司
IPC: H01J35/08
CPC classification number: H01J35/105 , H01J2235/081 , H01J2235/086 , H01J2235/1204 , H01J2235/1229 , H01J2235/1291
Abstract: 本发明提供一种用于增加X射线管中的辐射传热的装置及其制造方法。一种用于产生X射线(14)的靶组件(56),包括靶基体(57)以及施加到靶基体(57)的一部分的辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98),辐射涂层(67,81,85,89,92,94,97,98)包含碳化物和碳氮化物中的一种或多种。
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公开(公告)号:CN102468103A
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN201010623657.5
申请日:2010-12-27
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: H01J35/101 , H01J35/105 , H01J2235/1066 , H01J2235/1208 , H01J2235/1295 , Y10T29/49826
Abstract: 本文所公开的实施例涉及通过在阳极(20)与阳极(20)所附连的旋转机构之间传递热量的对X射线管(10)中的部件的热调节。例如,在一个实施例中,提供一种X射线管(10)。X射线管(10)一般包括固定轴(64)、围绕固定轴(64)设置并且配置成经由旋转轴承(60)相对固定轴(64)旋转的旋转轴承套筒(62)以及围绕轴承套筒(62)设置并且配置成随轴承套筒(62)一起旋转的电子束靶(20)。电子束靶(20)永久接合到轴承套筒(62)。
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公开(公告)号:CN101290858A
公开(公告)日:2008-10-22
申请号:CN200810100339.3
申请日:2008-04-18
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: H01J35/10 , H01J2235/083
Abstract: 钎焊x射线管靶的发射层。一种用于产生x射线的靶,包括:包含至少一层靶材料的靶衬底(84)、包含至少一层轨迹材料的轨迹(86)、通过高能量电子撞击到设定的轨迹上而产生x射线的该轨迹、以及将靶衬底(84)附着到该轨迹的钎焊接头(88)。
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公开(公告)号:CN102468100B
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201110042753.5
申请日:2011-02-15
Applicant: 通用电气公司
IPC: H01J35/10
Abstract: 本实施例涉及X射线管、例如在CT成像中使用的X射线管的主动热控制。在一个实施例中,提供用于X射线管(64)的热控制的系统(60)。该系统(60)包括X射线管(64),其具有电子束靶(16)、旋转式支撑靶(16)的旋转轴承(90)和冷却剂流道(88),该冷却剂流道(88)的至少一部分设置在该旋转轴承(90)中央,并且该冷却剂流道(88)配置成接收冷却剂。该系统(60)还包括耦合于冷却剂流道(88)并且配置成使冷却剂通过冷却剂流道(88)循环的冷却剂循环系统(66),和耦合于该冷却剂循环系统(66)和旋转轴承(90)的控制电路(62),该控制电路(62)配置成通过调整经由冷却剂从X射线管(64)的热量提取并且通过调整旋转轴承(90)的转速来控制X射线管(64)的部件之间的热流。
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公开(公告)号:CN102468100A
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN201110042753.5
申请日:2011-02-15
Applicant: 通用电气公司
IPC: H01J35/10
Abstract: 本实施例涉及X射线管、例如在CT成像中使用的X射线管的主动热控制。在一个实施例中,提供用于X射线管(64)的热控制的系统(60)。该系统(60)包括X射线管(64),其具有电子束靶(16)、旋转式支撑靶(16)的旋转轴承(90)和冷却剂流道(88),该冷却剂流道(88)的至少一部分设置在该旋转轴承(90)中央,并且该冷却剂流道(88)配置成接收冷却剂。该系统(60)还包括耦合于冷却剂流道(88)并且配置成使冷却剂通过冷却剂流道(88)循环的冷却剂循环系统(66),和耦合于该冷却剂循环系统(66)和旋转轴承(90)的控制电路(62),该控制电路(62)配置成通过调整经由冷却剂从X射线管(64)的热量提取并且通过调整旋转轴承(90)的转速来控制X射线管(64)的部件之间的热流。
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